公开(公告)号：CN107533291A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680020125.8

申请日：2016-03-02

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  越后雅敏 ,  佐藤隆 ,  清水洋子

IPC: G03F7/004 ,  C07D311/78 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/039 ,  C07D311/78 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明的抗蚀剂组合物含有选自特定式子所示的化合物以及将它们作为单体而得到的树脂中的1种以上。

公开(公告)号：CN107430338A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680020529.7

申请日：2016-03-02

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏 ,  樋田匠 ,  佐藤隆

IPC: G03F7/022 ,  C08G8/04

Abstract: 本发明是一种辐射敏感组合物，其含有(A)抗蚀基材、(B)重氮萘醌光活性化合物以及(C)溶剂，该组合物中，固体成分的含量为1～80质量％的范围，溶剂的含量为20～99质量％的范围，该(A)抗蚀基材为特定式所示的化合物。

公开(公告)号：CN107428646A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680018256.2

申请日：2016-03-17

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  越后雅敏 ,  牧野嶋高史

IPC: C07C39/367 ,  C07C37/72 ,  C07C41/38 ,  C07C43/23 ,  C08G8/20 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R1表示碳数1～30的2n价基团，R2～R5各自独立地表示碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、卤素原子、巯基或羟基。其中，选自R1～R5中的至少一个表示包含碘原子的基团，R4中的至少一个和/或R5中的至少一个表示选自由羟基和巯基组成的组中的1种以上。m2和m3各自独立地表示0～8的整数，m4和m5各自独立地表示0～9的整数。其中，m4和m5不同时表示0。n表示1～4的整数，p2～p5各自独立地表示0～2的整数。)

公开(公告)号：CN108137478B

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN201680052524.2

申请日：2016-09-08

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  清水洋子 ,  牧野嶋高史 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: C07C69/96 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  C07C39/15 ,  C07C39/367

Abstract: 使用下述式(1)所示的化合物和/或包含该化合物作为构成成分的树脂。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2～R5各自独立地为碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、卤素原子、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，其中，选自R2～R5的至少1个为羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m2、m3、m4以及m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。)

公开(公告)号：CN107924123B

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201680049043.6

申请日：2016-08-23

Applicant: 学校法人关西大学 ,  三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 工藤宏人 ,  越后雅敏 ,  樋田匠 ,  佐藤隆

IPC: G03F7/004 ,  C07C395/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种包含含有碲的化合物或含有碲的树脂的光刻用材料以及其的制造方法、光刻用组合物、图案形成方法、以及、化合物、树脂、以及它们的纯化方法。

公开(公告)号：CN108698730B

公开(公告)日：2021-07-13

申请号：CN201780011579.3

申请日：2017-02-15

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 荒川翔太 ,  内藤俊也 ,  冈田聪史 ,  薄田健一郎 ,  樋田匠 ,  冈崎春香 ,  伊东史裕

IPC: B65D1/00 ,  A61J1/05 ,  A61J1/06 ,  B32B27/32 ,  B32B27/34 ,  B65D1/09 ,  C08G69/32

Abstract: 提供：加热处理后也具有优异的阻气性和透明性的多层容器和其应用物。本发明的多层容器具有以聚烯烃树脂中的至少1种为主成分的层(X)和以聚酰胺树脂(A)为主成分的层(Y)，前述聚酰胺树脂(A)由源自二胺的结构单元和源自二羧酸的结构单元构成，前述源自二胺的结构单元的70摩尔％以上来自于间苯二甲胺，前述源自二羧酸的结构单元的30～60摩尔％来自于碳数4～20的α,ω‑直链脂肪族二羧酸、且前述源自二羧酸的结构单元的70～40摩尔％来自于间苯二甲酸。

公开(公告)号：CN107428646B

公开(公告)日：2021-03-02

申请号：CN201680018256.2

申请日：2016-03-17

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  越后雅敏 ,  牧野嶋高史

IPC: C07C39/367 ,  C07C37/72 ,  C07C41/38 ,  C07C43/23 ,  C08G8/20 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R1表示碳数1～30的2n价基团，R2～R5各自独立地表示碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、卤素原子、巯基或羟基。其中，选自R1～R5中的至少一个表示包含碘原子的基团，R4中的至少一个和/或R5中的至少一个表示选自由羟基和巯基组成的组中的1种以上。m2和m3各自独立地表示0～8的整数，m4和m5各自独立地表示0～9的整数。其中，m4和m5不同时表示0。n表示1～4的整数，p2～p5各自独立地表示0～2的整数。)

公开(公告)号：CN109154777A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201780026209.7

申请日：2017-04-28

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  牧野嶋高史 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: G03F7/11 ,  C08G8/04 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

Abstract: 包含含有碲的化合物或含有碲的树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。

公开(公告)号：CN108698730A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780011579.3

申请日：2017-02-15

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 荒川翔太 ,  内藤俊也 ,  冈田聪史 ,  薄田健一郎 ,  樋田匠 ,  冈崎春香 ,  伊东史裕

IPC: B65D1/00 ,  A61J1/05 ,  A61J1/06 ,  B32B27/32 ,  B32B27/34 ,  B65D1/09 ,  C08G69/32

CPC classification number: A61J1/1468 ,  A61J1/05 ,  A61J1/06 ,  A61M5/3129 ,  A61M2005/3131 ,  A61M2207/00 ,  B29B2911/1414 ,  B29C49/0005 ,  B29C49/06 ,  B29C49/221 ,  B29K2077/00 ,  B29L2031/712 ,  B32B27/32 ,  B32B27/34 ,  B65D1/00 ,  B65D1/09 ,  C08G69/06 ,  C08G69/26 ,  C08G69/32 ,  C08G2390/00

Abstract: 提供：加热处理后也具有优异的阻气性和透明性的多层容器和其应用物。本发明的多层容器具有以聚烯烃树脂中的至少1种为主成分的层(X)和以聚酰胺树脂(A)为主成分的层(Y)，前述聚酰胺树脂(A)由源自二胺的结构单元和源自二羧酸的结构单元构成，前述源自二胺的结构单元的70摩尔％以上来自于间苯二甲胺，前述源自二羧酸的结构单元的30～60摩尔％来自于碳数4～20的α,ω‑直链脂肪族二羧酸、且前述源自二羧酸的结构单元的70～40摩尔％来自于间苯二甲酸。

公开(公告)号：CN107407874A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680020207.2

申请日：2016-03-17

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏 ,  樋田匠 ,  佐藤隆

IPC: G03F7/022 ,  C08F214/18 ,  G03F7/004

Abstract: 一种辐射敏感组合物，其含有抗蚀基材(A)、重氮萘醌光活性化合物(B)以及溶剂(C)，该组合物中的前述溶剂(C)的含量为20～99质量％，前述溶剂(C)之外的成分的含量为1～80质量％，前述抗蚀基材(A)为下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R1为碳数1～30的2n价基团，R2～R5各自独立地表示碳数1～10的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、卤素原子、巯基、或羟基，其中，至少一个R4和/或至少一个R5为选自羟基和巯基中的1种以上，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m4和m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。)