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公开(公告)号：CN117452772A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202311287828.5
申请日：2019-04-23
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·欧德威尔 , P·W·斯摩奥伦堡 , G·J·H·布鲁斯阿德
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/09 , G02F1/35 , H01S3/00 , G02F1/01 , G02B5/00 , H05G2/00 , G03F9/00 , G01N21/88 , G01N21/956 , G01N21/47 , G01B11/02
摘要： 一种照射源设备(500)，所述照射源设备适合用于量测设备中以表征衬底上的结构，所述照射源设备包括：高次谐波产生HHG介质(502)；泵浦辐射源(506)，能够操作为发射泵浦辐射束(508)；和可调整的变换光学器件(510)，所述可调整的变换光学器件被配置为可调整地变换所述泵浦辐射束的横向空间轮廓以产生被变换的束(518)，使得相对于所述被变换的束的中心轴线，所述被变换的束的中心区具有实质上为零的强度，而从所述被变换的束的所述中心轴线径向向外的外部区具有非零的强度，其中所述被变换的束被布置为激励所述HHG介质以产生高次谐波辐射(540)，其中所述外部区的部位依赖于所述可调整的变换光学器件的调整设定。
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公开(公告)号：CN112586089A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201980054729.8
申请日：2019-07-10
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·W·斯摩奥伦堡 , G·J·H·布鲁斯阿德 , D·欧德威尔
IPC分类号： H05G2/00
摘要： 本发明涉及方法和相应设备，其能够操作为引起驱动辐射束与介质之间的相互作用以通过高阶谐波产生来产生发射辐射，所述装置包括：相互作用区，所述相互作用区被定位在相互作用平面且被配置成接收所述介质；束阻挡件，所述束阻挡件在所述相互作用平面的上游被定位在束阻挡平面处且被配置成部分地阻挡所述驱动辐射束；束成形器，所述束成形器在所述束阻挡平面的上游被定位在物平面处且被配置成控制所述驱动辐射束的空间分布；以及至少一个透镜，所述至少一个透镜被定位在所述相互作用平面的上游和所述束阻挡平面的下游，其中所述透镜被定位成使得所述驱动辐射束的所述空间分布的图像形成在所述相互作用平面处。
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公开(公告)号：CN117178228A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202280029074.0
申请日：2022-03-31
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G02F1/35
摘要： 一种组件，包括一空间，所述空间被配置用于放置介质以接收第一辐射，所述第一辐射用于产生第二辐射。在操作中，所述第二辐射在所述介质之后与所述第一辐射同轴地传播。所述组件还包括在所述介质之后用于利用表面区域透射或反射所述第一辐射光学元件。所述组件被配置成使得在操作中清洁气体与所述表面区域接触。反应性介质是通过所述第二辐射从所述清洁气体的至少一部分产生的，以用于从所述表面区域移除污染物。
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公开(公告)号：CN116888513A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202280015634.7
申请日：2022-01-12
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G02B6/26
摘要： 一种用于在远场中分离第一辐射与第二辐射的组件和方法，其中，所述第一辐射和所述第二辐射具有非重叠波长。所述组件包括：毛细管结构，其中，所述第一辐射和所述第二辐射沿所述毛细管结构的至少一部分同轴地传播；和光学结构，所述光学结构被配置成通过干涉来控制所述第一辐射在所述毛细管结构外部的空间分布，使得所述第一辐射在所述远场中的强度沿所述第二辐射的光轴减小。
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公开(公告)号：CN112119355B
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN201980032783.2
申请日：2019-04-23
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·欧德威尔 , P·W·斯摩奥伦堡 , G·J·H·布鲁斯阿德
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/09 , G01N21/95 , G01N21/956 , G01N21/88
摘要： 一种照射源设备(500)，所述照射源设备适合用于量测设备中以表征衬底上的结构，所述照射源设备包括：高次谐波产生HHG介质(502)；泵浦辐射源(506)，能够操作为发射泵浦辐射束(508)；和可调整的变换光学器件(510)，所述可调整的变换光学器件被配置为可调整地变换所述泵浦辐射束的横向空间轮廓以产生被变换的束(518)，使得相对于所述被变换的束的中心轴线，所述被变换的束的中心区具有实质上为零的强度，而从所述被变换的束的所述中心轴线径向向外的外部区具有非零的强度，其中所述被变换的束被布置为激励所述HHG介质以产生高次谐波辐射(540)，其中所述外部区的部位依赖于所述可调整的变换光学器件的调整设定。
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公开(公告)号：CN112119355A
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN201980032783.2
申请日：2019-04-23
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·欧德威尔 , P·W·斯摩奥伦堡 , G·J·H·布鲁斯阿德
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/09 , G01N21/95 , G01N21/956 , G01N21/88
摘要： 一种照射源设备(500)，所述照射源设备适合用于量测设备中以表征衬底上的结构，所述照射源设备包括：高次谐波产生HHG介质(502)；泵浦辐射源(506)，能够操作为发射泵浦辐射束(508)；和可调整的变换光学器件(510)，所述可调整的变换光学器件被配置为可调整地变换所述泵浦辐射束的横向空间轮廓以产生被变换的束(518)，使得相对于所述被变换的束的中心轴线，所述被变换的束的中心区具有实质上为零的强度，而从所述被变换的束的所述中心轴线径向向外的外部区具有非零的强度，其中所述被变换的束被布置为激励所述HHG介质以产生高次谐波辐射(540)，其中所述外部区的部位依赖于所述可调整的变换光学器件的调整设定。
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