利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明公开
CN106483772A 微影术系统及其使用方法 有权

微影术系统及其使用方法
摘要：
一种微影术系统及其使用方法，微影术系统包括一负载锁定腔室，此负载锁定腔室包括配置用以接收遮罩的开口；曝光模块，其配置用以经由使用遮罩，使半导体晶圆曝露于光源；及清洗模块，其嵌入在此微影术工具内，此清洗模块配置用以自遮罩清洗碳粒子。本发明内容可提供一种用于高级微影术技术中，保持遮罩干净且无缺陷的方法。此方法所形成的干净无缺陷遮罩，可提升微影术工艺的良率与精准度。
摘要（英）：

A lithography system includes a load lock chamber comprising an opening configured to receive a mask, an exposure module configured to expose a semiconductor wafer to a light source through use of the mask, and a cleaning module embedded inside the lithography tool, the cleaning module being configured to clean carbon particles from the mask.

公开/授权文献
0/0