发明公开
- 专利标题: 一种多波长激光耦合剥离半导体材料的设备及方法
-
申请号: CN202310783527.5申请日: 2023-06-29
-
公开(公告)号: CN116913809A公开(公告)日: 2023-10-20
- 发明人: 单翀 , 耿靖骅 , 焦健 , 胡北辰 , 隋展 , 赵晓晖 , 崔勇 , 高妍琦 , 季来林 , 孙今人 , 饶大幸 , 夏兰 , 冯伟 , 刘栋 , 史建 , 蔡国栋 , 朱翔宇
- 申请人: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
- 申请人地址: 上海市嘉定区陈家山路11
- 专利权人: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
- 当前专利权人: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
- 当前专利权人地址: 上海市嘉定区陈家山路11
- 代理机构: 上海智力专利商标事务所
- 代理商 杜冰云; 周涛
- 主分类号: H01L21/67
- IPC分类号: H01L21/67 ; H01L21/66
摘要:
本发明公开了一种多波长激光耦合剥离半导体材料的设备及方法,通过将多波长激光耦合辐照至半导体材料内,利用光子能量更高的短波长激光将价带的电子跃迁至导带形成自由电子,随后利用长波长激光对自由电子进行吸收,并产生热应力差,进而诱导半导体材料改质,最终实现剥离,有效地解决了传统机械切割碳化硅损耗大、难度高等问题,同时也解决了已有激光剥离方法采用单波长基频激光需要高功率且难以控制工艺等问题,不仅使得半导体材料剥离更加容易、损耗更低,同时也使得改质工艺更加精密可控,为碳化硅的广泛应用提供可靠的帮助。
IPC分类: