公开(公告)号：US09343553B2

公开(公告)日：2016-05-17

申请号：US14522713

申请日：2014-10-24

申请人： SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.

发明人： Jung-Soo Lee ,  Jeong-Min Park ,  Sung-Kyun Park ,  Jun Chun ,  Ki-Hyun Cho ,  Ji-Hyun Kim ,  Dong-Min Kim ,  Seung-Ki Kim ,  Eun Jeagal

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/075 ,  H01L21/311 ,  H01L29/66 ,  G03F7/022

CPC分类号： H01L29/66969 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757 ,  H01L21/31144 ,  H01L27/1288

摘要： A photoresist composition, a method of forming a pattern, and a method of manufacturing a thin film transistor substrate, the composition including a solvent, a novolak resin, a diazide-based photo-sensitizer, an acryl compound represented by the following Chemical Formula 1:

摘要翻译： 光致抗蚀剂组合物，形成图案的方法以及制造薄膜晶体管基板的方法，所述组合物包括溶剂，酚醛清漆树脂，重氮化物系光敏剂，由以下化学式1表示的丙烯酸化合物 ：

公开(公告)号：US09417521B2

公开(公告)日：2016-08-16

申请号：US13911984

申请日：2013-06-06

申请人： Samsung Display Co., LTD.

发明人： Ki-Hyun Cho ,  Hoon Kang ,  Jae-Sung Kim ,  Dong-Min Kim ,  Seung-Ki Kim ,  Eun Jeagal

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/40 ,  G03F7/038 ,  G03F7/016 ,  G03F7/022 ,  G03F7/039 ,  G03F7/09 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0048 ,  G03F7/0163 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/09 ,  G03F7/092 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

摘要： A method of forming a metal pattern is disclosed. In the method, a metal layer is formed on a base substrate. A photoresist composition is coated on the metal layer to form a coating layer. The photoresist composition includes a binder resin, a photo-sensitizer and a mixed solvent including a first solvent, a second solvent having a higher volatility than the first solvent, and a third solvent having a higher volatility than the second solvent. The coating layer is exposed to light. The coating layer is partially removed to form a photoresist pattern. The metal layer is patterned by using the photoresist pattern as a mask.

摘要翻译： 公开了一种形成金属图案的方法。 在该方法中，在基底基板上形成金属层。 将光致抗蚀剂组合物涂覆在金属层上以形成涂层。 光致抗蚀剂组合物包括粘合剂树脂，光敏剂和包含第一溶剂，挥发性高于第一溶剂的第二溶剂和比第二溶剂挥发性高的第三溶剂的混合溶剂。 将涂层曝光。 部分去除涂层以形成光致抗蚀剂图案。 通过使用光致抗蚀剂图案作为掩模来对金属层进行构图。