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公开(公告)号：CN105452521A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201480044648.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社神户制钢所
Inventor： 广田悟史
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/352 , H01J37/3405 , H01J37/3447 , H01J37/345
Abstract: 本发明提供一种成膜装置，其具备DMS用靶材以及成膜用电源，且能够使用所述成膜用电源进行所述靶材的预溅射。成膜装置具备：成膜腔室(10)；第一阴极和第二阴极(20A、20B)，分别具有靶材(24)，且被配置成以靶材表面(24a)均朝向成膜腔室(10)内的基材侧的姿势互相相邻；磁场形成部(30)，在两个靶材(24)的表面(24a)附近形成磁场；成膜用电源(40)，连接于两个阴极(20A、20B)；以及遮门(50)。遮门(50)介于两个阴极的靶材表面(24a)与基材之间，在关闭位置与打开位置之间进行开闭动作，其中，关闭位置是将该靶材表面(24a)一并与基材隔离的位置，打开位置是开放靶材表面(24a)与基材之间而容许对基材的成膜的位置。
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公开(公告)号：CN105420670A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201510576497.6
申请日：2015-09-11
Applicant: 株式会社神户制钢所
Inventor： 广田悟史
IPC: C23C14/06
CPC classification number: C23C14/48 , C23C14/022 , C23C14/025 , C23C14/0605
Abstract: 本发明的硬质滑动部件的制造方法包括：表面处理工序，将基材的表面进行表面处理；和碳膜形成工序，通过使用包含碳的靶进行电弧离子镀，在基材的表面上形成碳膜。在碳膜形成工序中，通过一边将碳氢化合物气体导入一边进行电弧离子镀而开始上述碳膜的形成，然后减少该碳氢化合物气体的导入量而继续进行该电弧离子镀，形成中间层，在表面上形成由ta-C构成的表层。
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公开(公告)号：CN103132013B
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201210481360.9
申请日：2012-11-23
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: H01J37/32018 , C23C14/022 , C23C14/325 , C23C14/54 , C23C14/564 , H01J37/32403 , H01J37/32862
Abstract: 本发明的离子轰击装置，在真空腔的一个内侧面配置有用丝极构成的加热式的热电子释放电极，在真空腔的其它内侧面配置有接受来自热电子释放电极的热电子的阳极，在热电子释放电极和阳极之间配置有基体材料。进而具有：在热电子释放电极及阳极之间给予电位差，使其产生辉光放电的放电电源；加热热电子释放电极而使其释放热电子的加热电源；以及将对于真空腔而言负的脉冲状偏置电位给予基体材料的偏置电源。
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公开(公告)号：CN112534081B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201980054363.4
申请日：2019-08-19
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 本发明提供一种能够容易进行丝的装拆、更换作业的热丝化学气相沉积装置。热丝化学气相沉积装置（1）包括腔室（2）、支撑多个基材（5）的基材支撑体（4）、丝部件（6A、6B、6C）以及一对保持部（71、72）。丝部件具有多个丝（60）、第一框部（61）、第二框部（62）以及一对连结构件（63）。此外，一对保持部（71、72）在将丝部件插入于腔室（2）时引导该丝部件，并且，在腔室（2）内以与多个基材（5）相向的方式保持该丝部件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104968826B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201480007860.6
申请日：2014-01-09
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C14/02
CPC classification number: C23C16/0245 , C23C14/022 , C23C16/0227 , C23C16/44 , C23C16/4584 , C23C16/486 , H01J37/32568 , H01J37/3266 , H01J2237/3321 , H01J2237/335
Abstract: 本发明提供一种用于对基材的表面稳定地进行清洁的离子轰击装置（1）。该装置具备：真空腔（2）、被设置在其内壁面并且放出电子的至少一个电极（3）、接受来自所述电极（3）的电子的多个正极（4）即被配置为以隔着所述基材与所述电极相向的方式相向的多个正极、以及与各正极（4）对应的多个放电电源（5）。各放电电源（5）与所述真空腔（2）绝缘，对与该放电电源（5）对应的正极（4）供给能够彼此独立地设定的电流或电压，由此，在该正极（4）与所述电极（3）之间产生辉光放电。
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公开(公告)号：CN106460159A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580033266.9
申请日：2015-07-03
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C14/32
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/32 , C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/3266 , H01J37/32669
Abstract: 本发明提供一种电弧蒸发源，能够将电弧点稳定地保持在靶材的前端面，而且，能够实现装置的小型化。电弧蒸发源(1)包括：通过电弧放电而从前端面(3a)开始熔解并蒸发的靶材(3)；以及被配置在从靶材(3)的侧面(3b)朝向该靶材(4)。磁铁(4)被配置成：形成在如下范围满足以下的条件a)以及b)的磁场(MF1)，其中，所述范围是处于沿着靶材(3)的侧面(3b)并且在靶材(3)的轴向上从靶材(3)的前端面(3a)起10mm为止的范围，条件a)为磁场的磁力线相对于靶材(3)的侧面(3b)所成的角度为45度以下，条件b)为在该磁力线的强度中的靶材(3)的轴向成分成为200G以上。(3)的半径方向隔开距离的位置的至少一个磁铁
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公开(公告)号：CN103088287B
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201210415298.3
申请日：2012-10-26
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: H01J37/3405 , H01J37/3444 , H01J37/3452
Abstract: 本发明涉及一种成膜装置和成膜方法。本发明的成膜装置具有两台溅射蒸发源，该溅射蒸发源包括：非平衡磁场形成单元，该非平衡磁场形成单元由配备在内侧的内极磁铁和配备在该内极磁铁的外侧且磁力线密度比内极磁铁大的外极磁铁形成；以及靶，配备在非平衡磁场形成单元的前方，进而，所述成膜装置还具有交流电源，该交流电源通过在两台溅射蒸发源的各靶之间流过极性以10kHz以上的频率切换的交流电流，从而在两靶之间引起放电而进行成膜。
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公开(公告)号：CN103132013A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210481360.9
申请日：2012-11-23
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: H01J37/32018 , C23C14/022 , C23C14/325 , C23C14/54 , C23C14/564 , H01J37/32403 , H01J37/32862
Abstract: 本发明的离子轰击装置，在真空腔的一个内侧面配置有用丝极构成的加热式的热电子释放电极，在真空腔的其它内侧面配置有接受来自热电子释放电极的热电子的阳极，在热电子释放电极和阳极之间配置有基体材料。进而具有：在热电子释放电极及阳极之间给予电位差，使其产生辉光放电的放电电源；加热热电子释放电极而使其释放热电子的加热电源；以及将对于真空腔而言负的脉冲状偏置电位给予基体材料的偏置电源。
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公开(公告)号：CN103088287A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201210415298.3
申请日：2012-10-26
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: H01J37/3405 , H01J37/3444 , H01J37/3452
Abstract: 本发明涉及一种成膜装置和成膜方法。本发明的成膜装置具有两台溅射蒸发源，该溅射蒸发源包括：非平衡磁场形成单元，该非平衡磁场形成单元由配备在内侧的内极磁铁和配备在该内极磁铁的外侧且磁力线密度比内极磁铁大的外极磁铁形成；以及靶，配备在非平衡磁场形成单元的前方，进而，所述成膜装置还具有交流电源，该交流电源通过在两台溅射蒸发源的各靶之间流过极性以10kHz以上的频率切换的交流电流，从而在两靶之间引起放电而进行成膜。
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