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公开(公告)号:CN103019050A
公开(公告)日:2013-04-03
申请号:CN201210357232.3
申请日:2012-09-24
CPC分类号: G03F7/168 , C11D11/0047
摘要: 本发明涉及RRC过程和EBR过程用的稀释剂组合物、及供应前者的设备。所述RRC(减胶涂覆)过程用的稀释剂组合物包括乳酸烷基酯、环己酮和乙酸烷基酯,其中所述乙酸烷基酯的烷基取代基为C1-C5非基于醚的烷基。
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公开(公告)号:CN103019050B
公开(公告)日:2018-01-05
申请号:CN201210357232.3
申请日:2012-09-24
CPC分类号: G03F7/168 , C11D11/0047
摘要: 本发明涉及RRC过程和EBR过程用的稀释剂组合物、及供应前者的设备。所述RRC(减胶涂覆)过程用的稀释剂组合物包括乳酸烷基酯、环己酮和乙酸烷基酯,其中所述乙酸烷基酯的烷基取代基为C1‑C5非基于醚的烷基。
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公开(公告)号:CN101058618A
公开(公告)日:2007-10-24
申请号:CN200710105359.5
申请日:2007-02-05
IPC分类号: C08F212/08 , C08F220/10 , C08F4/04 , G02F1/13 , G09F9/30 , C08F232/08
CPC分类号: C08F220/06 , C08F212/08 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/40 , G02F1/136227 , H01L27/3244 , Y10T428/31855
摘要: 本发明公开了一种用于有机绝缘层的树脂组合物,其制造方法,和包含用该树脂组合物形成的绝缘层的显示板。该用于有机绝缘层的树脂组合物通过聚合约5~35wt%的不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的混合物;约5~40wt%的苯乙烯类化合物;约5~40wt%的环氧化合物;约0.1~10wt%的异冰片基化合物和约20~40wt%的双环戊二烯化合物而得到,基于不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、苯乙烯类化合物、环氧化合物、异冰片基化合物和双环戊二烯化合物的总重量。
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公开(公告)号:CN101058618B
公开(公告)日:2011-10-26
申请号:CN200710105359.5
申请日:2007-02-05
IPC分类号: C08F212/08 , C08F220/10 , C08F4/04 , G02F1/13 , G09F9/30 , C08F232/08
CPC分类号: C08F220/06 , C08F212/08 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/40 , G02F1/136227 , H01L27/3244 , Y10T428/31855
摘要: 本发明公开了一种用于有机绝缘层的树脂组合物,其制造方法,和包含用该树脂组合物形成的绝缘层的显示板。该用于有机绝缘层的树脂组合物通过聚合约5~35wt%的不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的混合物;约5~40wt%的苯乙烯类化合物;约5~40wt%的环氧化合物;约0.1~10wt%的异冰片基化合物和约20~40wt%的双环戊二烯化合物而得到,基于不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、苯乙烯类化合物、环氧化合物、异冰片基化合物和双环戊二烯化合物的总重量。
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公开(公告)号:CN101355056A
公开(公告)日:2009-01-28
申请号:CN200810134043.3
申请日:2008-07-22
CPC分类号: H01L27/1288 , H01L27/1214
摘要: 本发明涉及制造薄膜晶体管基板的方法和用在该基板中的感光组合物。公开了一种制造具有高的感光度、耐热性、抗冲击性的薄膜晶体管基板的方法以及为其所用的感光组合物,该方法包括在绝缘基板上形成数据线路,通过涂布感光组合物而在数据线路上形成有机绝缘膜,该感光组合物包含三元共聚物,其中该三元共聚物得自以下单体:不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或其混合物,不饱和的含有环氧基团的化合物、以及烯属化合物。
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公开(公告)号:CN113039237A
公开(公告)日:2021-06-25
申请号:CN201980075413.7
申请日:2019-11-14
申请人: 株式会社东进世美肯
摘要: 提供一种高温尺寸变化较小的聚酰亚胺类薄膜、可以形成上述聚酰亚胺薄膜的聚酰亚胺类组合物、以及利用上述聚酰亚胺类组合物的薄膜制造方法。聚酰亚胺薄膜以厚度10μm为基准,其黄色指数为15以下,玻璃化转变温度为350℃以上,热膨胀系数为30ppm/℃以下,在50至350℃温度范围内的高温尺寸变化(Hysteresis Gap)为80μm以下。
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公开(公告)号:CN104597728B
公开(公告)日:2020-05-01
申请号:CN201410592323.4
申请日:2014-10-29
IPC分类号: G03F7/42
摘要: 本发明提供一种剥离液及利用该剥离液的显示装置制造方法,该剥离液包含非质子性极性溶剂、胺类化合物及质子性极性溶剂。以剥离液的总重量为基准,所述剥离液可以包含1~90重量部的所述非质子性极性溶剂、1~10重量部的所述胺类化合物以及1~30重量部的所述质子性极性溶剂。利用所述剥离液能够在短时间剥离光刻胶,且能够减少线路及彩色滤光器等所遭受的损伤。
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公开(公告)号:CN104597728A
公开(公告)日:2015-05-06
申请号:CN201410592323.4
申请日:2014-10-29
IPC分类号: G03F7/42
摘要: 本发明提供一种剥离液及利用该剥离液的显示装置制造方法,该剥离液包含非质子性极性溶剂、胺类化合物及质子性极性溶剂。以剥离液的总重量为基准,所述剥离液可以包含1~90重量部的所述非质子性极性溶剂、1~10重量部的所述胺类化合物以及1~30重量部的所述质子性极性溶剂。利用所述剥离液能够在短时间剥离光刻胶,且能够减少线路及彩色滤光器等所遭受的损伤。
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公开(公告)号:CN102161942B
公开(公告)日:2014-12-31
申请号:CN201110041801.9
申请日:2011-02-18
申请人: 株式会社东进世美肯
摘要: 本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1,3-二甲基-2-咪唑啉酮(1,3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物,则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料,从而可缩短制造工艺时间,其降低生产费用,确保工艺安全性。
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公开(公告)号:CN102576192B
公开(公告)日:2014-01-01
申请号:CN201080048213.1
申请日:2010-10-21
申请人: 株式会社东进世美肯
CPC分类号: G03F7/0007 , G03F7/0233
摘要: 本发明涉及感光性树脂组合物,特别是涉及一种感光性树脂组合物,其为用于形成层间有机绝缘膜的正型感光性树脂组合物,其特征在于,含有选自a)UV稳定剂、b)自由基清除剂、以及c)抗氧化剂中的1种以上的化合物。本发明的感光性树脂组合物用作TFT-LCD的层间有机绝缘膜,不仅能在光取向用液晶工序中进行过渡曝光时改善液晶变形现象,而且容易调节图案的分辨率,特别适合层间有机绝缘膜的平坦化膜形成。
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