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公开(公告)号：CN104335082A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201380029764.7
申请日：2013-06-03
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: G02B5/1847 , B29C59/02 , B32B37/12 , B32B37/24 , B32B38/0012 , B32B2551/00 , G02B5/18 , G02B5/1814 , G02B5/1852 , Y10T156/1028
Abstract: 本发明提供高精度地制成具有所希望的曲率的曲面衍射光栅。一种曲面衍射光栅的制造方法，具有：在平板状的硅基板(2)上形成衍射光栅图案(20)的步骤；在加热的状态下向形成有上述衍射光栅图案的硅基板(2)按压具有所希望的曲面形状的固定基板(3)而使上述硅基板曲面化，并且在具有上述曲面形状的固定基板(3)上固定具有上述衍射图案的硅基板(2)来制作曲面衍射光栅的模具(1)的步骤；以及使具有柔软性的部件与上述曲面衍射光栅的模具接触来在该部件上转印衍射光栅图案的步骤。
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公开(公告)号：CN105074512A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480013530.8
申请日：2014-01-30
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: G02B5/1852 , G01N21/31 , G02B1/04 , G02B5/1814 , G02B5/1857 , G02B5/1861
Abstract: 本发明提供一种制作高精度衍射光栅的技术，能够通过使在硅基板上使用半导体工艺制作的平面衍射光栅沿曲面基板塑性变形，制造具有所希望的曲率的曲面衍射光栅。其特征为：将使用半导体工艺制作的硅制平面衍射光栅转印至非晶质材料，并将非晶质材料基板曲面化，安装在曲面固定基板上，得到具有抑制转位线的产生的结晶性材料的曲面衍射光栅。
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公开(公告)号：CN105074512B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201480013530.8
申请日：2014-01-30
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: G02B5/1852 , G01N21/31 , G02B1/04 , G02B5/1814 , G02B5/1857 , G02B5/1861
Abstract: 本发明提供一种制作高精度衍射光栅的技术，能够通过使在硅基板上使用半导体工艺制作的平面衍射光栅沿曲面基板塑性变形，制造具有所希望的曲率的曲面衍射光栅。其特征为：将使用半导体工艺制作的硅制平面衍射光栅转印至非晶质材料，并将非晶质材料基板曲面化，安装在曲面固定基板上，得到具有抑制转位线的产生的结晶性材料的曲面衍射光栅。
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公开(公告)号：CN104335082B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201380029764.7
申请日：2013-06-03
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: G02B5/1847 , B29C59/02 , B32B37/12 , B32B37/24 , B32B38/0012 , B32B2551/00 , G02B5/18 , G02B5/1814 , G02B5/1852 , Y10T156/1028
Abstract: 本发明提供高精度地制成具有所希望的曲率的曲面衍射光栅。一种曲面衍射光栅的制造方法，具有：在平板状的硅基板(2)上形成衍射光栅图案(20)的步骤；在加热的状态下向形成有上述衍射光栅图案的硅基板(2)按压具有所希望的曲面形状的固定基板(3)而使上述硅基板曲面化，并且在具有上述曲面形状的固定基板(3)上固定具有上述衍射图案的硅基板(2)来制作曲面衍射光栅的模具(1)的步骤；以及使具有柔软性的部件与上述曲面衍射光栅的模具接触来在该部件上转印衍射光栅图案的步骤。
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公开(公告)号：CN115004065B
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202180010423.X
申请日：2021-01-14
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明提供凹面衍射光栅和使用了该凹面衍射光栅的光学装置，该凹面衍射光栅能够防止反射膜因温度的影响而变形且能够防止由温度导致的光学特性的降低。本发明的凹面衍射光栅具备：反射膜(22)，其具备多个光栅槽(21)；保持膜(25)，其由金属构成，且在一方的面设有反射膜(22)；凹面基板(24)，其具备凹面(24a)；以及固定层(23)，其设于凹面(24a)与保持膜(25)的另一方的面之间，将保持膜(25)和反射膜(22)固定于凹面基板(24)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103998984A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201280048495.4
申请日：2012-09-13
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F1/26 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/3065 , G03F1/0046 , G03F1/26 , G03F1/28 , G03F1/30 , H01L21/3085
Abstract: 提供一种可提高产品的精度以及缩短制作时间的、利用了相移掩模的非对称图案的形成技术、以及衍射光栅、半导体装置的制造技术。在利用了相移掩模(30)(周期性地配置遮光部和透过部(没有相移的第1透过部、有相移的第2透过部))的衍射光栅的制造方法中，使从照明光源(10)射出的光透过相移掩模(30)，使透过该相移掩模(30)而产生的0次光和+1次光在Si晶片(50)的表面产生干涉，使该Si晶片(50)的表面的光致抗蚀剂(60)曝光，在Si晶片(50)上形成具有闪耀状的截面形状的衍射光栅。
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公开(公告)号：CN103221802A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201180054895.1
申请日：2011-11-14
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: G01J3/42 , G01J3/0218 , G01J3/28 , G01J2003/2866 , G01N21/05 , G01N21/3151
Abstract: 在单光束方式的分光光度计，即使光源的光量随时间变动，也能得到高S/N且能长时间抑制漂移的高稳定透过光谱及吸收光谱。分光光度计具备：光源；试样池；多色仪，其通过将来自上述光源的光中的透过上述试样池内的试样的光分光为多个波长成分，来生成上述试样的透过光谱；图像传感器，其检测上述试样的透过光谱；光源监视用光检测器，其检测来自上述光源的光中的没有透过上述试样池的光；以及运算部，其使用上述光源监视用光检测器的输出信号修正上述试样的透过光谱。
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公开(公告)号：CN115917371A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202180040233.2
申请日：2021-02-25
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种高精度地制造具有均匀的衍射光栅图案的凹面衍射光栅的技术。本公开的凹面衍射光栅的制造方法包括如下步骤：准备具有光栅槽、以及形成于成为凹面衍射光栅的模具的区域外的伸长部、薄膜部或低摩擦部的平面衍射光栅；将所述平面衍射光栅安装于凸面基板来取得所述凹面衍射光栅的模具；以及将所述模具的所述光栅槽转印于凹面基板。
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公开(公告)号：CN115004065A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202180010423.X
申请日：2021-01-14
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明提供凹面衍射光栅和使用了该凹面衍射光栅的光学装置，该凹面衍射光栅能够防止反射膜因温度的影响而变形且能够防止由温度导致的光学特性的降低。本发明的凹面衍射光栅具备：反射膜(22)，其具备多个光栅槽(21)；保持膜(25)，其由金属构成，且在一方的面设有反射膜(22)；凹面基板(24)，其具备凹面(24a)；以及固定层(23)，其设于凹面(24a)与保持膜(25)的另一方的面之间，将保持膜(25)和反射膜(22)固定于凹面基板(24)。
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公开(公告)号：CN112313548B
公开(公告)日：2022-05-03
申请号：CN201980042410.3
申请日：2019-04-24
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 提供能通过球面像差的抑制来提升衍射效率的凹面衍射光栅。凹面衍射光栅(2)对光进行分光、聚光，在凹面状的基板(24)上具有锯齿形状的光栅槽(21)，锯齿形状的光栅槽(21)的间隔不等。另外，通过用光刻法以及蚀刻、或机械加工在平面基板上形成锯齿形状，使形成锯齿形状为不等间隔的光栅槽(21)的平面衍射光栅在凸面固定基板上变形，来将安装的凹面衍射光栅的模转印到金属或树脂的表面，由此形成对光进行分光、聚光的凹面衍射光栅(2)。
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