发明公开
- 专利标题: 一种半导体器件及其制备方法
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申请号: CN202211436315.1申请日: 2022-11-16
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公开(公告)号: CN115763560A公开(公告)日: 2023-03-07
- 发明人: 陈财 , 台运涛 , 黄永 , 杨旭豪 , 王霄 , 邱慧嫣 , 王亦飞 , 解靖飞 , 陈兴 , 王东 , 吴勇
- 申请人: 西安电子科技大学芜湖研究院
- 申请人地址: 安徽省芜湖市弋江区高新技术产业开发区服务外包产业园7号楼
- 专利权人: 西安电子科技大学芜湖研究院
- 当前专利权人: 西安电子科技大学芜湖研究院
- 当前专利权人地址: 安徽省芜湖市弋江区高新技术产业开发区服务外包产业园7号楼
- 代理机构: 上海驷合知识产权代理有限公司
- 代理商 于秀
- 主分类号: H01L29/778
- IPC分类号: H01L29/778 ; H01L21/335 ; H01L29/06
摘要:
本发明公开了一种半导体器件及其制备方法,其中的器件包括:衬底以及设置于衬底上电子气结构层,电子气结构层包括沟道层和势垒层;电子气结构层具有晶体管区域、二极管区域和连通区域;晶体管区域和二极管区域之间形成有绝缘层,绝缘层刻断晶体管区域和二极管区域之间的二维电子气;欧姆电极,设置于连通区域的势垒层上;栅电极和源电极,均设置于晶体管区域的势垒层上,且源电极位于晶体管区域的远离连通区域的端部;阳电极,设置于二极管区域的势垒层上,且位于二极管区域的远离连通区域的端部;连接电极,设置于源电极和阳电极上,并与源电极以及阳电极电连接。本发明中的器件,实现了晶体管和二极管的集成,且可靠性较高,成本较低。
IPC分类: