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公开(公告)号:CN116103629A
公开(公告)日:2023-05-12
申请号:CN202310081476.1
申请日:2023-02-08
申请人: 常州工学院
摘要: 本发明公开了一种改进的双面往复连续磁控溅射镀膜机,包括设于真空室内的第一冷辊、第二冷辊和第三冷辊、第一回转换靶装置、第二回转换靶装置、第三回转换靶装置、第四回转换靶装置和纠偏装置,第一冷辊、第二冷辊和第三冷辊横向并排布置,且中间为第二冷辊,开卷机构和收卷机构之间的基带经过设于真空室内的换向辊换向后呈“S”形缠绕于第一冷辊、第二冷辊和第三冷辊上,第一冷辊包覆有基带的圆周面上对应设置有第一回转换靶装置和第二回转换靶装置,第三冷辊包覆有基带的圆周面上对应设置有第三回转换靶装置和第四回转换靶装置。本发明克服现有磁控溅射镀膜机设备的稳定性以及基带在镀膜过程中的不均匀性的问题。
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公开(公告)号:CN117824559A
公开(公告)日:2024-04-05
申请号:CN202310315758.3
申请日:2023-03-29
申请人: 常州工学院
摘要: 本发明属于测量膜厚实验装置技术领域,尤其是一种模拟测量磁控溅射镀膜膜厚实验装置,针对现有的磁控溅射的石英晶体测厚装置仅能在企业生产过程中进行调试,会影响企业的生产过程,且测试过程中难以对测试样品进行彻底粉碎,从而影响测试效果的问题,现提出如下方案,其包括外壳,所述外壳的一侧安装有通风管道,所述通风管道上安装有鼓风机,所述外壳的内壁上安装有环形底板,所述环形底板的顶部安装有三个震动弹簧,三个所述震动弹簧的顶端安装有同一个筛子。本发明操作简单,使用方便,能够便于对能够模拟磁控溅射镀膜过程以及石英晶体高精度测量,并降低测量时产生的误差,便于人们使用。
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公开(公告)号:CN117929958A
公开(公告)日:2024-04-26
申请号:CN202410040706.4
申请日:2024-01-11
申请人: 常州工学院
IPC分类号: G01R31/26
摘要: 本发明公开了一种LED灯故障工作状态快速检测方法,包括如下步骤:设置若干个灯箱并联为一个灯箱组,若干个灯箱组串联成一个灯箱行,在每个灯箱组上均安装电流传感器,在每个灯箱行上安装电压传感器,所述电流传感器连接电流数据采集器,所述电压传感器连接电压数据采集器;所述电流数据采集器和电压数据采集器连接单片机;通过单片机获取灯箱行的电压值并判断发生故障的灯箱行;通过单片机获取发生故障的灯箱行内各个灯箱组的电流值从而判断发生故障的灯箱组;对发生故障的灯箱组进行检查,判断灯箱组内发生故障的灯箱。本发明能够高时效、节能、低成本的保障灯箱阵列的安全运行,减少人工监测维护不便以及高温环境损耗等带来的运行成本。
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公开(公告)号:CN117821914A
公开(公告)日:2024-04-05
申请号:CN202310209344.2
申请日:2023-03-07
申请人: 常州工学院
摘要: 本发明公开了一种磁控溅射镀膜厚度的控制方法,包括:S1:训练模拟阶段工艺参数,通过粗调阶段工艺参数时数值的设定和微调阶段工艺参数时数值的设定,打开溅射电源后,得到时间‑镀膜厚度曲线,通过数学公式拟合该曲线用于观察基材的镀膜厚度变化;S2:实际镀膜阶段,设置与训练阶段相同批次基材;S3:通过在粗调阶段设定的工艺参数进行镀膜;S4:在设定微调阶段工艺参数中进行镀膜;S5:实时观测晶体所镀厚度。本发明通过时间的控制,结合两次工艺参数的设定精准控制基材薄膜厚度,实现产品质量的可控性,提升产品的优良率。
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