发明公开
CN105133019A 多室砷化镓单晶生长炉及其生长方法
无效 - 驳回
- 专利标题: 多室砷化镓单晶生长炉及其生长方法
- 专利标题(英): Multi-chamber gallium arsenide single crystal growth furnace and method
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申请号: CN201510659806.6申请日: 2015-10-14
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公开(公告)号: CN105133019A公开(公告)日: 2015-12-09
- 发明人: 卢纪军 , 包文东 , 李苏滨 , 惠峰 , 李雪峰 , 柳廷龙 , 李武芳 , 周一 , 杨海超 , 候振海 , 朱大清 , 董汝昆 , 何永彬 , 田东 , 马会宇 , 肖祥江 , 杨小瑞 , 祝永成
- 申请人: 云南鑫耀半导体材料有限公司
- 申请人地址: 云南省昆明市高新技术开发区新城高新技术产业基地B-5-5地块
- 专利权人: 云南鑫耀半导体材料有限公司
- 当前专利权人: 云南鑫耀半导体材料有限公司
- 当前专利权人地址: 云南省昆明市高新技术开发区新城高新技术产业基地B-5-5地块
- 代理机构: 昆明祥和知识产权代理有限公司
- 代理商 施建辉
- 主分类号: C30B29/42
- IPC分类号: C30B29/42 ; C30B30/04 ; C30B11/00 ; C30B33/02
摘要:
一种多室砷化镓单晶生长炉及其生长方法,涉及砷化镓多晶,尤其是一种通过磁场诱导漩涡控制砷化镓单晶生长,提高砷化镓单晶生长效率的多室砷化镓单晶生长炉及其生长方法。本发明的多室砷化镓单晶生长炉及其生长方法,该生长方法利用多室砷化镓单晶生长炉进行合成,多室砷化镓单晶生长炉包括四个独立的炉室和与炉室配套的纵向磁场装置,炉室嵌套在纵向磁场装置中,四个炉室的纵向磁场装置通过导线连成一体,砷化镓多晶在生长过程中,通过磁场装置产生诱导漩涡,利用诱导漩涡控制单晶生长。本发明的多室砷化镓单晶生长炉及其生长方法,实现多炉室同步的单晶生长,提高了单晶生长效率;使新长晶体遗传了晶种的完美结构,提高晶体质量。
IPC分类: