-
公开(公告)号：CN111836677A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN201980016131.X
申请日：2019-03-05
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B01D61/58 , B01D61/10 , B01D61/14 , B01D65/02 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D71/26 , B01D71/28 , B01D71/32 , B01D71/56 , B01D71/68 , B01D71/82 , G03F7/16 , G03F7/26
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够制造具有优异的缺陷抑制性能的药液的过滤装置、纯化装置及药液的制造方法。所述过滤装置用于对被纯化液进行纯化而得到药液，所述过滤装置具有：流入部；流出部；过滤器A；及与过滤器A不同的至少1个过滤器B，过滤器A及过滤器B串联配置于流入部与流出部之间，且具有从流入部至流出部的流通路，其中，过滤器A具有：聚氟碳制的多孔基材；及覆盖层，以覆盖多孔基材的方式配置且含有具有亲水性基团的第1树脂。
-
公开(公告)号：CN111712318A
公开(公告)日：2020-09-25
申请号：CN201980013353.6
申请日：2019-03-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B01D61/58 , B01D71/32 , B01D71/36 , B01D71/82 , B32B27/30 , C08F236/20 , C08J9/36 , G03F7/16 , G03F7/26 , G03F7/32 , H01L21/304 , B01D3/00 , B01D61/14 , B01D65/02 , B01D69/00 , B01D69/10 , B01D69/12
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够制造具有优异的缺陷抑制性能的药液的过滤装置。并且，另一课题在于提供一种纯化装置及药液的制造方法。所述过滤装置用于对被纯化液进行纯化而得到药液，该过滤装置具有：流入部；流出部；过滤器A；及与过滤器A不同的至少1个过滤器B，过滤器A及过滤器B串联配置于流入部与流出部之间，且具有从流入部至流出部的流通路，其中，过滤器A选自包括规定的过滤器A1、过滤器A2及过滤器A3的组。
-
公开(公告)号：CN117836721A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202280057487.X
申请日：2022-08-19
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种药液，当将其用作显影液或冲洗液来进行图案的形成时，所得到的图案的分辨率优异，且缺陷产生抑制性也优异。本发明的药液包含芳香族烃、芳香族烃以外的有机溶剂及金属X，芳香族烃仅由氢原子及碳原子组成，芳香族烃的含量相对于药液的总质量为1质量％以下，有机溶剂包含脂肪族烃，金属X为选自由Al、Fe及Ni所组成的组中的至少一种金属，芳香族烃的含量相对于金属X的含量的质量比为5.0×104～2.0×1010。
-
公开(公告)号：CN117651910A
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202280049626.4
申请日：2022-07-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/038 , G03F7/004 , C08F220/46
Abstract: 本发明的课题在于提供一种即使从曝光处理后到实施显影处理的时间(显影前待机时间)发生变动，所形成的图案的线宽的变动也小的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。另外，本发明的另一课题在于提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物满足规定的要件X或Y。
-
公开(公告)号：CN116888539A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202280011183.X
申请日：2022-01-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法及能够通过包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法获得线宽的面内均匀性优异的图案的图案形成方法及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法，所述图案形成方法包括：(1)使用包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂(A)及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物(B)的感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜的工序；(2)对上述膜进行曝光的工序；及(3)利用含有乙酸丁酯及碳原子数11以上的烃的有机系处理液，对经上述曝光的膜进行显影及淋洗中的至少一个的工序，所述图案形成方法中，上述有机系处理液中的上述碳原子数11以上的烃的含量为1质量％以上且35质量％以下。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109863452B
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN201780065656.3
申请日：2017-11-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/16 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够使用少量的抗蚀剂组合物在基板上形成更薄且厚度均匀的抗蚀膜，并且具有优异的缺陷抑制性能的药液。并且，本发明的课题还在于提供一种图案形成方法。本发明的药液含有：2种以上的有机溶剂的混合物；及杂质金属，该杂质金属含有选自由Fe、Cr、Ni及Pb组成的组中的1种，该药液中，混合物在25℃下的蒸气压为50～1420Pa，当药液中含有1种杂质金属时，药液中的杂质金属的含量为0.001～100质量ppt，当药液中含有2种以上的杂质金属时，药液中的杂质金属各自的含量为0.001～100质量ppt。
-
公开(公告)号：CN107210215B
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN201680006546.5
申请日：2016-02-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/308
Abstract: 本发明提供一种含有酸与巯基化合物的III‑V族元素的氧化物的去除液、抗氧化液或处理液及使用这些的方法、以及含有酸与巯基化合物的半导体基板的处理液及使用该处理液的半导体基板产品的制造方法。
-
公开(公告)号：CN112449658A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN201980045368.0
申请日：2019-07-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种与药液接触时所得到的药液的残渣缺陷抑制性及桥接缺陷抑制性优异的部件。并且，提供一种容器、药液收容体、反应槽、蒸馏塔、过滤器单元、存储罐、管路及药液的制造方法。本发明的部件为与药液接触的部件，上述部件的表面由含有铬原子及铁原子的不锈钢构成，从上述部件的表面沿着深度方向至10nm，测量上述铬原子相对于上述铁原子的原子比时，在从上述部件的表面沿深度方向3nm以内显示上述原子比的最大值，上述最大值为0.5～3.0，上述部件的表面的表面平均粗糙度为10nm以下。
-
公开(公告)号：CN112400139A
公开(公告)日：2021-02-23
申请号：CN201980046121.0
申请日：2019-07-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种缺陷抑制性优异的药液。并且，提供一种含有上述药液的药液收容体。本发明的药液含有选自由除了烷烃及烯烃以外的化合物、以及癸烷及十一烷组成的组中的1种以上的有机溶剂，该药液还含有选自由碳原子数12～50的烷烃及碳原子数12～50的烯烃组成的组中的1种以上的有机成分，相对于药液的总质量，有机成分的含量为0.10～1,000,000质量ppt。
-
公开(公告)号：CN117897662A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202280059303.3
申请日：2022-08-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/304
Abstract: 本发明的课题在于提供一种处理液，该处理液在作为显影液或冲洗液使用的情况下，在其涂布于被涂布面上时抑制缺陷的产生，并且在其容纳于内壁面由金属构成的容器之后而使用时也抑制被涂布面上的缺陷的产生。本发明的课题还在于提供一种处理液容纳体。本发明的处理液含有：脂肪族烃系溶剂；选自由具有碳数为1～3的烃基的羧酸及甲酸所组成的组中的至少一种酸成分；以及含有选自由Fe、Ni及Cr所组成的组中的至少一种金属元素的金属杂质，其中，金属元素的含量相对于酸成分的含量的质量比为1.0×10‑9～3.0×10‑5。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
25
records
(took 0.025 seconds)
