发明授权
- 专利标题： Photoresist composition, method of forming a pattern and method of manufacturing a thin film transistor substrate
- 专利标题（中）： 光刻胶组合物，形成图案的方法和制造薄膜晶体管衬底的方法
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申请号： US14522713申请日： 2014-10-24
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公开(公告)号： US09343553B2公开(公告)日： 2016-05-17
- 发明人: Jung-Soo Lee , Jeong-Min Park , Sung-Kyun Park , Jun Chun , Ki-Hyun Cho , Ji-Hyun Kim , Dong-Min Kim , Seung-Ki Kim , Eun Jeagal
- 申请人： SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.
- 申请人地址： KR Yongin, Gyeonggi-Do
- 专利权人： SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.
- 当前专利权人： SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.
- 当前专利权人地址： KR Yongin, Gyeonggi-Do
- 代理机构： Lee & Morse, P.C.
- 优先权： KR10-2014-0007997 20140122
- 主分类号： G03F7/023
- IPC分类号： G03F7/023 ; G03F7/075 ; H01L21/311 ; H01L29/66 ; G03F7/022
摘要：
A photoresist composition, a method of forming a pattern, and a method of manufacturing a thin film transistor substrate, the composition including a solvent, a novolak resin, a diazide-based photo-sensitizer, an acryl compound represented by the following Chemical Formula 1:
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