公开(公告)号：CN112313548A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN201980042410.3

申请日：2019-04-24

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 青野宇纪 ,  江畠佳定 ,  八重樫健太 ,  松井繁

IPC: G02B5/18 ,  G01J3/18

Abstract: 提供能通过球面像差的抑制来提升衍射效率的凹面衍射光栅。凹面衍射光栅(2)对光进行分光、聚光，在凹面状的基板(24)上具有锯齿形状的光栅槽(21)，锯齿形状的光栅槽(21)的间隔不等。另外，通过用光刻法以及蚀刻、或机械加工在平面基板上形成锯齿形状，使形成锯齿形状为不等间隔的光栅槽(21)的平面衍射光栅在凸面固定基板上变形，来将安装的凹面衍射光栅的模转印到金属或树脂的表面，由此形成对光进行分光、聚光的凹面衍射光栅(2)。

公开(公告)号：CN105209852B

公开(公告)日：2018-12-14

申请号：CN201480027013.6

申请日：2014-03-10

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 松井繁 ,  小野田有吾

IPC: G01B11/24

Abstract: 本发明提供一种能够非破坏、非接触、高精度、宽倾斜角动态范围地测量任意的被检查物体的表面形状的技术。在使用了双光束干涉仪的白光干涉法中，构成为使参照平面的表面方向相对于其入射光轴变化，一边通过使上述参照平面的表面方向相对于被检查面上的任意位置的局部表面方向相对地变化，一边获取多个由来自上述被检查面的反射光和来自上述参照平面的反射光的干涉而生成的干涉条纹，并根据这些干涉条纹求出上述被检查面上的局部表面方向，由此来测量上述被检查面的表面形状。

公开(公告)号：CN103998984B

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201280048495.4

申请日：2012-09-13

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 角田和之 ,  小野塚利彦 ,  松井繁 ,  江畠佳定 ,  长谷川昇雄

IPC: G03F1/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/3065 ,  G03F1/0046 ,  G03F1/26 ,  G03F1/28 ,  G03F1/30 ,  H01L21/3085

Abstract: 提供一种可提高产品的精度以及缩短制作时间的、利用了相移掩模的非对称图案的形成技术、以及衍射光栅、半导体装置的制造技术。在利用了相移掩模(30)(周期性地配置遮光部和透过部(没有相移的第1透过部、有相移的第2透过部))的衍射光栅的制造方法中，使从照明光源(10)射出的光透过相移掩模(30)，使透过该相移掩模(30)而产生的0次光和+1次光在Si晶片(50)的表面产生干涉，使该Si晶片(50)的表面的光致抗蚀剂(60)曝光，在Si晶片(50)上形成具有闪耀状的截面形状的衍射光栅。

公开(公告)号：CN106574998A

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：CN201580044297.4

申请日：2015-09-16

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 青野宇纪 ,  松井繁 ,  江畠佳定 ,  八重樫健太

IPC: G02B5/18 ,  B29C33/38 ,  B29C59/02 ,  G01J3/18

CPC classification number: B29C33/38 ,  B29C59/02 ,  G01J3/18 ,  G02B5/18

Abstract: 在通过机械加工在曲面基板上制造锯齿形状的衍射光栅图案时，工具的角度固定，因而在曲面的中心部、外周部处成为衍射光栅图案的角度不同的形状。另外，在通过半导体工艺在曲面基板上进行光刻、蚀刻，从而形成锯齿形状的衍射光栅图案时，需要调整光刻时的焦点深度和蚀刻角度，从而导致成本变高。本发明的曲面衍射光栅的模型的制造方法包括：在金属制平面衍射光栅基板上形成衍射光栅图案的工序、在金属制平面衍射光栅基板的、与形成有衍射光栅图案的面相反侧的面上形成焊料的工序；在曲面基板上将与焊料共晶的接合材料成膜的工序；以及利用曲面固定基板和曲面固定基板夹住金属制平面衍射光栅基板并施加负荷的工序。

公开(公告)号：CN105209852A

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：CN201480027013.6

申请日：2014-03-10

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 松井繁 ,  小野田有吾

IPC: G01B11/24

CPC classification number: G01B11/2441 ,  G01B9/02068 ,  G01B9/02087 ,  G01B9/0209 ,  G01B9/04 ,  G01B11/0608 ,  G01B11/26

Abstract: 本发明提供一种能够非破坏、非接触、高精度、宽倾斜角动态范围地测量任意的被检查物体的表面形状的技术。在使用了双光束干涉仪的白光干涉法中，构成为使参照平面的表面方向相对于其入射光轴变化，一边通过使上述参照平面的表面方向相对于被检查面上的任意位置的局部表面方向相对地变化，一边获取多个由来自上述被检查面的反射光和来自上述参照平面的反射光的干涉而生成的干涉条纹，并根据这些干涉条纹求出上述被检查面上的局部表面方向，由此来测量上述被检查面的表面形状。

公开(公告)号：CN103688198A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201280024203.3

申请日：2012-05-17

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 江畠佳定 ,  松井繁 ,  长谷川升雄 ,  角田和之 ,  小野塚利彦

IPC: G02B5/18 ,  G01J3/18 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G02B5/1857 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/18 ,  G01J3/42 ,  G02B5/18 ,  G02B5/1814 ,  G02B5/1861 ,  G03F1/50 ,  G03F1/54 ,  G03F7/0005 ,  H01L21/26

Abstract: 本发明的第一技术的目的：提供一种适合于在分光光度仪中使用的凸部顶角约为90度且能够满足高衍射效率和低杂散光量的衍射光栅的制造技术。针对具有周期构造的开口部的掩模的开口部形状，设定曝光条件进行曝光，形成衍射光栅，使得通过曝光形成的基板上的抗蚀剂的凸部的截面形状是非对称三角形状且该三角形状的长边和短边所成的角度约为90度。第二技术的目的：提供一种能够提高精度和缩短制作时间的衍射光栅的制造技术。将从光源释放的光设为相对于光轴非对称的照明形状，使其透过具备预定的周期图案的掩模，使通过透过上述掩模而产生的0次光和1次光在基板的表面进行干涉，对上述基板表面的感光材料进行曝光，在上述基板上形成上述具有闪耀状的截面形状的衍射光栅。

公开(公告)号：CN102933943A

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：CN201180027757.4

申请日：2011-05-31

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 松井繁 ,  栗本大辅

IPC: G01J3/02

CPC classification number: G01J3/10 ,  G01J3/12 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/42 ,  G01N21/255 ,  G01N21/31

Abstract: 本发明实现改善以Xe闪光灯为代表的间歇发光光源的发光量的利用效率、能够得到良好的S/N比的分光光度计。通过单色仪（10）选择来自作为宽波长范围的单一光源的Xe闪光灯（1）的光中的期望的波长光，使其通过样品（7），通过光检测器（21、22）进行检测，提供给信号处理电路（23）的低通滤波器（24）。通过将Xe闪光灯（1）的发光光度从峰值至成为半值为止的经过时间设为时间常数的延迟单元等作为时间幅度扩展单元的低通滤波器（24），在期间上扩展来自光检测器（21、22）的输出信号的波形。扩展后的期间的波形信号经由放大器（25）、A/D转换电路（26）被提供给计算机（30）。由于能够利用扩展后的期间的波形信号，所以能够提高对全发光光量的利用效率，能够优化S/N比的改善效果。