公开(公告)号：CN106311524B

公开(公告)日：2020-04-14

申请号：CN201610514611.7

申请日：2016-07-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 吉富济 ,  尾上幸太朗 ,  筱崎贤哉

IPC: B05B13/02 ,  B41J2/01

Abstract: 本发明提供一种能够使功能液滴排出头与工件上的围堤部高精度地对位的液滴排出装置。该液滴排出装置(1)包括液滴排出头(34)、工件载置台(20)和第1拍摄装置(41)，工件(W)沿主扫描方向(X轴方向)移动了规定的距离时基于由第1拍摄装置(41)取得的拍摄图像来检测形成在工件(W)上的基准标记的位置，并且基于由移动量检测机构(23)检测的工件载置台(20)的移动量来推测基准标记的位置，接着，基于图像检测出的基准标记的位置与基于工件载置台(20)的移动量推测的基准标记的位置的相关关系，修正工件(W)与液滴排出头(34)的相对位置。由此，能够使功能液滴排出头与工件上的围堤部高精度地对位。

公开(公告)号：CN108568383A

公开(公告)日：2018-09-25

申请号：CN201810181802.5

申请日：2018-03-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 宫崎一仁 ,  柿野彰 ,  吉富济

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B41J2/04 ,  B41J2/1714 ,  B41J2/2135 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/137 ,  H05B33/10 ,  H05K3/10 ,  B05C5/027 ,  B05C5/0291 ,  B05C11/1039 ,  B05C13/02

Abstract: 本发明涉及液滴排出装置、液滴排出方法、程序和计算机存储介质。在向工件排出功能液的液滴来进行描绘的液滴排出装置中，提高从液滴排出头向工件的液滴的着液精度。控制部(150)在使由液滴排出头(34)排出的液滴着液在形成于基准工件(Wf)的上表面的基准标记后，由第二拍摄部(42)获取基准工件(W)的拍摄图像，根据拍摄图像，检测基准标记的位置与液滴的着液位置的位置偏离量，根据位置偏离量，计算工作台(20)与液滴排出头(34)的相对位置的修正量。

公开(公告)号：CN102671835B

公开(公告)日：2014-12-03

申请号：CN201210071652.5

申请日：2012-03-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 大塚庆崇 ,  吉富济 ,  田上真也 ,  米冈诚司

IPC: B05D1/26 ,  B05C5/02 ,  B05C11/02

Abstract: 本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。从狭缝状的喷出口向基板喷出处理液而形成涂敷膜，不管喷嘴喷出口的液珠的量和来自喷嘴喷出口的喷出压力的变化，都不依赖于现场操作者的熟练程度就能够稳定地进行膜厚形成，使形成在基板上的涂敷膜的有效面积扩大。涂敷膜形成方法包括以下步骤：利用式(1)规定经过时间Ts内的推定膜厚Th，将目标膜厚代入到上述式(1)作为推定膜厚Th，将基板(G)的相对移动速度V设为变量，每隔经过时间Ts求出上述基板的移动速度或相对移动速度V；根据每隔上述经过时间Ts求出的基板的移动速度或相对移动速度V控制基板的移动速度或相对移动速度，Th＝(ΔB+Q)·β/(Ts·V·L) ... (1)。

公开(公告)号：CN102671835A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201210071652.5

申请日：2012-03-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 大塚庆崇 ,  吉富济 ,  田上真也 ,  米冈诚司

IPC: B05D1/26 ,  B05C5/02 ,  B05C11/02

Abstract: 本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。从狭缝状的喷出口向基板喷出处理液而形成涂敷膜，不管喷嘴喷出口的液珠的量和来自喷嘴喷出口的喷出压力的变化，都不依赖于现场操作者的熟练程度就能够稳定地进行膜厚形成，使形成在基板上的涂敷膜的有效面积扩大。涂敷膜形成方法包括以下步骤：利用式(1)规定经过时间Ts内的推定膜厚Th，将目标膜厚代入到上述式(1)作为推定膜厚Th，将基板(G)的相对移动速度V设为变量，每隔经过时间Ts求出上述基板的移动速度或相对移动速度V；根据每隔上述经过时间Ts求出的基板的移动速度或相对移动速度V控制基板的移动速度或相对移动速度，Th＝(ΔB+Q)·β/(Ts·V·L) ... (1)。

公开(公告)号：CN1949079A

公开(公告)日：2007-04-18

申请号：CN200610136356.3

申请日：2006-10-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 池田文彦 ,  池本大辅 ,  吉富济

IPC: G03F7/16

Abstract: 本发明提供一种涂敷装置及涂敷方法，当基板G的前端部到达抗蚀剂喷嘴(78)的正下方附近的设定位置即涂敷开始位置时，停止基板搬送，进行二次测定检查，由光学式距离传感器(162)测定至基板G上面及下面的距离Ld、Le。然后，将基板G的厚度测定值D及浮起高度测定值Hb分别与各自的设定值或基准值「D」、「Hb」进行比较，若比较误差|「D」－D|和|「Hb」－Hb|均在规定容许范围内，则判定「正常」，否则判定「异常」。由此，缩短通过浮起搬送方式的非旋转涂敷法将涂敷液涂敷在被处理基板上的整体涂敷处理时间并且合适地管理浮起台与基板以及喷嘴之间的高度位置关系，使基板上处理液的涂敷膜形成均匀的膜厚。