-
公开(公告)号：CN104134604A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201410158183.X
申请日：2014-04-18
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种场发射电子源电子束发射性能评测装置及其评测方法。本发明的评测装置包括：真空腔室、真空抽气系统、真空度测量系统、电子枪组件、电源系统、电子束成像系统、电子束偏转系统和探测与采集系统。本发明在电子束的路径上安装两个垂直方向的偏转磁场，控制电子束从边缘至中心依次扫描通过荧光屏上的小孔，从而获得电子束束斑形状、电子束束斑中心束束流强度、束流密度、角电流密度等、电子束发射稳定度等重要的场发射电子源电子束发射性能定量参数，获得上述电子源电子发射的定量化参数，为评价场发射电子源性能，优化场发射电子源制备工艺，完善场发射电子源制备平台提供定量依据。
-
公开(公告)号：CN103943437A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410158154.3
申请日：2014-04-18
Applicant: 北京大学
IPC: H01J9/02
Abstract: 本发明公开了一种场发射电子源发射体尖端塑形装置及其塑形方法。本发明的塑形装置包括：真空腔室、真空抽气系统、真空度测量系统、电子枪组件、电源系统和电子束成像系统。本发明在场发射电子源发射体尖端加热发生钝化，并在阳极上加载临界电场形成场致发射，发射体尖端的表面张力和附加电场产生的电场力在表面达到平衡，实现塑形；经过场发射电子源发射体尖端塑形后，其发射体尖端形成稳定的发射面，稳定的发射面能使场发射电子源发射的电子束束流具有发射电流大，发射方向集中，角电流密度高，单色性好和稳定的束流发射等特点。
-
公开(公告)号：CN102489858B
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201110406462.X
申请日：2011-12-08
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种场发射电子源发射体焊接装置。本发明的焊接装置包括用于调整焊接件位置的位移架和在位移架上固定点焊平台板，在固定点焊平台板的一端设置有陶瓷座安装架，用于安装灯丝陶瓷座；在点焊平台板的一端设置有钨丝安装平台，用于放置钨丝。本发明的焊接装置，通过调整焊接件位置，能够确保焊接精度，用于专门焊接场发射电子源。本发明的场发射电子源发射体焊接装置，焊接件安装简单，焊接定位容易，焊接强度高，氧化问题不明显，焊接成本低，成功率高。
-
公开(公告)号：CN115274386A
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202210792857.6
申请日：2022-07-07
Applicant: 北京大学
IPC: H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/30 , H01J37/305 , B81C1/00 , B81C99/00 , B82B3/00 , B82Y5/00 , B82Y15/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种固态纳米孔批量精密加工装置及其加工方法。本发明包括：离子光学系统、透射式阵列载样样品台、自动位移台、真空样品室、二次电子探测器、图形扫描控制系统和计算机，采用聚焦离子束的焦点，在图形扫描控制系统的精密控制下，在硅基固态薄膜上定位扫描，可以实现固态纳米孔尺寸的精密可控制备；在加工过程中，能够通过透过纳米孔加工区域的离子束成像衬度，实时监测纳米孔的加工过程，获得可控的离子束加工参数，进一步提高加工精度；采用阵列载样台实现固态纳米孔的批量化精密加工，极大提高了加工效率，单个固态纳米孔的加工周期极大缩短；旨在制造尺寸在1μm与5nm之间的固态纳米孔，以用于蛋白质分子和DNA分子等生物传感检测。
-
公开(公告)号：CN102496541A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201110406532.1
申请日：2011-12-08
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种场发射电子源发叉钨丝成型装置。本发明的焊接装置包括：刀片；底座；控制刀片向下挤压深度的刀片架组；包括一对间距可调的左固定托和右固定托的间距调节组；以及一对用于放置钨丝的钨丝定位片。本发明的成型装置，可以在5°-95°角度范围内的任意角度对钨丝进行精确的弯曲，既能精确保证弯曲角度也能精确保证V型叉具有相同的长度；并且可多根钨丝一次同时成型，极大的提高了发叉钨丝成型的精度和一致性，同时也大大的提高了V型发叉钨丝制作效率，为确保后续焊接和安装精度提供了保证。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102489858A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201110406462.X
申请日：2011-12-08
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种场发射电子源发射体焊接装置。本发明的焊接装置包括用于调整焊接件位置的位移架和在位移架上固定点焊平台板，在固定点焊平台板的一端设置有陶瓷座安装架，用于安装灯丝陶瓷座；在点焊平台板的一端设置有钨丝安装平台，用于放置钨丝。本发明的焊接装置，通过调整焊接件位置，能够确保焊接精度，用于专门焊接场发射电子源。本发明的场发射电子源发射体焊接装置，焊接件安装简单，焊接定位容易，焊接强度高，氧化问题不明显，焊接成本低，成功率高。
-
公开(公告)号：CN117434097A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202311395328.3
申请日：2023-10-25
Applicant: 北京大学
IPC: G01N23/2251 , G01N23/2204
Abstract: 本发明公开了一种透射式电子束激发荧光探测装置及其探测方法。本发明的透射式电子束激发的荧光探测器设置在电子束穿透待分析物质试样后的空间区域，不影响电子束品质和电子显微镜原有的成像和分析功能；使得电子束激发荧光信号能够同时结合电子显微镜系统所获得的二次电子信号，背散射电子信号以及能谱信号等共同实现样品表征分析；由定位样品台、荧光探测器和主承载台转接固定装置集成为一体化模组，仅需要通过电子显微镜系统的主承载台的位置调节，即能够实现荧光探测器的荧光收集镜的第一焦点同电子光学镜筒光轴重合，获得最佳荧光收集条件，设备操作使用简便可靠。
-
公开(公告)号：CN112014418B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202010810449.X
申请日：2020-08-13
Applicant: 北京大学
IPC: G01N23/2251
Abstract: 本发明公开了一种电子束激发荧光收集耦合用离轴反射面镜组件及方法。本发明采用离轴角小于90度的离轴反射面镜配置，所反射会聚或反射准直的电子束激发荧光将偏离所观测样品的定位运动平面，处于电子显微镜的物镜和所观测样品的定位运动平面之间，使得电子束激发荧光的探测和耦合输出区域同样处于上述区域，因此离轴反射面镜组件不会阻碍电子显微镜的所观测样品的正常定位运动；进行电子束激发荧光收集效率的优化设计，保证在优于80％荧光收集效率；本发明作为电子束激发荧光探测系统的荧光收集耦合部件，在高效率收集和耦合电子束激发荧光的同时，保证电子显微镜的样品能够正常定位运动，且电子显微镜的其他探测组件能够正常采集信号。
-
公开(公告)号：CN105225909B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201510592044.2
申请日：2015-09-17
Applicant: 北京大学
IPC: H01J37/20
Abstract: 本发明公开了一种扫描电镜样品台定位装置及其定位方法。本发明的定位装置包括：摄像头、图像采集系统调节架、图像采集系统基台、样品台座、定位样品、图像控制器和数据处理及输出系统；本发明通过引入定位样品台，结合图像采集与处理过程，采用扫描电镜样品台坐标系标定方法，实现了样品台上不同样品位置的定位，省去了在扫描电镜小视野中通过小范围移动样品台来进行样品寻找和定位的繁琐且易出错的过程，实现样品的准确、快速定位，极大提高了扫描电镜实验效率，能够为扫描电镜用户节省大量样品搜索与定位所花费的时间与费用。
-
公开(公告)号：CN103943437B
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201410158154.3
申请日：2014-04-18
Applicant: 北京大学
IPC: H01J9/02
Abstract: 本发明公开了一种场发射电子源发射体尖端塑形装置及其塑形方法。本发明的塑形装置包括：真空腔室、真空抽气系统、真空度测量系统、电子枪组件、电源系统和电子束成像系统。本发明在场发射电子源发射体尖端加热发生钝化，并在阳极上加载临界电场形成场致发射，发射体尖端的表面张力和附加电场产生的电场力在表面达到平衡，实现塑形；经过场发射电子源发射体尖端塑形后，其发射体尖端形成稳定的发射面，稳定的发射面能使场发射电子源发射的电子束束流具有发射电流大，发射方向集中，角电流密度高，单色性好和稳定的束流发射等特点。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
27
records
(took 0.025 seconds)
