- 专利标题： BLANK MASK AND PHOTOMASK USING THE SAME
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申请号： US18340334申请日： 2023-06-23
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公开(公告)号： US20230418150A1公开(公告)日： 2023-12-28
- 发明人: GeonGon LEE , Hyung-joo LEE , Suhyeon KIM , Sung Hoon SON , Seong Yoon KIM , Min Gyo JEONG , Taewan KIM , Inkyun SHIN , Tae Young KIM
- 申请人： SK enpulse Co., Ltd.
- 申请人地址： KR Pyeongtaek-si
- 专利权人： SK enpulse Co., Ltd.
- 当前专利权人： SK enpulse Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： KR Pyeongtaek-si
- 优先权： KR 20220076792 2022.06.23
- 主分类号： G03F1/32
- IPC分类号： G03F1/32
摘要：
A blank mask includes a light transmissive substrate, and a light-blocking layer, disposed on the light transmissive substrate, comprising a transition metal and either one or both of oxygen and nitrogen. An average value of grain sizes of a surface of the light-blocking layer ranges from 14 nm to 24 nm.
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