公开(公告)号：CN101467206B

公开(公告)日：2011-09-21

申请号：CN200780022266.4

申请日：2007-06-20

申请人： 大日本印刷株式会社

发明人： 三浦阳一 ,  芹泽彻 ,  毒岛伸一郎

IPC分类号： G11B5/60 ,  G11B21/21

CPC分类号： G11B5/4853

摘要： 本发明提供一种能够以低成本生产，且能够充分地实现防止静电破坏或抑制干扰的悬架用基板。该悬架用基板具有：金属基板；形成于所述金属基板上，且具有露出所述金属基板的开口部的绝缘层；形成于所述绝缘层上，且配置于所述开口部附近的接地用配线层；形成于所述开口部，且与所述金属基板及所述接地用配线层接触的地线端子，其中，所述地线端子由熔点为450℃以下的金属形成。

公开(公告)号：CN101681628A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200880012241.0

申请日：2008-04-14

申请人： 大日本印刷株式会社

发明人： 人见阳一 ,  久门慎儿 ,  百濑辉寿 ,  坂寄胜哉 ,  高地清弘 ,  三浦阳一 ,  山崎刚

IPC分类号： G11B5/60 ,  G11B21/21

CPC分类号： G11B5/4833 ,  C23F1/00 ,  C23F1/02 ,  C23F1/18 ,  C23F1/28 ,  G11B5/3103 ,  G11B5/3133 ,  G11B5/484 ,  G11B5/486 ,  H05K1/056 ,  H05K3/28 ,  H05K3/285 ,  Y10T428/11 ,  Y10T428/1157 ,  Y10T428/1179

摘要： 悬浮臂用基板(10)具备金属基板(1)、在金属基板(1)上形成的绝缘层(2)、在绝缘层(2)上形成的布线层(3)、和覆盖布线层(3)的覆盖层(4)。绝缘层(2)的材料和覆盖层(4)的材料由不同材料构成，两者的吸湿膨胀系数在3×10 -6 /％RH～30×10 -6 /％RH的范围内，两者的吸湿膨胀系数之差在5×10 -6 /％RH以下的范围内。

公开(公告)号：CN106133599A

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：CN201580015667.1

申请日：2015-01-29

申请人： 大日本印刷株式会社

发明人： 渡边浩司 ,  早野胜也 ,  高见泽秀吉 ,  大川洋平 ,  安达俊 ,  谷绚子 ,  三浦阳一

IPC分类号： G03F1/32

摘要： 本发明提供一种掩模坯料，其具有透明基板、形成于所述透明基板上的半透明层、形成于所述半透明层上的中间层、和形成于所述中间层上的遮光层，所述遮光层由不含过渡金属的单一金属材料构成，所述遮光层的膜厚为40nm以下，层叠有所述半透明层、所述中间层、所述遮光层的3种层的层叠体相对于曝光光的光学密度，为作为遮光区域发挥功能的值以上；因此，其可用于制造即使遮光图案膜减薄仍具有高遮光性，可减小EMF偏差值，图案加工性、耐光性、耐药品性优异，适合于晶圆上的半间距40nm以下的光刻技术的半色调型相位位移掩模。

公开(公告)号：CN105452956A

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201480045458.7

申请日：2014-08-21

申请人： 大日本印刷株式会社

发明人： 安达俊 ,  三浦阳一 ,  高见泽秀吉 ,  早野胜也 ,  大川洋平 ,  渡边浩司 ,  谷绚子

IPC分类号： G03F1/32 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F1/32 ,  G03F7/32

摘要： 本发明通过提供如下掩模坯料而解决上述课题，该掩模坯料，其特征在于，用于制造应用ArF准分子激光曝光光的半色调型的相移掩模，具有透明基板与半透光膜，该半透光膜形成于上述透明基板上且仅包含Si及N或仅包含Si、N、及O的半透光膜，且上述半透光膜，其在ArF准分子激光曝光光的波长下的消光系数为0.2～0.45的范围内，在ArF准分子激光曝光光的波长下的折射率为2.3～2.7的范围内，在ArF准分子激光曝光光的波长下的透光率为15％～38％的范围内，进而膜厚为57nm～67nm的范围内。

公开(公告)号：CN102652338A

公开(公告)日：2012-08-29

申请号：CN201080057145.5

申请日：2010-12-02

申请人： 大日本印刷株式会社

发明人： 毒岛伸一 ,  三浦阳一 ,  平田贤郎 ,  山冈天平

IPC分类号： G11B5/60 ,  G11B21/21 ,  H05K1/02

CPC分类号： G11B5/4833 ,  G11B5/486 ,  H05K1/0271 ,  H05K1/056

摘要： 悬架电路基板（1）具备：金属支撑基板（12）；第一绝缘层（11），配置于金属支撑基板（12）上，由绝缘材料构成；导体层（10），配置于第一绝缘层（11）上，构成布线；以及第二绝缘层（13），配置于第一绝缘层（11）及导体层（10）上，由绝缘材料构成。悬架电路基板（1）构成为，当在导体层（10）中与第一绝缘开口部（11o）相对应的位置在厚度方向上施加负荷时，在以与第一绝缘开口部（11o）的周缘相对应的位置产生于导体层（10）的应力作为第一应力（F1）且以与金属支撑基板开口部（12o）的周缘相对应的位置产生于导体层（10）的应力作为第二应力（F2）的情况下，成为F1＜F2。

公开(公告)号：CN101681628B

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN200880012241.0

申请日：2008-04-14

申请人： 大日本印刷株式会社

发明人： 人见阳一 ,  久门慎儿 ,  百濑辉寿 ,  坂寄胜哉 ,  高地清弘 ,  三浦阳一 ,  山崎刚

IPC分类号： G11B5/60 ,  G11B21/21

CPC分类号： G11B5/4833 ,  C23F1/00 ,  C23F1/02 ,  C23F1/18 ,  C23F1/28 ,  G11B5/3103 ,  G11B5/3133 ,  G11B5/484 ,  G11B5/486 ,  H05K1/056 ,  H05K3/28 ,  H05K3/285 ,  Y10T428/11 ,  Y10T428/1157 ,  Y10T428/1179

摘要： 悬浮臂用基板(10)具备金属基板(1)、在金属基板(1)上形成的绝缘层(2)、在绝缘层(2)上形成的布线层(3)、和覆盖布线层(3)的覆盖层(4)。绝缘层(2)的材料和覆盖层(4)的材料由不同材料构成，两者的吸湿膨胀系数在3×10-6/％RH～30×10-6/％RH的范围内，两者的吸湿膨胀系数之差在5×10-6/％RH以下的范围内。

公开(公告)号：CN102290054A

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：CN201110164600.8

申请日：2008-04-14

申请人： 大日本印刷株式会社

发明人： 人见阳一 ,  久门慎儿 ,  百濑辉寿 ,  坂寄胜哉 ,  高地清弘 ,  三浦阳一 ,  山崎刚

IPC分类号： G11B5/60 ,  G11B21/21

CPC分类号： G11B5/4833 ,  C23F1/00 ,  C23F1/02 ,  C23F1/18 ,  C23F1/28 ,  G11B5/3103 ,  G11B5/3133 ,  G11B5/484 ,  G11B5/486 ,  H05K1/056 ,  H05K3/28 ,  H05K3/285 ,  Y10T428/11 ,  Y10T428/1157 ,  Y10T428/1179

摘要： 悬浮臂用基板(10)具备金属基板(1)、在金属基板(1)上形成的绝缘层(2)、在绝缘层(2)上形成的布线层(3)、和覆盖布线层(3)的覆盖层(4)。绝缘层(2)的材料和覆盖层(4)的材料由不同材料构成，两者的吸湿膨胀系数在3×10-6/％RH～30×10-6/％RH的范围内，两者的吸湿膨胀系数之差在5×10-6/％RH以下的范围内。

公开(公告)号：CN101467206A

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200780022266.4

申请日：2007-06-20

申请人： 大日本印刷株式会社

发明人： 三浦阳一 ,  芹泽彻 ,  毒岛伸一郎

IPC分类号： G11B5/60 ,  G11B21/21

CPC分类号： G11B5/4853

摘要： 本发明提供一种能够以低成本生产，且能够充分地实现防止静电破坏或抑制干扰的悬架用基板。该悬架用基板具有：金属基板；形成于所述金属基板上，且具有露出所述金属基板的开口部的绝缘层；形成于所述绝缘层上，且配置于所述开口部附近的接地用配线层；形成于所述开口部，且与所述金属基板及所述接地用配线层接触的地线端子，其中，所述地线端子由熔点为450℃以下的金属形成。