电磁波屏蔽薄膜
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119213880A

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN202380041077.0

    申请日:2023-06-27

    Abstract: 提供保护层的表面的遮盖性和耐划痕性这两者充分高的电磁波屏蔽薄膜。本发明的电磁波屏蔽薄膜的特征在于,具备:具有第1主面和与上述第1主面对置的第2主面的保护层;和,配置于上述保护层的第2主面的屏蔽层,上述第1主面的界面的扩展面积比Sdr为75.0~250%。

    电磁波屏蔽膜
    13.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110027268B

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN201910028590.1

    申请日:2019-01-11

    Abstract: 本发明提供能够实现减小绝缘保护层的光泽度并且提高剥离膜的剥离性能的电磁波屏蔽膜。所述电磁波屏蔽膜包括绝缘保护层112、导电性胶粘剂层111、介由离型剂层114设于绝缘保护层112的导电性胶粘剂层111的相反侧的表面的剥离膜115。绝缘保护层112的85°光泽度小于15,剥离膜115的绝缘保护层侧的面的85°光泽度小于3,离型剂层114的厚度小于10μm。

    电磁波屏蔽膜
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110027268A

    公开(公告)日:2019-07-19

    申请号:CN201910028590.1

    申请日:2019-01-11

    Abstract: 本发明提供能够实现减小绝缘保护层的光泽度并且提高剥离膜的剥离性能的电磁波屏蔽膜。所述电磁波屏蔽膜包括绝缘保护层112、导电性胶粘剂层111、介由离型剂层114设于绝缘保护层112的导电性胶粘剂层111的相反侧的表面的剥离膜115。绝缘保护层112的85°光泽度小于15,剥离膜115的绝缘保护层侧的面的85°光泽度小于3,离型剂层114的厚度小于10μm。

    电磁波屏蔽薄膜
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117280881A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202280032600.9

    申请日:2022-06-17

    Abstract: 提供:无论黑色层的构成组成如何、黑色度均优异的电磁波屏蔽薄膜。电磁波屏蔽薄膜1在表面具备保护层2,保护层2具有黑色保护层21,保护层2表面的、最小自相关长度Sal为10μm以下,界面扩展面积比Sdr为200%以上,前述Sdr相对于前述Sal之比[Sdr/Sal]为50以上。保护层2侧的亮度L*优选24以下。

    形状转印膜
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114902819A

    公开(公告)日:2022-08-12

    申请号:CN202180007796.1

    申请日:2021-01-08

    Inventor: 梅村滋和

    Abstract: 本发明提供一种形状转印膜,其为含有凹凸形状的形状转印膜,能够通过向转印对象物转印来源于上述凹凸形状的形状来赋予转印对象物充分的遮盖性,且在有意将其从转印对象物剥下时能够轻松地将其剥下。形状转印膜1在至少一面含有界面展开面积比Sdr为1500~7000%和/或中心部的水平差Sk为2.0~7.0μm的凹凸形状,且用于向转印对象物转印来源于上述凹凸形状的形状。形状转印膜1例如包括基板层2和设于基板层2的一面的树脂层3。且形状转印膜1例如含有填料4,上述凹凸形状通过填料4比膜平坦面3a更向外侧突出而形成。

    电磁波屏蔽膜
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109874286A

    公开(公告)日:2019-06-11

    申请号:CN201811352511.4

    申请日:2018-11-14

    Abstract: 本发明提供一种实现嵌入性优越的电磁波屏蔽膜。本发明的电磁波屏蔽膜包括导电性胶粘剂层(111)和绝缘保护层(112)。绝缘保护层(112)在120℃、170℃及200℃的储能模量均为8×104Pa以上,损耗模量均为6×104Pa以上。

Patent Agency Ranking