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公开(公告)号：CN102924341A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201210274523.6
申请日：2012-08-03
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C309/17 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07D327/08 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D307/33 , C07D307/00 , C07C25/18 , C07C17/35 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74
Abstract: 本发明提供盐、光致抗蚀剂组合物和用于生产光致抗蚀剂图案的方法。所述盐由式(I)表示，其中：Q1和Q2各自独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基；L1表示C1-C20三价脂肪族饱和烃基，其中与脂肪族饱和烃链部分的亚甲基结合的氢原子可以被氟原子或羟基代替并且其中亚甲基可以被氧原子、-NR2-或羰基代替，其中R2表示氢原子或C1-C6烷基，L1-OH的羟基位于L1的脂肪族饱和烃链部分；W表示C3-C36脂环烃基，其中亚甲基可以被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基代替，并且其中氢原子可以被羟基、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、C3-C18脂环烃基或C6-C14芳香族烃基代替；和Z+表示有机阳离子。
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公开(公告)号：CN102890415A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201210251293.1
申请日：2012-07-19
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/2041
Abstract: 本发明公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法。所述抗蚀剂组合物包含：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和由式(II)表示的酸生成剂，其中R1、A1、A13、A14、X12、RII1、RII2、LII1、YII1、RII3、RII4、RII5、RII6、RII7、n、s和RII8如说明书中限定。
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公开(公告)号：CN102890408A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201210250668.2
申请日：2012-07-19
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法。所述抗蚀剂组合物具有：树脂(A1)，其具有由式(I)表示的结构单元的；树脂(A2)，其具有由式(II)表示的结构单元并且在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元，和(B)酸生成剂，其中R1、A1、A13、X12、A14、R3和环X1如说明书中限定。
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公开(公告)号：CN102890405A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201210250394.7
申请日：2012-07-19
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法，所述抗蚀剂组合物具有：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和由式(II)表示的酸生成剂，其中R1、A1、A13、A14、X12、Q1、Q2、L1、环W1和Z+如说明书中限定。
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公开(公告)号：CN102786419A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201210152086.0
申请日：2012-05-16
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C69/757 , C07C69/54 , C07C69/76 , C08F222/14 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F222/20 , C08F122/18 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: C08F122/20 , C07C69/757 , C07C2603/74 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供化合物、树脂、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。所述化合物是由式(I)表示的化合物，其中，T1表示单键或C6-C14芳族烃基；L1表示C1-C17二价饱和烃基，其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替；L2和L3各自独立地表示单键或C1-C6二价饱和烃基，其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替；环W1和环W2各自独立地表示C3-C36烃环；R1和R2各自独立地表示氢原子、羟基或C1-C6烷基；R3和R4各自独立地表示羟基或C1-C6烷基；R5表示羟基或甲基；m表示0或1；并且t和u各自独立地表示0至2的整数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102731347A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210103584.6
申请日：2012-04-10
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C309/17 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07C25/02 , C07C17/00 , C07D333/46 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: C07C309/12 , C07C25/18 , C07C303/32 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07D327/08 , C07D333/46 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , Y02P20/55
Abstract: 本发明提供一种盐，光致抗蚀剂组合物，以及用于制备光致抗蚀剂图案的方法。所述盐由式(I)表示，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，n表示0或1，L1表示单键或其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替的C1-C10烷烃二基，条件是当n是0时，L1不是单键，环W表示C3-C36脂族环，其中亚甲基可以被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基代替，并且其中氢原子可以被羟基、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基代替，R1表示羟基或由保护基团保护的羟基，并且Z+表示有机阳离子。
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公开(公告)号：CN101393295B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200810160821.6
申请日：2008-09-16
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明涉及光学薄膜及其制造方法。光学薄膜，其是使组合物成膜再拉伸形成的，所述组合物包含分子内具有2个以上选自丙烯酰基和甲基丙烯酰基中的至少1种基团并具有式(A)所示基团的化合物：式(A)中，B1和B2分别独立地表示羟基、C1-6的烷基、C1-6的烷氧基或环氧丙氧基，X表示2价的烃基、硫醚基、磺酰基、醚键或单键，该烃基也可含-CO-O-，a1和a2分别独立地表示0～4的整数。
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公开(公告)号：CN102002121A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201010269819.X
申请日：2010-08-31
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08F20/52 , C08F220/32 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/52 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/60 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种树脂，所述树脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的结构单元，其中R1表示氢原子，卤素原子或任选具有一个或多个卤素原子的C1至C6烷基；X1表示C2至C36杂环基，包含在所述杂环基中的一个或多个氢原子可以被卤素原子，羟基，C1至C24烃，C1至C12烷氧基，C2至C4酰基，C2至C4酰氧基代替，并且包含在所述杂环基中的一个或多个-CH2-可以被-CO-或-O-代替。
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公开(公告)号：CN101930178A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010212624.1
申请日：2010-06-22
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/20 , C08F2220/303 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种CD均匀性及聚焦缘优异的光致抗蚀剂组合物。本发明的化学放大型光致抗蚀剂组合物含有树脂(A)及酸生成剂(B)，作为树脂(A)的一部分或全部，含有至少使(a1)利用酸的作用而变得碱可溶并且具有C5-20脂环式烃基的(甲基)丙烯酸系单体、(a2)具有含羟基的金刚烷基的(甲基)丙烯酸系单体、以及(a3)具有内酯环的(甲基)丙烯酸系单体共聚而成的重均分子量为2500以上5000以下的共聚物(A1)，共聚物(A1)的含量相对于树脂(A)100质量份为50质量份以上。
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公开(公告)号：CN101898987A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010188189.3
申请日：2010-05-25
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07D307/00 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: C07C381/12 , C07C309/17 , C07C2601/04 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2602/08 , C07C2602/10 , C07C2602/42 , C07C2602/44 , C07C2603/68 , C07C2603/74 , C07C2603/86 , C07D307/77 , C07D307/93 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供：一种以式(I-CC)表示的盐，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子等，X1表示单键等，Y1表示C1-C36脂族烃基等，A1和A2各自独立地表示C1-C20脂族烃基等，Ar1表示可以具有一个或多个取代基的(m4+1)价C6-C20芳族烃基，B1表示单键等，B2表示能够通过酸的作用消除的基团，m1和m2各自独立地表示0至2的整数，m3表示1至3的整数，条件是m1+m2+m3＝3，并且m4表示1至3的整数；和一种光致抗蚀剂组合物，其包含以式(I-CC)表示的盐以及树脂，所述树脂包含具有酸不稳定基团的结构单元，并且不溶或难溶于碱水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱水溶液。
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