基板处置装置和基板处置方法
摘要:
本发明涉及基板处置装置和基板处置方法。基板处置装置包括第一处理室,其构造为向在基板上执行曝光处理之后被运送到第一处理室中的基板供给显影液,第二处理室,其构造为通过超临界流体处置基板,进给机械手,其构造为将基板从第一处理室递送到第二处理室;以及控制器,其构造为控制进给机械手,使得在由第一处理室供给的显影液驻留在基板上的状态下,基板被传送到第二处理室。
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