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公开(公告)号：CN103228399A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201180009146.7
申请日：2011-03-10
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
CPC classification number: B23K26/046 , B23K26/0622 , B23K26/082 , B23K26/0853 , B23K26/18 , B23K26/364 , B23K26/40 , B23K2101/35 , B23K2103/10
Abstract: 本发明是一种用于在经过阳极氧化的铝质样品上建立颜色及光学密度可选择的可看见标记的方法及装置。该方法包含：提供镭射标记系统，其具有镭射、镭射光学模块以及有效连接至该镭射以控制激光脉冲参数的控制器以及具有储存激光脉冲参数的控制器；选择关联预定颜色及光学密度的储存激光脉冲参数；导控该镭射标记系统以产生具有关联预定颜色及光学密度的激光脉冲参数的激光脉冲，其包含大于大约1且小于大约1000皮秒的时序脉冲宽度以照射至该经过阳极氧化的铝。
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公开(公告)号：CN103098168A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201180017530.1
申请日：2011-03-31
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
CPC classification number: H01J49/0409 , H01J49/105
Abstract: 一种将阀门机构结合至样品抽屉内用于电射辅助光谱仪的改良样品室，随着样品抽屉的开启和关闭用以安置加工所需的样品，容许样品室能够自动将气流旁通、驱气和复原。以此种方式来将阀门机构整合至样品抽屉内的结果，免除针对被操作用来将气流旁通、驱气和复原的外部阀门的需求，从而增加系统产量与降低系统复杂性。
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公开(公告)号：CN103081067A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201180017445.5
申请日：2011-03-29
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
IPC: H01L21/301 , H01L21/78
CPC classification number: H01S3/1305 , B23K26/0622 , H01L23/5258 , H01L2924/0002 , H01S3/0057 , H01S3/102 , H01L2924/00
Abstract: 藉由镭射来处理像是半导体晶圆或其他材料的工件，其中包含选定对应于与经预先定义的时间性脉冲廓型相关联的靶材类型的靶材以进行处理。所述经预先定义的时间性脉冲廓型的至少一者可为三角形。该靶材类型可包含例如未经钝化导电性链接或其他的裸露金属结构。根据与该选定靶材相关联的靶材类型以产生具有三角形时间性脉冲廓型的镭射脉冲。利用所产生的镭射脉冲以处理该选定结构。
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公开(公告)号：CN102906578A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201180022004.4
申请日：2011-05-02
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor： 维侬·库克
IPC: G01R31/26
CPC classification number: G01R31/2893 , G01R31/01
Abstract: 测试和分类电子装置（34、36）的改良方法，其使用应用于一单一轨道（14）的二或更多个测试站（38、40）和二或更多个分类站（42、44）以改良系统产量。应用二或更多个测试站（38、40）和二或更多个分类站（42、44）至一单一轨道（14）则达成了改良的系统产量，同时增加的系统成本低于每一测试站（38、40）安装重复轨道所预期的成本。
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公开(公告)号：CN101617264B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200780050399.2
申请日：2007-12-10
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
IPC: G02F1/1335 , G02B6/13
Abstract: 用于激光加工连续移动的薄片材料的系统和方法包含一个或一个以上激光加工头，其经配置以用一个或一个以上激光束照明所述移动的薄片材料。所述薄片材料例如可包含在激光工艺期间从第一辊连续移动到第二辊的光学膜。在一个实施例中，真空夹盘经配置以将所述移动的薄片材料的第一部分可移除地固定到其处。所述真空夹盘控制当所述第一部分被所述一个或一个以上激光束加工时所述移动的薄片材料的速率。在一个实施例中，传送机包含多个真空夹盘，其经配置以在激光加工期间接连固定到所述薄片材料的不同部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101981768B
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN200980110805.9
申请日：2009-03-27
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor： 彭晓原 , 布莱恩·W.·拜耳德 , 威廉·J.·乔丹 , 大卫·马汀·海明威
CPC classification number: H01S3/0057 , B23K26/0622 , G02F1/0327
Abstract: 一种激光脉冲成形技术产生了经剪裁激光脉冲频谱输出(64、66)。该等激光脉冲可以被程序化，以具有所希的脉冲宽度与脉冲形状(例如：次奈秒至10奈秒-20奈秒的脉冲宽度，而具有1奈秒至数奈秒的前缘上升时间)。较佳实施例是以一或更多个电光调变器(250、254)来执行，用以接收驱动讯号，而选择地改变入射脉冲激光放射的数量(106、112、114)，以形成经剪裁脉冲输出。触发来自该脉冲激光放射的该驱动讯号，以抑制与连接处理系统的其它级有关的扰动，且实质上去除与脉冲激光放射建立时间有关的扰动。
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公开(公告)号：CN101887032B
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201010211685.6
申请日：2006-07-07
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N21/47 , G01N2021/8822 , G02B13/22
Abstract: 本发明提供一种系统及方法，通过本发明提出以成像平面镜状物体(102)，诸如：半导体晶圆。于实施例中，用于成像于平面镜状物体(102)的缺陷的一种成像系统(100)包括远心透镜(110)，其具有充分非球面表面，使远心透镜实质修正光学像差。成像系统(100)还包括远心光圈(116)，于其包括孔径，以阻断自平面镜状物体(102)所反射的光线而允许自缺陷所反射的光线为通过孔径。成像系统(100)更包括透镜群组(108)，其具有定位于远心光圈(116)与透镜群组(108)之间的系统光圈。透镜群组(108)无关于远心透镜(110)而实质修正光学像差。
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公开(公告)号：CN101223628B
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN200680025903.9
申请日：2006-07-11
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
IPC: H01L21/027
CPC classification number: B23K26/0665 , B23K26/032 , B23K26/064 , B23K26/0648 , B23K2101/40
Abstract: 一种抑制工作雷射射束(12’)的失真的方法，该工作雷射射束(12’)是被导引以入射在一呈现以通过雷射链路处理系统(100)处理的靶极样本(14)上，该方法是使用空间滤波器(102)以自该工作雷射射束去除杂散光线所引起的失真。
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公开(公告)号：CN102365795A
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：CN201080014097.1
申请日：2010-03-17
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
CPC classification number: H01S3/109 , G02F2001/354 , H01S3/09415
Abstract: 一种配置以用于第二级(342)及更高级(352、552、652、782)谐波激光束能量的腔内谐波产生的激光(300、500、600、700、800、900)包含像是曲面映镜的模式-匹配光学组件(360、670、910)以用于回收一中级谐波激光束能量的未经使用部分，藉此改善更高级谐波激光束能量产生效率性(即如第三级或更高级谐波激光束能量产生效率性)，而无须牺牲该更高级谐波激光束能量的光束质量。该曲面映镜可经设置于该激光的一共振激光腔(306)之外。该曲面映镜的曲率半径和位置是经选定，因而该所回收之第二级谐波激光束能量的光束半径及光束发散性在沿一入方第二级谐波激光束之光束路径上各处基本上是与该入方第二级谐波激光束能量的光束半径及光束发散性相同。
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公开(公告)号：CN101317311B
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN200680044424.1
申请日：2006-11-30
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
CPC classification number: B23K26/12 , B23K26/064 , B23K26/0643 , B23K26/128 , B23K26/14 , B23K26/142
Abstract: 一清泄气体注入埠口(74)、激光束衰减输入窗口(24)及激光快门(20)的较佳具体实施例组成一UV激光光学系统(10)的子系统，其中一激光束被完全地包封，以减少该等光学系统构件(44、60、72)的污染。清泄气体是透过一光束管组(18)内多个位置所注入，以确保对于污染敏感的光学构件表面(78)位在该清泄气体的流动路径内。该输入窗口运作如一固定程度的衰减器，借以限制气载分子与粒子的光聚合作用。周期性地旋转夹持器(142)内按非对称方式安置的光学组件，可降低对于光学构件的烧灼损伤。
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