阵列基板及其制备方法、显示面板

    公开(公告)号:CN108346622B

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN201710061083.9

    申请日:2017-01-25

    IPC分类号: H01L21/84 H01L27/12

    摘要: 一种阵列基板及其制备方法、显示面板,该制备方法包括:提供包括显示区和位于所述显示区外围的引线区的衬底基板,在所述引线区中形成连接电极的过程中保留用于对其进行构图工艺的第一光刻胶层,然后在所述衬底基板上沉积反射像素电极层薄膜并对其进行构图工艺以在所述显示区中形成反射像素电极层且在所述引线区内去除所述反射像素电极层薄膜以暴露出所述第一光刻胶层,然后同时去除所述反射像素电极层上用于对所述反射像素电极层薄膜进行构图的第二光刻胶层和所述引线区内的所述第一光刻胶层。上述第一光刻胶层可防止形成反射像素电极层时用的腐蚀液其它部件造成腐蚀;第一光刻胶层与第二光刻胶层同时去除可以省掉一次光刻胶清洗工艺。

    一种防掩膜板划伤系统及曝光系统

    公开(公告)号:CN106353973B

    公开(公告)日:2018-09-11

    申请号:CN201611027411.5

    申请日:2016-11-18

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明公开一种防掩膜板划伤系统及曝光系统,涉及显示技术领域,以在防止曝光过程中基板表面的异物划伤掩膜版的问题,并降低掩膜板的修复成本。该防掩膜板划伤系统利用扫描单元用于扫描处在曝光状态的基板表面的异物高度;检测单元用于判断处在曝光状态的基板表面是否存在高度大于预设高度的异物,如果是,则停止曝光基板,如果否,则继续曝光基板;其中,预设高度小于掩膜板所在高度到基板所在高度的高度差。所述曝光系统包括上述技术方案所提的防掩膜板划伤系统。本发明提供的防掩膜板划伤系统用于基板曝光。

    触摸显示基板及其制备方法、触摸显示基板

    公开(公告)号:CN108400254A

    公开(公告)日:2018-08-14

    申请号:CN201810171184.6

    申请日:2018-03-01

    摘要: 本发明实施例提供了一种触摸显示基板及其制备方法、触摸显示面板。触摸显示基板包括:基底,设置在所述基底上的发光结构层,以及设置在所述发光结构层上的封装层,所述封装层内设置有触摸电极和电极引线,所述触摸电极和电极引线的横截面形状为倒梯形。本发明通过将触摸层设置在封装层中,可以有效降低触摸显示面板的厚度,有利于产品的轻薄化设计,同时可以增加封装层的防水效果。通过将触摸电极和电极引线的横截面形状设置成倒梯形,使得具有倒坡度侧面的触摸电极和电极引线不会产生侧面反光,因而有效避免了因侧面反光导致的消影现象,提高了显示质量。

    一种阵列基板的制备方法及阵列基板、显示装置

    公开(公告)号:CN107731854A

    公开(公告)日:2018-02-23

    申请号:CN201710898203.0

    申请日:2017-09-28

    IPC分类号: H01L27/12 G02F1/1368

    摘要: 本发明涉及显示技术领域,公开一种阵列基板的制备方法及阵列基板、显示装置。阵列基板的制备方法包括:在衬底基板的一侧形成钝化层的膜层;在所述钝化层的膜层上形成金属反射层的图形;通过构图工艺在所述钝化层的膜层上形成钝化层过孔,并在所述金属反射层中用于与源漏电极层连接的电极覆盖区内形成减薄区域。在形成钝化层过孔的构图工艺过程中,同时在金属反射层中用于与源漏电极层连接的电极覆盖区内形成减薄区域,可将电极覆盖区内的至少一部分保护膜去除,从而可提高电极覆盖区域的导电性能,改善了由于金属反射层的表面形成的保护膜导致的导电材料和金属反射层之间的接触导电性降低、进而导致显示装置产生亮暗不均的问题。

    一种单层触控显示面板及装置

    公开(公告)号:CN107153488A

    公开(公告)日:2017-09-12

    申请号:CN201710588244.X

    申请日:2017-07-18

    IPC分类号: G06F3/041

    摘要: 本发明实施例提供一种单层触控显示面板及装置,涉及触控显示技术领域,能够通过设置亚像素的出光率,来降低显示画面出现明暗相间的云纹现象。该单层触控显示面板包括多个单层触控单元和多个显示单元,显示单元包括相邻的红色亚像素列、绿色亚像素列和蓝色亚像素列,单层触控单元包括相邻的发射电极和感应电极,沿单层触控显示面板的厚度方向,每一所述单层触控单元的正投影分别落入一个所述显示单元的正投影中,并且通过结合发射电极和感应电极对应的亚像素中色阻层的颜色,和/或,条状子电极的宽度来调整亚像素的光透过率,以够降低现有技术中因发射电极和感应电极中的透明电极的覆盖率不同,而导致的明暗相间的云纹现象(Mura)。

    一种防掩膜板划伤系统及曝光系统

    公开(公告)号:CN106353973A

    公开(公告)日:2017-01-25

    申请号:CN201611027411.5

    申请日:2016-11-18

    IPC分类号: G03F7/20

    CPC分类号: G03F7/7065 G03F7/70916

    摘要: 本发明公开一种防掩膜板划伤系统及曝光系统,涉及显示技术领域,以在防止曝光过程中基板表面的异物划伤掩膜版的问题,并降低掩膜板的修复成本。该防掩膜板划伤系统利用扫描单元用于扫描处在曝光状态的基板表面的异物高度;检测单元用于判断处在曝光状态的基板表面是否存在高度大于预设高度的异物,如果是,则停止曝光基板,如果否,则继续曝光基板;其中,预设高度小于掩膜板所在高度到基板所在高度的高度差。所述曝光系统包括上述技术方案所提的防掩膜板划伤系统。本发明提供的防掩膜板划伤系统用于基板曝光。