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公开(公告)号：CN112088336A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201980028515.3
申请日：2019-04-26
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有下述式(1)所示的化合物。[LxTe(OR1)y] (1)(上述式(1)中，L为除OR1以外的配体，R1为氢原子、取代或未取代的碳数1～20的直链状或碳数3～20的支链状或环状的烷基、取代或未取代的碳数6～20的芳基、和取代或未取代的碳数2～20的烯基中的任意者，x为0～6的整数，y为0～6的整数，x与y的总计为1～6，x为2以上的情况下，多个L任选相同或不同，y为2以上的情况下，多个R1任选相同或不同。)。
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公开(公告)号：CN112041705A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201980028439.6
申请日：2019-04-26
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G02B1/04
Abstract: 一种光学部件形成组合物，其含有下述式(1)所示的配体化合，R物1为。[氢L原xT子e(、O取R代1)y或](未1)取(上代述的式碳(数1)1中～，2L0的为直除链OR状1以或外碳的数3～20的支链状或环状的烷基、取代或未取代的碳数6～20的芳基、和取代或未取代的碳数2～20的烯基中的任意者，x为0～6的整数，y为0～6的整数，x与y的总计为1～6，x为2以上的情况下，多个L任选相同或不同，y为2以上的情况下，多个R1任选相同或不同。)。
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公开(公告)号：CN111788176A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201880090466.1
申请日：2018-11-21
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C235/76 , C08G16/02 , G03F7/11 , G03F7/26 , C07D207/448
Abstract: 下述式(0)所示的化合物。(上述式(0)中，RX表示碳数1～70的2nA价的基团或单键，R1A各自独立地表示任选具有取代基的碳数1～30的烷基、任选具有取代基的碳数6～30的芳基、任选具有取代基的碳数2～30的交联基团、任选具有取代基的碳数1～30的烷氧基、任选具有取代基的碳数4～30的马来酰胺酸基、任选具有取代基的碳数4～30的马来酰亚胺基、卤素原子、硝基、任选具有取代基的碳数0～30的氨基、羧基、巯基、及羟基中的任意者，R1A为前述烷基、前述芳基、前述交联基团及前述烷氧基中的任意基团时，任选包含选自由醚键、酮键、及酯键组成的组中的至少1种键，R1A中的至少1者为任选具有取代基的碳数4～30的马来酰胺酸基、及任选具有取代基的碳数4～30的马来酰亚胺基中的任意者，X表示氧原子或硫原子、或者不存在，R各自独立地表示苯环、萘环、及蒽环中的任意者，m各自独立地为0～9的整数，此处，m中的至少1个为1～9的整数，nA为1～4的整数。)
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公开(公告)号：CN111164511A
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201880063602.8
申请日：2018-09-28
Applicant: 学校法人关西大学 , 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种光刻用组合物，其含有下述式(1)所示的化合物。[LxTe(OR1)y](1)(上述式(1)中，L为OR1以外的配体，R1为氢原子、取代或无取代的碳数1～20的直链状或碳数3～20的支链状或环状的烷基、取代或无取代的碳数6～20的芳基、和取代或无取代的碳数2～20的烯基中的任意者，x为0～6的整数，y为0～6的整数，x与y的总计为1～6，x为2以上的情况下，多个L任选相同或不同，y为2以上的情况下，多个R1任选相同或不同)。
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公开(公告)号：CN104995559B
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201480008013.1
申请日：2014-01-28
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C43/20 , C07C43/257 , C07C69/96 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 提供耐热性优异、对安全溶剂的溶解性高、高灵敏度、且能够赋予良好的抗蚀图案形状的抗蚀剂组合物。这样的抗蚀剂组合物含有下述通式(1)或(2)所示的化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106462072B
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：CN201580024203.7
申请日：2015-05-08
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/027
Abstract: 本发明的光刻用膜形成材料，其含有下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R0各自独立地是含有氧原子的一价基团、含有硫原子的一价基团、含有氮原子的一价基团、烃基或卤原子，p各自独立地是0～4的整数。)
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公开(公告)号：CN106133604B
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201580013887.0
申请日：2015-03-13
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/038 , C07C39/15 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明的保护剂组合物包含特定的式子所表示的化合物。上述化合物尽管是低分子量，由于其高芳香族性骨架而具有高的耐热性，从而也可在高温烘焙条件下使用。由于如上述那样的构成，本发明的保护剂组合物的耐热性优异、对于安全溶剂的溶解性高、高灵敏度且能够赋予良好的保护剂图案形状。即，本发明的保护剂组合物作为酸扩增型非高分子系保护剂材料是有用的。
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公开(公告)号：CN110023277A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201780074028.1
申请日：2017-11-30
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Inventor： 越后雅敏
IPC: C07C43/23 , C07C43/295 , C07D311/78 , C08G8/08 , C08L61/04 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明为具有下述式(0)所示的特定结构的化合物、具有源自该化合物的结构单元的树脂、含有该化合物和/或该树脂的各种组合物、以及使用该组合物的各种方法。
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公开(公告)号：CN110023276A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201780074026.2
申请日：2017-11-30
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Inventor： 越后雅敏
IPC: C07C39/15 , C07C39/12 , C07D311/78 , C08G8/20 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/027
Abstract: 本发明如下：具有下述式(0)所示的特定的结构的化合物；具有源自该化合物的结构单元的树脂；含有该化合物和/或该树脂的各种组合物；以及，使用该组合物的各种方法。
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公开(公告)号：CN109715592A
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201780056312.6
申请日：2017-09-13
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Inventor： 越后雅敏
CPC classification number: C07C39/21 , C07D311/78 , C08G8/20 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/11 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种下述式(0)所示的化合物。(式(0)中，RY为碳数1～30的烷基或碳数6～30的芳基，RZ为碳数1～60的N价的基团或单键，RT各自独立地为任选具有取代基的碳数1～30的烷基、任选具有取代基的碳数6～30的芳基、任选具有取代基的碳数2～30的烯基、任选具有取代基的碳数1～30的烷氧基、卤原子、硝基、氨基、羧酸基、硫醇基或羟基，前述烷基、前述芳基、前述烯基和前述烷氧基任选包含醚键、酮键或酯键，此处，RT中的至少1个为羟基，而且RT中的至少1个为碳数2～30的烯基，X表示氧原子、硫原子、单键或为无桥接，m各自独立地为0～9的整数，此处，m中的至少1个为2～9的整数或m中的至少2个为1～9的整数、N为1～4的整数，此处，N为2以上的整数的情况下，N个[]内的结构式任选相同或不同，r各自独立地为0～2的整数。)
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