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公开(公告)号：CN107924123A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680049043.6
申请日：2016-08-23
Applicant: 学校法人关西大学 , 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C395/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C395/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种包含含有碲的化合物或含有碲的树脂的光刻用材料以及其的制造方法、光刻用组合物、图案形成方法、以及、化合物、树脂、以及它们的纯化方法。
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公开(公告)号：CN107428717B
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN201680018198.3
申请日：2016-03-02
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07D311/92 , C07B61/00 , C08G61/12 , G03F7/004 , G03F7/038
Abstract: 本发明为下述通式(1)所示的化合物。
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公开(公告)号：CN106462059B
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201580024204.1
申请日：2015-05-08
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 本发明的抗蚀材料含有下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R0各自独立地为包含氧原子的1价基团、包含硫原子的1价基团、包含氮原子的1价基团、烃基或卤原子，p各自独立地为0～4的整数。)
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公开(公告)号：CN109073782A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780026526.9
申请日：2017-04-28
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G02B1/04 , C07C395/00 , G03F7/038 , G03F7/039
CPC classification number: C07C395/00 , G02B1/04 , G03F7/038 , G03F7/039
Abstract: 一种包含含有碲的化合物或含有碲的树脂的光学元件形成组合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107949808A
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201680050394.9
申请日：2016-08-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C07D311/78 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: C07D311/78 , G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/027
Abstract: 本实施方式提供一种光刻用下层膜形成材料，其含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示的化合物的结构单元的树脂中的至少任一种。式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，在同一萘环或苯环中可以相同也可以不同，此处，至少1个R2为羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，n为1～4的整数，n为2以上的整数时，n个[]内的结构单元的结构式可以相同也可以不同，X表示氧原子、硫原子或未桥接，m2各自独立地为0～7的整数，其中，至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1。
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公开(公告)号：CN107924131B
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201680050261.1
申请日：2016-08-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示化合物的结构单元的树脂中的至少任意者的光刻用下层膜形成材料。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基或羟基，在同一萘环或苯环中任选相同或不同，n为1～4的整数，n为2以上的整数的情况下，n个[]内的结构单元的结构式任选相同或不同，X表示氧原子、硫原子或为无桥接，m2各自独立地为0～7的整数，此处至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1，其中，选自由R1及R2组成的组中的至少1个为包含碘原子的基团。)
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公开(公告)号：CN107924131A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680050261.1
申请日：2016-08-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C07D405/04 , C08G61/122 , C08G2261/11 , C08G2261/1424 , C08G2261/146 , C08G2261/148 , C08G2261/149 , C08G2261/3242 , C08G2261/59 , C08G2261/76 , C08G2261/90 , C09D165/00 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2037 , G03F7/322 , G03F7/38 , H01L21/0274
Abstract: 本发明提供含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示化合物的结构单元的树脂中的至少任意者的光刻用下层膜形成材料。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基或羟基，在同一萘环或苯环中任选相同或不同，n为1～4的整数，n为2以上的整数的情况下，n个[]内的结构单元的结构式任选相同或不同，X表示氧原子、硫原子或为无桥接，m2各自独立地为0～7的整数，此处至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1，其中，选自由R1及R2组成的组中的至少1个为包含碘原子的基团。)
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公开(公告)号：CN107428717A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680018198.3
申请日：2016-03-02
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07D311/92 , C07B61/00 , C08G61/12 , G03F7/004 , G03F7/038
CPC classification number: G03F7/0045 , C07B61/00 , C07C37/20 , C07C39/14 , C07C39/17 , C07C39/225 , C07C39/42 , C07D311/78 , C07D311/92 , C07D311/96 , C08G61/12 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/2039 , G03F7/327
Abstract: 本发明为下述通式(1)所示的化合物。
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公开(公告)号：CN107533291B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201680020125.8
申请日：2016-03-02
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D311/78 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明的抗蚀剂组合物含有选自特定式子所示的化合物以及将它们作为单体而得到的树脂中的1种以上。
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