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公开(公告)号：CN111596394B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202010568736.4
申请日：2020-06-19
申请人： 三明福特科光电有限公司
摘要： 本发明涉及一种抑制蓝紫边胶合防红曝滤光膜，由39层膜层依次堆叠而成。发明的抑制蓝紫边胶合双通滤光膜能有效截止短波400nm以下的蓝紫光色散，在白天可见光420‑650nm和夜晚补光灯近红外830‑950nm波长具有高的透过率，对于700‑780nm的在白天易产生“红曝”光谱的近红外光具有较好的截止。
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公开(公告)号：CN116417234A
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202111679068.3
申请日：2021-12-31
申请人： 横店集团东磁股份有限公司
IPC分类号： H01F41/02 , H01F1/147 , H01F1/24 , H01F1/37 , H01F27/255 , C23C14/35 , C23C14/08 , C23C14/10
摘要： 本发明提供了一种低损耗软磁粉末及其制备方法、软磁粉芯。上述制备方法包括以下步骤：步骤S1，将金属软磁粉末进行酸洗，得到酸洗磁粉；步骤S2，采用磁控溅射的方式在酸洗磁粉表面沉积金属氧化层或非金属氧化物层，然后进行真空热处理，得到低损耗软磁粉末。本发明将磁控溅射工艺应用于软磁粉末的包覆制备过程中，用较为简单的工艺有效提高软磁粉末的表面电阻，制备出可用于高频下的低损耗软磁粉末，其制备的软磁粉芯也具有高频下的低损耗性能。
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公开(公告)号：CN116397193A
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202310388306.8
申请日：2023-04-12
申请人： 电子科技大学
摘要： 高电阻率高截止频率软磁薄膜的制备方法，涉及电子材料技术。本发明包括以下步骤：步骤一、清洗衬底、SiO2靶材和Fe40Co40B20靶材；步骤二、利用磁控溅射镀膜工艺，SiO2靶材与Fe40Co40B20靶材共同溅射，在衬底表面沉积Fe40Co40B20‑SiO2薄膜。本发明全程在室温进行，与现代半导体工艺兼容。通过引入倾斜角，可调控薄膜面内各向异性场，从而提高薄膜的截止频率。通过调控SiO2靶的溅射功率，实现对薄膜电阻率的调控。
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公开(公告)号：CN116381825A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310206709.6
申请日：2023-02-24
申请人： 荣耀终端有限公司
IPC分类号： G02B1/115 , C23C14/16 , C23C14/35 , C23C14/06 , C23C16/40 , C23C16/455 , C23C14/10 , C23C14/12 , C23C14/26 , C23C28/00 , G02B1/18
摘要： 本申请公开一种复合材料结构件及其加工方法、电子设备，涉及复合材料结构件技术领域，能在复合材料结构件的外观具有真金质感的同时，保证复合材料结构件的耐磨性能、并能降低复合材料结构件的成本。其中，该复合材料结构件包括：基材和光学调整膜层，基材包括第一表面；光学调整膜层设置于第一表面所朝向的一侧，光学调整膜层的维氏硬度大于或等于800；复合材料结构件包括第一外观面，光学调整膜层用于调整第一外观面的颜色，以使第一外观面呈预设颜色，预设颜色在Lab颜色空间中对应的L值、a值、b值分别为L0、a0和b0，L0大于或等于85且小于或等于92，a0大于或等于2且小于或等于5，b0大于或等于22且小于或等于30。
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公开(公告)号：CN114150274B
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202111278893.2
申请日：2021-10-31
申请人： 东莞市齐品光学有限公司
摘要： 本发明涉及镀膜装置技术领域，具体是一种上下渐变的镀膜装置和渐变色调整方法，包括外置固定圈，所述外置固定圈的内部设置有若干个治具固定板，所述治具固定板的外部为扇形，治具固定板的外壁开设有通孔，所述治具固定板扇形小端开设有弧形的凹槽，治具固定板的小端凹槽内设置有固定板传动座；所述固定板传动座的上端设置有若干个安装片固定板，且安装片固定板的上端固定有固定条安装片，本发明设置有不同外形的渐变挡片，通过改变渐变挡片来控制颜色的渐变范围，改变渐变挡片之间的间控制产品的未遮挡区域的面积，满足产品未遮挡区域的颜色后决定渐变色区域的颜色，渐变区域颜色越淡渐变挡板使用的数量就越多，提高颜色镀膜的准确性。
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公开(公告)号：CN116299822A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310208937.7
申请日：2023-03-07
申请人： 大连理工大学
摘要： 一种可实现红外/激光/可见光兼容隐身的硅基光子晶体及其制备方法，属于功能薄膜材料技术领域。从下到上依次由基底、红外光波段膜层和可见光波段膜层构成，红外光波段膜层由依次交替溅射沉积的不同厚度的高、低折射率材料薄膜层组成，最表层可见光波段膜层由一层低折射率材料薄膜层组成。该硅基光子晶体的总层数为12～16层。本发明适用于不同波长的电磁波探测器；能够实现选择性低发射率，达到合理利用非红外大气窗口进行辐射散热和与10.6μm激光兼容隐身效果；能够实现与森林、海洋、沙漠等不同环境相匹配的伪装色，达到与红外/激光隐身兼容的可见光隐身；制备过程不需要更换靶材，实现原位一体化制备，通过对溅射参数的优化，实现对膜层厚度、均匀性的控制，成膜质量高。
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公开(公告)号：CN116299812A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310029560.9
申请日：2023-01-09
申请人： 同济大学
摘要： 本发明涉及一种金属‑介质偏振光栅及其制备方法，金属‑介质偏振光栅从下自上依次包括Si衬底层、SiO2介质层、SiO2光栅层、以及Al金属光栅层，所述SiO2光栅层上设有若干凹槽，所述凹槽表面上为Al/SiO2金属光栅层。该金属‑介质偏振光栅的制备方法为：(1)在Si衬底层表面镀上一层SiO2薄膜；(2)在步骤(1)的SiO2介质层表面旋涂一层HSQ光刻胶并依次进行低温固化、电子光刻曝光、热显影；(3)在步骤(2)的SiO2光栅层表面设置金属挡板，沉积金属，制备得到金属‑介质偏振光栅。与现有技术相比，本发明降低了制备难度，提升了其TM的透过率和消光比。
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公开(公告)号：CN116288215A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310374668.1
申请日：2023-04-10
申请人： 深圳森丰真空镀膜有限公司
摘要： 本发明涉及一种光学深色炫彩薄膜及其制备方法。其中，制备方法包括以下步骤：S1、充入工作气体Ar，开启中频镀膜电源电流沉积纯Ti层；S2、充入反应气体N2，调整气压为0.2~0.3Pa，同时开启Ti靶和Si靶，沉积TiSiN层，沉积时间为18~23分钟；S3、以所述TiSiN层为底色膜层，充入工作气体Ar和反应气体O2，交替覆盖沉积TiO2层和SiO2层，得到光学深色炫彩薄膜。所述光学深色炫彩薄膜包括在基底材料表面由内至外沉积的多层膜，其中，第一层为Ti层，第二层为TiSiN层。本发明提供的制备方法同时实现掺杂和多层膜的制备，实现了深色炫彩涂层，进一步丰富了光学炫彩薄膜的颜色，满足市场对新颜色的需求，扩大了所述光学深色炫彩薄膜的应用场景。
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公开(公告)号：CN116288175A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310182815.5
申请日：2023-02-21
申请人： 浙江水晶光电科技股份有限公司
IPC分类号： C23C14/30 , C23C14/34 , C23C14/26 , C23C14/10 , C23C14/08 , C23C16/40 , C23C16/455 , B82Y40/00 , B82Y30/00 , G02B1/115
摘要： 本申请提供涉及一种减反射膜及其制备方法，涉及减反射膜涂层技术领域，包括依次层叠设置的基板、氧化硅膜层和纳米多孔氧化铝膜层；纳米多孔氧化铝膜层通过将氧化铝膜层置于温度在65℃‑95℃之间的纯水或者超纯水中浸泡得到，浸泡时间在2min‑30min之间，减反射膜采用氧化硅和多孔纳米氧化铝两层结构，可达到宽波段0.1％以下的反射率，膜层结构简单，制程稳定，生产良率高，采用高温纯水浸泡，几分钟就可获得稳定的多孔纳米氧化铝膜层，满足工业批量化生产需求，制备简单，适于大幅面、批量化生产，也可用于复杂光学表面及大曲率光学元件等加硬增透膜叠层，在各类镜头、光学面板、显微镜精密测量仪器等光学系统中有广泛应用。
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公开(公告)号：CN113233787B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202110537781.8
申请日：2021-05-17
申请人： 蓝思科技(东莞)有限公司
摘要： 本发明提供了一种NCVM镀膜工艺，涉及镀膜技术领域，NCVM镀膜工艺包括：在同一电镀设备中在玻璃基材表面先进行真空电子束的方式蒸镀OC0，再进行真空蒸镀NCVM，得到镀膜后玻璃，本发明缓解了现有工艺在玻璃表面镀NCVM之前用丝印或者喷涂的方式增加一层OC0材料所导致的工序增加、良率降低、成本高的问题。本发明通过采用真空蒸镀OC0的方式能够省去黄光丝印或喷涂OC0工艺昂贵的生产线以及繁杂的工艺流程，与电镀NCVM工艺进行优化整合，实现了OC0与NCVM一体制备。此种工艺简单，可以极大缩短工艺周期，节约资源，减少成本，提高产能，也有效解决玻璃表面镀NCVM产品强度下降问题，产品信赖性要求不变。
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