公开(公告)号：CN101676806A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200910166147.7

申请日：2009-08-14

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周 ,  权五焕

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种剥离剂组合物，其在薄膜晶体管液晶显示器的制备工艺中，用于再利用薄膜晶体管液晶显示器的热固性树脂形成过程中产生的不良基板，包括：(a)0.5-15重量份的氢氧化铵或具有碳原子数为1-4个的烷基的烷基氢氧化铵化合物；(b)9-89重量份的具有碳原子数为1-4个的烷基的烷撑二醇醚；(c)10-40重量份的甘醇化合物；(d)0.01-5重量份的防腐剂；以及(e)0.1-5重量份的水。本发明的剥离剂组合物可以在短时间内去除彩色光阻、正性或负性有机绝缘层，并不会使作为下部膜质的无机绝缘层和各种金属布线受损，从而可以再利用滤色器基板和薄膜晶体管基板。

公开(公告)号：CN100578368C

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：CN200510102849.0

申请日：2005-09-13

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 尹锡壹 ,  金圣培 ,  金玮溶 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  金柄郁

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种光阻剂剥离液组合物，提供一种包含环形胺、溶剂及剥离促进剂的光阻剂剥离液组合物。并且，本发明还提供一种包含环形胺、溶剂、防腐剂及剥离促进剂的光阻剂剥离液组合物。本发明光阻剂剥离液组合物不仅在适用于现有LCD模块制备中包括异丙醇(以下简称″IPA″)清洗阶段的一般工程时，而且在适用于最近省略IPA清洗阶段的工程时，不存在对金属布线多余的腐蚀影响，特别是可大大提高剥离能力。

公开(公告)号：CN101355056A

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200810134043.3

申请日：2008-07-22

Applicant: 三星电子株式会社 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 姜勋 ,  金载星 ,  郑壤镐 ,  李羲国 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  吕泰勋 ,  崔相角

IPC: H01L21/84 ,  H01L21/768 ,  G03F7/027 ,  G03F7/039 ,  G03F7/016 ,  G03F7/021

CPC classification number: H01L27/1288 ,  H01L27/1214

Abstract: 本发明涉及制造薄膜晶体管基板的方法和用在该基板中的感光组合物。公开了一种制造具有高的感光度、耐热性、抗冲击性的薄膜晶体管基板的方法以及为其所用的感光组合物，该方法包括在绝缘基板上形成数据线路，通过涂布感光组合物而在数据线路上形成有机绝缘膜，该感光组合物包含三元共聚物，其中该三元共聚物得自以下单体：不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或其混合物，不饱和的含有环氧基团的化合物、以及烯属化合物。

公开(公告)号：CN100445846C

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：CN200510090789.5

申请日：2002-08-20

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金柄郁 ,  赵俊衍 ,  权京一 ,  朴洙晶 ,  俞载元

IPC: G02F1/1339 ,  G03F7/022

CPC classification number: G03F7/027 ,  G03F7/023 ,  G03F7/038

Abstract: 本发明涉及一种用作光刻胶的感光树脂组合物，特别涉及一种用于光刻胶的感光树脂组合物，该组合物包括：通过选择使用特定的化合物或控制未反应单体的比例以获得的丙烯酸酯共聚物，和1，2-二叠氮醌化物。该组合物在几方面性能优异，如：介电特性、平滑度、透明性、显影性能、残膜率、耐化学品性和耐热性，以及灵敏度和分辨率。特别是它促进夹层电介质中的图案易于形成，此外，由于甚至在制为厚膜时仍具有优异的透射率，它可在LCD制造过程中用作光刻胶。

公开(公告)号：CN101071266A

公开(公告)日：2007-11-14

申请号：CN200710096933.5

申请日：2007-04-19

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金东敏 ,  金柄郁 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  崔基植 ,  金贞元 ,  李起范 ,  卞哲基 ,  金纹秀 ,  金炳厚 ,  边滋勋 ,  申在浩

IPC: G03F7/016 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种适于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体涉及一种包含由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、重氮类感光性化合物、有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，具有优异的耐热性及分辨率，且可提高图案均匀性。所述酚醛清漆树脂由芳香族醇聚合而成，所述芳香族醇包含间甲酚、对甲酚、间苯二酚。

公开(公告)号：CN100334506C

公开(公告)日：2007-08-29

申请号：CN03160295.9

申请日：2003-09-30

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 朴赞硕 ,  金吉来 ,  金奉玘

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G02B5/23 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明是有关利用感光性树脂的感光性树脂组合物，进一步涉及利用可以在光照下自动硬化的感光性树脂制作的、感光度高、显像边缘突出的投射、反射、半投射型液晶显示器的滤色镜用感光性树脂组合物。

公开(公告)号：CN1931858A

公开(公告)日：2007-03-21

申请号：CN200510102771.2

申请日：2005-09-15

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 李载禹 ,  李正烈 ,  金德倍 ,  金宰贤 ,  孙银卿

IPC: C07D407/08 ,  C08G4/00 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开了具有螺环缩酮基团的光刻胶聚合物，以及包括所述聚合物的光刻胶组合物。由于所述螺环缩酮基团脱保护反应的活化能较低，因此所述光刻胶聚合物和光刻胶组合物可以提高分辨率和制程范围；并且由于其PEB(曝光后烘焙)温度敏感性较低，可产生精细的光刻胶图案。

公开(公告)号：CN1704845A

公开(公告)日：2005-12-07

申请号：CN200510074806.6

申请日：2005-06-03

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金德倍 ,  金相廷 ,  金华泳 ,  诸葛真 ,  金宰贤

IPC: G03F7/004

CPC classification number: C08F212/14 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08K5/36 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  C08L25/14 ,  C08L25/18 ,  C08F212/08

Abstract: 本发明公开了用于采用短波长曝光光源形成高分辨率精细电路图案的光敏聚合物，及含有该聚合物的化学扩增的光刻胶组合物。所述光敏聚合物如以下式1所示，[式1]其中R1为氢原子，R2为氢原子（见图），R3为氯原子、溴原子、羟基、氰基、叔丁氧基、CH2NH2、CONH2、CH＝NH、CH(OH)NH2或C(OH)＝NH基团，R4为氢原子或甲基，1－x－y－z、x、y和z为构成所述光敏聚合物的每种重复单元的聚合度，x、y和z分别为0.01－0.8，且n为1或2。

公开(公告)号：CN1667514A

公开(公告)日：2005-09-14

申请号：CN200510053816.1

申请日：2005-03-11

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 李期范 ,  李载求 ,  朴美仙 ,  金钟民 ,  李敏键

IPC: G03F7/20 ,  G01N21/35 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01N21/359 ,  G01N1/2035 ,  G01N21/05 ,  G03F7/00 ,  H01L21/67086 ,  Y10T436/12

Abstract: 本发明公开了监控光刻过程所用多组分组合物的系统和方法，该光刻过程用于制造半导体器件、液晶显示设备等等，该组合物如光刻胶、剥离剂、显影剂、蚀刻剂、稀释剂、漂洗剂/清洁剂和蚀刻边胶清除剂。所述系统包括：组合物循环装置，其用于从贮存光刻过程所用组合物的储罐中抽取所述组合物，并将所抽取的组合物通过流动池循环回所述储罐；组合物分析装置，其用于测量流经所述流动池的组合物的吸光度，并从所测得的吸光度计算该组合物的至少一种组分的浓度；组分供应装置，其用于在某些组分的浓度低于预定水平时向所述储罐提供所缺乏的组分；及控制装置，其用于根据所述吸光度对所述组分供应装置进行控制，以调节所述组合物的每种组分的浓度。

公开(公告)号：CN114556216B

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202080071401.X

申请日：2020-10-08

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 申景顺 ,  尹赫敏 ,  吕泰勋 ,  金东明 ,  李基善 ,  朴阿凛 ,  李硕铉

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种正型感光性树脂组合物，其包含一种或多种不同于传统苯并三唑类可交联反应的酚式羟基化合物、具有特定结构的两种反应性硅烷化合物的硅氧烷共聚物，以及具有烷氧基的UV吸收剂；此正型感光性树脂组合物可最大限度地降低残留杂质如未反应单体和催化剂，进而确保优异的面板可靠性，不仅敏感度、分辨率和平坦度等性能优异，且耐候性、紫外线吸收率也优异。