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公开(公告)号：CN101291770B
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN200680038538.5
申请日：2006-10-17
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor： 马克·寇摩斯基
CPC classification number: B23K26/0853 , B23K26/04 , B23K26/043 , B23K26/0622 , B23K26/0884 , B23K26/389 , B23K26/40 , B23K2101/40 , B23K2103/172 , H05K3/0026 , H05K2201/2054 , H05K2203/163
Abstract: 一种用于执行表面轮廓测量的有效率的方法和系统(90)，其促进激光加工的生产率。激光加工处理期间可执行靶材(30)样本的多点表面轮廓测量或是靶材样本表面(66)轮廓和靶材样本厚度(70)的即时连续测量和监测。针对欲进行激光加工的靶材样本的厚度测量可微调传送的激光能量(28)而造成较高品质的靶材物质移除。
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公开(公告)号：CN101617264A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200780050399.2
申请日：2007-12-10
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
IPC: G02F1/1335 , G02B6/13
Abstract: 用于激光加工连续移动的薄片材料的系统和方法包含一个或一个以上激光加工头，其经配置以用一个或一个以上激光束照明所述移动的薄片材料。所述薄片材料例如可包含在激光工艺期间从第一辊连续移动到第二辊的光学膜。在一个实施例中，真空夹盘经配置以将所述移动的薄片材料的第一部分可移除地固定到其处。所述真空夹盘控制当所述第一部分被所述一个或一个以上激光束加工时所述移动的薄片材料的速率。在一个实施例中，传送机包含多个真空夹盘，其经配置以在激光加工期间接连固定到所述薄片材料的不同部分。
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公开(公告)号：CN101317311A
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200680044424.1
申请日：2006-11-30
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
CPC classification number: B23K26/12 , B23K26/064 , B23K26/0643 , B23K26/128 , B23K26/14 , B23K26/142
Abstract: 一清泄气体注入埠口(74)、激光束衰减输入窗口(24)及激光快门(20)的较佳具体实施例组成一UV激光光学系统(10)的子系统，其中一激光束被完全地包封，以减少该等光学系统构件(44、60、72)的污染。清泄气体是透过一光束管组(18)内多个位置所注入，以确保对于污染敏感的光学构件表面(78)位在该清泄气体的流动路径内。该输入窗口运作如一固定程度的衰减器，借以限制气载分子与粒子的光聚合作用。周期性地旋转夹持器(142)内按非对称方式安置的光学组件，可降低对于光学构件的烧灼损伤。
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公开(公告)号：CN116963864A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202280018417.3
申请日：2022-02-14
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
IPC: B23K26/062
Abstract: 本发明揭示众多实施方式。在一个实施方式中，一种激光处理设备包括一工件处置系统，该工件处置系统具有：一退绕总成，其包括可操作以支撑一工件的一退绕材料辊的一退绕主轴；及一重绕总成，其包括可操作以支撑该工件的一重绕材料辊且自该激光处理设备接收该工件的一重绕主轴。在另一实施方式中，一种激光处理设备包括一工件处置系统，该工件处置系统具有一幅材处置总成，该幅材处置总成附接至经建构以支撑支撑一工件的一退绕材料辊的一退绕主轴的一上部结构，其中该幅材处置总成安置于该夹具上方的一空间内。该激光处理设备进一步包括一幅材张紧器总成，该幅材张紧器总成经建构以将一偏置力施加于张紧滚筒上以将该工件维持于一所要的张紧状态下。
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公开(公告)号：CN101291770A
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200680038538.5
申请日：2006-10-17
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor： 马克·寇摩斯基
CPC classification number: B23K26/0853 , B23K26/04 , B23K26/043 , B23K26/0622 , B23K26/0884 , B23K26/389 , B23K26/40 , B23K2101/40 , B23K2103/172 , H05K3/0026 , H05K2201/2054 , H05K2203/163
Abstract: 一种用于执行表面轮廓测量的有效率的方法和系统(90)，其促进激光加工的生产率。激光加工处理期间可执行靶材(30)样本的多点表面轮廓测量或是靶材样本表面(66)轮廓和靶材样本厚度(70)的即时连续测量和监测。针对欲进行激光加工的靶材样本的厚度测量可微调传送的激光能量(28)而造成较高品质的靶材物质移除。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112867578A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202080005766.2
申请日：2020-01-03
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor： 詹姆斯·布鲁克伊塞 , 杰恩·克雷能特 , 马克·寇摩斯基 , 提摩太·纽寇斯 , 杰瑞德·瑞智特尔 , 吉野郁世 , 史蒂夫·密里萨 , 穆罕默德·阿尔帕伊 , 刘源 , 克尔特·伊藤
IPC: B23K26/067 , B23K26/06 , B23K26/38
Abstract: 本发明揭示了众多具体实例。在一个具体实例中，一种激光加工设备包括配置于光束路径内的定位器，激光能量光束可沿该光束路径传播。控制器可用以控制该定位器的操作以使该光束路径在第一主要角范围及第二主要角范围内偏转，且使该光束路径偏转至该第一主要角范围及该第二主要角范围中的每一者内的多个角度。在另一具体实例中，一种整合式光束截止器系统包括：框架；及耦接至该框架的检拾器镜面及光束截止器。在又一具体实例中，一种波前校正光学件包括具有反射表面的镜面，该反射表面具有特征在于条纹任尼克项Z4及Z9的特定比率的形状。本发明揭示有更多具体实例。
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公开(公告)号：CN108463928A
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201780004983.8
申请日：2017-01-26
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor： 马克·寇摩斯基
Abstract: 本案揭示一种镭射处理系统，该镭射处理系统包括：系统框架；处理框架，其由该系统框架可移动地支撑；光学器件壁，其耦接至该处理框架；处理护罩，其耦接至该系统框架且在该光学器件壁的上部周边区域及横向周边区域上方且并排地延伸；以及光学器件护罩，其耦接至该处理护罩。该处理框架经组配来支撑镭射源、工件定位系统及射束输送系统。该处理框架可相对于该处理护罩移动，且该处理框架可相对于该光学器件护罩移动。该处理护罩、该光学器件壁及该处理框架围封用于工件的镭射处理的第一空间。该光学器件护罩、该光学器件壁及该处理框架围封用于收容该镭射源的第二空间。
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公开(公告)号：CN108463928B
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201780004983.8
申请日：2017-01-26
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor： 马克·寇摩斯基
Abstract: 本案揭示一种镭射处理系统，该镭射处理系统包括：系统框架；处理框架，其由该系统框架可移动地支撑；光学器件壁，其耦接至该处理框架；处理护罩，其耦接至该系统框架且在该光学器件壁的上部周边区域及横向周边区域上方且并排地延伸；以及光学器件护罩，其耦接至该处理护罩。该处理框架经组配来支撑镭射源、工件定位系统及射束输送系统。该处理框架可相对于该处理护罩移动，且该处理框架可相对于该光学器件护罩移动。该处理护罩、该光学器件壁及该处理框架围封用于工件的镭射处理的第一空间。该光学器件护罩、该光学器件壁及该处理框架围封用于收容该镭射源的第二空间。
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公开(公告)号：CN101617264B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200780050399.2
申请日：2007-12-10
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
IPC: G02F1/1335 , G02B6/13
Abstract: 用于激光加工连续移动的薄片材料的系统和方法包含一个或一个以上激光加工头，其经配置以用一个或一个以上激光束照明所述移动的薄片材料。所述薄片材料例如可包含在激光工艺期间从第一辊连续移动到第二辊的光学膜。在一个实施例中，真空夹盘经配置以将所述移动的薄片材料的第一部分可移除地固定到其处。所述真空夹盘控制当所述第一部分被所述一个或一个以上激光束加工时所述移动的薄片材料的速率。在一个实施例中，传送机包含多个真空夹盘，其经配置以在激光加工期间接连固定到所述薄片材料的不同部分。
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公开(公告)号：CN101317311B
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN200680044424.1
申请日：2006-11-30
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
CPC classification number: B23K26/12 , B23K26/064 , B23K26/0643 , B23K26/128 , B23K26/14 , B23K26/142
Abstract: 一清泄气体注入埠口(74)、激光束衰减输入窗口(24)及激光快门(20)的较佳具体实施例组成一UV激光光学系统(10)的子系统，其中一激光束被完全地包封，以减少该等光学系统构件(44、60、72)的污染。清泄气体是透过一光束管组(18)内多个位置所注入，以确保对于污染敏感的光学构件表面(78)位在该清泄气体的流动路径内。该输入窗口运作如一固定程度的衰减器，借以限制气载分子与粒子的光聚合作用。周期性地旋转夹持器(142)内按非对称方式安置的光学组件，可降低对于光学构件的烧灼损伤。
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