- 专利标题： 处理气体供给机构、供给方法及气体处理装置
- 专利标题（英）： Processing gas supplying mechanism, supplying method and gas processing unit
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申请号： CN200710154446.X申请日： 2007-09-12
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公开(公告)号： CN101159228A公开(公告)日： 2008-04-09
- 发明人: 佐藤亮 , 齐藤均
- 申请人： 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人： 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京纪凯知识产权代理有限公司
- 代理商 龙淳
- 优先权： 2006-270823 2006.10.02 JP
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00 ; H01L21/02 ; H01L21/205 ; H01L21/3065 ; H01L21/67 ; C23F4/00 ; C23C16/455 ; C30B25/14 ; H05H1/00 ; H01J37/32 ; F17D1/04
摘要：
本发明涉及处理气体供给机构、供给方法及气体处理装置，该处理气体供给机构能够在短时间内供给使处理容器内变成设定压力的量的处理气体。处理气体供给机构(3)包括：用于向作为收容基板(G)的处理容器的腔室(2)内供给作为处理气体的氦气的He气体供给源(30)；用于暂时贮存来自He气体供给源(30)的氦气的处理气体罐(33)；和将来自He气体供给源(30)的氦气供给处理气体罐(33)并将处理气体罐(33)内的氦气供给腔室(2)内的处理气体流通部件(35)，氦气经由处理气体流通部件(35)被从He气体供给源(30)暂时贮存在处理气体罐(33)中，并从处理气体罐(33)供给到腔室(2)内。
公开/授权文献
- CN101159228B 处理气体供给机构、供给方法及气体处理装置 公开/授权日：2012-09-05
IPC分类:
