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    检查设备和方法、光刻设备和处理单元、器件制造方法
    1.
    发明公开
    检查设备和方法、光刻设备和处理单元、器件制造方法 有权

    公开(公告)号：CN102636963A

    公开(公告)日：2012-08-15

    申请号：CN201210026185.4

    申请日：2012-02-07

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： K·巴哈特塔卡里雅 ,  A·J·登博夫 ,  S·C·J·A·凯吉 ,  P·C·P·瓦诺鹏

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G01B11/26

    CPC分类号： G03F7/70625 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/956 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70633

    摘要： 本发明提供一种检查设备和方法、光刻设备、光刻处理单元及器件制造方法。本发明确定衬底上的周期性目标(例如晶片上的光栅)的不对称性质。检查设备具有宽带照射光源，其具有在高数值孔径物镜的光瞳平面内点镜像的照射束。从相对衬底的平面呈镜像反射关系的第二和第一方向经由物镜照射衬底和目标。四方楔形件光学装置分别地改变由衬底散射的辐射的衍射级的方向并且将衍射级与沿第一方向和第二方向中每一个方向的照射分离。例如，对每个入射方向分离零级和第一级。在多模光纤捕获之后，分光计用于测量作为波长(I0′(λ)，I0(λ)，I+1′(λ)以及I-1(λ))的函数的分别被改变方向的衍射级的强度。这可以随后用于计算单个光栅的不对称参数的重构或(堆叠重叠目标光栅的)重叠误差。

    量测设备和衬底平台输送装置系统
    3.
    发明公开
    量测设备和衬底平台输送装置系统 审中-实审

    公开(公告)号：CN110869855A

    公开(公告)日：2020-03-06

    申请号：CN201880046374.3

    申请日：2018-07-13

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： F·G·C·比基恩 ,  金原淳一 ,  S·C·J·A·凯吉 ,  T·A·马塔尔 ,  P·F·范吉尔斯

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

    摘要： 为了改善测量设备的生产率性能和/或经济性，本发明提供一种量测设备，包括：第一测量设备；第二测量设备；第一衬底平台，所述第一衬底平台被配置为保持第一衬底和/或第二衬底；第二衬底平台，所述第二衬底平台被配置为保持所述第一衬底和/或所述第二衬底；第一衬底输送装置，所述第一衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底；和第二衬底输送装置，所述第二衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底，其中，从第一FOUP、第二FOUP或第三FOUP装载所述第一衬底，其中，从所述第一FOUP、所述第二FOUP或所述第三FOUP装载所述第二衬底，其中所述第一测量设备是对准测量设备，以及其中所述第二测量设备是水平传感器、膜厚度测量设备或光谱反射率测量设备。

    检查设备和方法、光刻设备和处理单元、器件制造方法
    6.
    发明授权
    检查设备和方法、光刻设备和处理单元、器件制造方法 有权

    公开(公告)号：CN102636963B

    公开(公告)日：2014-11-26

    申请号：CN201210026185.4

    申请日：2012-02-07

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： K·巴哈特塔卡里雅 ,  A·J·登博夫 ,  S·C·J·A·凯吉 ,  P·C·P·瓦诺鹏

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G01B11/26

    CPC分类号： G03F7/70625 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/956 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70633

    摘要： 本发明提供一种检查设备和方法、光刻设备、光刻处理单元及器件制造方法。本发明确定衬底上的周期性目标(例如晶片上的光栅)的不对称性质。检查设备具有宽带照射光源，其具有在高数值孔径物镜的光瞳平面内点镜像的照射束。从相对衬底的平面呈镜像反射关系的第二和第一方向经由物镜照射衬底和目标。四方楔形件光学装置分别地改变由衬底散射的辐射的衍射级的方向并且将衍射级与沿第一方向和第二方向中每一个方向的照射分离。例如，对每个入射方向分离零级和第一级。在多模光纤捕获之后，分光计用于测量作为波长(I0′(λ)，I0(λ)，I+1′(λ)以及I-1(λ))的函数的分别被改变方向的衍射级的强度。这可以随后用于计算单个光栅的不对称参数的重构或(堆叠重叠目标光栅的)重叠误差。