公开(公告)号：CN117385320A

公开(公告)日：2024-01-12

申请号：CN202310841884.2

申请日：2023-07-10

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 李娥凜 ,  金桢国 ,  金辉 ,  文英慜 ,  宋昇勇 ,  赵恩翡 ,  黄圭焕

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  B23P15/00 ,  H10K71/16

摘要： 掩模组件及其制造方法以及制造显示装置的设备和方法。掩模组件包括：掩模框架，包括开口区；支撑构件，设置在掩模框架上以将开口区划分为至少两个；以及掩模片，设置在支撑构件上以与开口区重叠，并且包括不平坦的边缘部分以及多个孔。

公开(公告)号：CN117305764A

公开(公告)日：2023-12-29

申请号：CN202310757246.2

申请日：2023-06-26

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 郑茶姬 ,  朴相河 ,  宋昇勇 ,  赵恩翡 ,  崔玲硕 ,  黄圭焕

IPC分类号： C23C14/04 ,  H10K71/16 ,  C23C16/04

摘要： 本申请涉及用于制造显示设备的装置、掩模组件和制造显示设备的方法。用于制造显示设备的装置包括掩模组件，掩模组件包括：掩模框架，包括开口区域；至少一个屏蔽棒，跨掩模框架的开口区域在张紧状态下固定在掩模框架上；以及多个掩模片，覆盖掩模框架的开口区域的至少部分并且至少部分地与至少一个屏蔽棒重叠。至少一个屏蔽棒包括：第一屏蔽构件；第二屏蔽构件，至少部分地与第一屏蔽构件重叠；以及第三屏蔽构件，至少部分地与第一屏蔽构件重叠。第二屏蔽构件和第三屏蔽构件设置在第一屏蔽构件上方，并且相比于第一屏蔽构件靠近多个掩模片，第二屏蔽构件和第三屏蔽构件更靠近多个掩模片。

公开(公告)号：CN117089807A

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202310486560.1

申请日：2023-04-28

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金桢国 ,  宋昇勇 ,  赵原济 ,  赵恩翡 ,  黄圭焕

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C16/04

摘要： 提供了一种掩模组件和掩模替换方法，所述掩模替换方法包括：设置掩模组件，掩模组件包括包含开口的框架、设置在框架上的第一掩模以及在平面图中与第一掩模叠置的第一焊接部；从框架去除第一掩模；以及在其上设置有第一焊接部的框架上形成第二掩模和在平面图中与第二掩模叠置的第二焊接部。第一焊接部可以与第二掩模间隔开，并且第一焊接部和第二焊接部可以在一方向上布置。

公开(公告)号：CN108172592B

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN201710853664.6

申请日：2017-09-20

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 张文源 ,  金胜勳 ,  成宇镛 ,  宋昇勇

IPC分类号： H10K59/12 ,  H10K50/844 ,  H10K77/10 ,  H10K71/00

摘要： 本文提供了柔性有机发光显示装置及其制造方法。柔性有机发光显示装置包括金属氧化物渗层，该金属氧化物渗层作为堆叠在有机发光器件上及周围的多个有机层中的至少一个的一部分。

公开(公告)号：CN115811906A

公开(公告)日：2023-03-17

申请号：CN202211097070.4

申请日：2022-09-08

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 玄珍浩 ,  尹熙敞 ,  李亨燮 ,  李惠珉 ,  成宇镛 ,  宋昇勇

IPC分类号： H10K59/122 ,  H10K59/123 ,  H10K59/131 ,  H10K71/00

摘要： 提供了一种显示装置和设置显示装置的方法，所述显示装置包括：基底，包括基体部分和从基体部分突出的突出图案；像素电极，在突出图案上；像素限定层，在像素电极上并且暴露像素电极；发光层，在由像素限定层暴露的像素电极上；共电极，在发光层上；第一无机封装层，在共电极上；第二无机封装层，在第一无机封装层上；以及外涂层，在第二无机封装层上。像素限定层限定发光区域，并且第一无机封装层和第二无机封装层在发光区域中彼此直接接触。

公开(公告)号：CN115707300A

公开(公告)日：2023-02-17

申请号：CN202210971446.3

申请日：2022-08-12

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 朴正善 ,  郭惠珍 ,  金娥珑 ,  金载益 ,  朴熙敏 ,  宋昇勇 ,  李德重 ,  李娟和 ,  李濬九 ,  黄圭焕

IPC分类号： H10K59/122 ,  H10K59/123

摘要： 本发明涉及显示装置。该显示装置包括：基板；第一电极；第二电极，与第一电极邻近；第一发射层，在第一电极上；第二发射层，在第二电极上；第一低粘合图案，在平面图中在第一发射层的中心与第二发射层的中心之间；第一负电荷产生层，连续布置以覆盖第一发射层、第二发射层和第一低粘合图案；第一正电荷产生层，在第一负电荷产生层上；第一上发射层，在第一正电荷产生层上，并且与第一发射层重叠；第二上发射层，在第一正电荷产生层上，并且与第二发射层重叠；以及公共电极，在第一上发射层和第二上发射层上。

公开(公告)号：CN114551772A

公开(公告)日：2022-05-27

申请号：CN202111332886.6

申请日：2021-11-11

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 成宇镛 ,  徐政汉 ,  宋昇勇 ,  金湘甲

IPC分类号： H01L51/56 ,  H01L51/52 ,  H01L27/32

摘要： 公开了一种显示装置及其制造方法，所述制造方法包括：准备基底；在基底中形成至少一个凹槽；在凹槽的内壁上形成抗氧化膜；在基底上形成第一无机层，并且在基底和第一无机层之间形成抗氧化膜。

公开(公告)号：CN114540756A

公开(公告)日：2022-05-27

申请号：CN202111359997.6

申请日：2021-11-17

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 文敏浩 ,  文英慜 ,  宋昇勇 ,  任星淳

IPC分类号： C23C14/04 ,  H01L51/56 ,  B23K26/362

摘要： 提供一种掩模组件及该掩模组件的制造方法。掩模组件包括：掩模框架，在中央处定义有第一开口部，并包括围绕所述第一开口部且定义有至少一个凹部的外侧框架；掩模主体，与所述第一开口部对应地被布置，定义有在平面上的面积小于所述第一开口部的多个第二开口部；第一子掩模，布置于所述掩模主体的上部，在整个表面定义有在平面上的面积小于各个所述第二开口部的多个第三开口部，并利用金属物质形成；第二子掩模，布置于所述第一子掩模的上部，在整个表面定义有在平面上的面积小于各个所述第三开口部的多个第四开口部，并利用高分子物质形成；以及焊接部，在所述至少一个凹部的内部布置于所述第二子掩模的上部，据此，可提供低重量的大型掩模组件。

公开(公告)号：CN114164398A

公开(公告)日：2022-03-11

申请号：CN202111043008.2

申请日：2021-09-07

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 孙智熙 ,  文英慜 ,  李德重 ,  文敏浩 ,  宋昇勇 ,  李璱 ,  任星淳

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/50 ,  C23C16/04 ,  C23C16/458 ,  H01L51/56

摘要： 实施例提供了一种沉积设备，所述沉积设备包括掩模框架、开口片、沉积掩模和静电吸盘。在掩模框架中，限定有第一开口部。开口片设置在掩模框架上。在开口片中，限定有与第一开口部叠置的第二开口部。沉积掩模设置在开口片上。在沉积掩模中，限定有与第二开口部叠置的多个第三开口部。静电吸盘设置在沉积掩模上并且其上设置有基底。基底设置在静电吸盘的表面上，并且AC电力施加到沉积掩模。

公开(公告)号：CN114107891A

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN202111010804.6

申请日：2021-08-31

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 文英慜 ,  文敏浩 ,  宋昇勇 ,  任星淳

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24

摘要： 本发明提供了掩模组件以及用于制造掩模组件的方法。该掩模组件包括：其中限定有第一开口的掩模框架，掩模框架包括第一开口延伸通过的前表面；以及沉积掩模，附接到掩模框架的前表面，并且多个第二开口被限定为通过沉积掩模。掩模框架包括其中前表面沿着重力方向延伸的附接定向，沉积掩模包括附接到在附接定向中的掩模框架的前表面并且多个第二开口被限定为通过的初始掩模，并且具有沿着重力方向延伸的前表面的掩模框架的附接定向沿着重力方向将掩模框架的第一开口设置为对应于初始掩模的多个第二开口中的全部。