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公开(公告)号：CN118438063A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410707106.9
申请日：2024-06-03
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: B23K26/53 , B23K26/064 , B23K26/70
Abstract: 本发明公开了一种提高激光减薄半导体材料效率的方法及装置，通过在碳化硅薄片剥离后的碳化硅晶锭表面制备硬度较低的氧化层，降低了机械抛光碳化硅表面的难度，可以以最快速度将碳化硅晶锭表面抛光至激光可以入射到材料体内的程度，进而开始下一轮的减薄改质加工，大大提高了半导体材料多次减薄剥离的加工效率；同时，对去除氧化层的半导体材料继续进行减薄剥离加工时，引入激光测距仪，利用激光测距仪实时检测材料表面的粗抛形貌，并根据激光测距仪的检测结果及时调整激光焦点的聚焦位置，可以避免半导体材料表面的粗抛形貌对加工精度造成影响，达到激光继续均匀改质、剥离碳化硅的加工目的，提高加工质量。
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公开(公告)号：CN117452744A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202311279160.X
申请日：2023-10-07
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
Abstract: 本发明公开了一种非线性近场滤波方法，通过在激光滤波光路中设置单块或多块级联的非线性滤波晶体，利用非线性滤波晶体对待滤波光束中的不同立体角的近场高频成分进行频率转换，并在后续放大传输过程中将其滤除，从而实现空间滤波，有效地解决了原有空间滤波器需配备很长的光束传输管道且需在高功率条件下对光管道抽真空而导致造价高的问题。
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公开(公告)号：CN111007586B
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201911310965.X
申请日：2019-12-18
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种大尺寸纳米周期光栅的制备方法，具体包括以下步骤：建立光路系统；调整激光能量密度，在加工样品表面制备出激光光斑的光栅夹缝结构，并获取光栅夹缝结构内相邻两个激光诱导表面周期性微结构之间的间距d1；通过三维移动平台沿着Y方向多次移动加工样品；通过三维移动平台将加工样品沿着X方向移动设定距离，使加工样品表面制备出的当前激光光斑的光栅夹缝结构与前一激光光斑的光栅夹缝结构之间的结构间距d2与间距d1相等；重复上述步骤，在加工样品表面制备出任意长度和宽度的纳米周期光栅。本发明只需控制激光能量密度和移动平台，就能直接制备大尺寸纳米周期光栅，工艺简单，对环境要求极低，方便实现。
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公开(公告)号：CN113161849A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202011509296.1
申请日：2020-12-18
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
Abstract: 本发明公开了一种对激光束入射角度相对误差不敏感的色谱合成装置及方法，该色谱合成装置通过在普通的二向色镜上添加特殊的分区镀膜构成复合色谱合成镜，通过将该复合色谱合成镜与角锥棱镜配合使用，使两支激光束的光路中均只存在一次反射，从而避免因色谱合成装置与两束待合束的激光束之间的相对角度误差而引起的合束激光光轴的指向偏差，从而提高了色谱合成激光束的亮度和光束质量。
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公开(公告)号：CN112414677A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN202011245093.6
申请日：2020-11-10
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及到一种高精度测量光学元件体内光斑大小的测试装置，所述测试装置结构上包括有激光器(1)、衰减器(2)、聚焦透镜(3)、平行光管(4)、成像镜头(5)、CCD相机(7)、第一电动位移平台(10)、第二电动位移平台(8)、分划板(9)和计算机(11)，还涉及一种应用所述的测试装置测量光学元件体内光斑大小的方法。本发明的测试装置和测试方法能够精确的计算出待测光学元件内任意位置处的光斑大小，解决了传统测试方法中无法直接测量光学元件任一位置光斑大小以及理论计算精度较低等问题，为光学元件的激光加工、非线性效应以及激光损伤等方面的生产和研究提供了更多的帮助。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109725431B
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201910034307.6
申请日：2019-01-15
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
Abstract: 本发明公开了一种紧凑型大口径光栅压缩器，该光栅压缩器为对称结构，它包括第一大口径光栅、第二大口径光栅、第一大口径反射镜、第二大口径反射镜、第三大口径光栅、第四大口径光栅，所述第一大口径反射镜与第二大口径反射镜之间左右对称设置，所述第一大口径光栅与第二大口径光栅的表面之间相互平行，第三大口径光栅与第四大口径光栅的表面之间相互平行，所述第一大口径光栅与第四大口径光栅在横向上位于同一条直线上，所述第二大口径光栅与第三大口径光栅在横向上位于同一条直线上。本发明能够实现大口径光栅压缩器较为紧凑的排布方式及高精密的光栅平行度，有利于获得良好的脉冲压缩效果，产生皮秒级高能拍瓦激光。
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公开(公告)号：CN109374264A
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201811590277.9
申请日：2018-12-25
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种光学薄膜缺陷激光损伤阈值的测试方法，该方法中激光束经衰减器后到达光束分束器，光束分束器透射方向的激光束经过聚焦透镜到达金属膜，CCD相机记录激光辐照在金属膜表面的光斑位置和辐照在光学薄膜表面时的激光损伤点坐标，扫描电子显微镜记录激光辐照在光学薄膜中缺陷损伤点纵向深度位置，并完成对缺陷损伤点横向能量密度细分与纵向电场归一化处理相结合分析，从而解决了光学薄膜激光损伤阈值测试中，将激光光斑中随机分布的缺陷损伤点与高斯分布的激光能量密度等效的视作均匀分布，并将激光峰值能量密度作为缺陷损伤能量密度，以及因忽略缺陷损伤点所受光学薄膜电场分布影响所带来的问题。从而提高测试精度。
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公开(公告)号：CN109361139A
公开(公告)日：2019-02-19
申请号：CN201811487197.0
申请日：2018-12-06
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
Abstract: 本发明公开了一种栅栏脉冲产生系统，该系统包括光纤锁模激光器、波导幅度调制器和第一分束器，第一分束器的输出端分别连接有第一窄带滤波器和第二窄带滤波器，在第一窄带滤波器上串联有第一光纤延迟器，在第二窄带滤波器上串联有第一光纤衰减器，第一光纤延迟器的输出端和第一光纤衰减器的输出端并联然后均与第一耦合器的输入端相连，第一耦合器的输出端与若干二进制堆积单元串联，在二进制堆积单元的输出端分别连接有第一光纤放大器和第二光纤放大器，在第一光纤放大器上串联有第一N*1并联式堆积单元，在第二光纤放大器上串联有第二N*1并联式堆积单元，然后与合束器串联。本发明栅栏脉冲可以有效的抑制SRS和SBS的积累。
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公开(公告)号：CN108982072A
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201811040724.3
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种光学薄膜缺陷激光损伤阈值的测试系统，该系统包括按光路依次放置的激光器、衰减器、分束器、能量计、光束质量分析仪、聚焦透镜、CCD相机、金属膜、光学薄膜、移动平台、扫描电子显微镜和电脑，激光器发出的激光束，经衰减器后到达光束分束器，光束分束器透射方向的激光束经过聚焦透镜到达金属膜，CCD相机记录激光辐照在金属膜表面的光斑位置和辐照在光学薄膜表面时的激光损伤点坐标，扫描电子显微镜记录激光辐照在光学薄膜中缺陷损伤点纵向深度位置，并完成对缺陷损伤点横向能量密度细分与纵向电场归一化处理相结合分析。本发明解决了以峰值能量密度作为缺陷损伤密度所带来的问题，从而提高测试精度。
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公开(公告)号：CN107577023A
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201710939342.3
申请日：2017-10-11
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
Abstract: 本发明公开了一种大口径光栅脉冲压缩器姿态的调节方法，该方法包括以下步骤：步骤1、建立基准光路；步骤2、第一大口径光栅姿态的调节，通过第一楔板和第二楔板的调节，完成第一大口径光栅的方位旋转、俯仰旋转、面内旋转；步骤3、第二大口径光栅姿态的调节，通过第三楔板和第四楔板的调节，完成第二大口径光栅的方位旋转、俯仰旋转、面内旋转；步骤4、第三大口径光栅姿态的调节，通过第一楔板和第二楔板的调节，完成第三大口径光栅的方位旋转、俯仰旋转、面内旋转；步骤5、第四大口径光栅姿态的调节，通过第三楔板和第四楔板的调节，完成第四大口径光栅的方位旋转、俯仰旋转、面内旋转。本发明大口径光栅姿态的调节精度可达数个μrad量级。
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