公开(公告)号：CN1713958A

公开(公告)日：2005-12-28

申请号：CN200380103661.7

申请日：2003-11-12

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 权恒道 ,  田村正则 ,  关屋章

IPC: B01J27/125 ,  C07C17/20 ,  C07C19/08 ,  C07C69/03 ,  C07C67/00

CPC classification number: C07C17/208 ,  B01J27/12 ,  B01J27/125 ,  C07B39/00 ,  C07C67/00 ,  Y10S585/935

Abstract: 负载有SbClxF5－x的多孔性氟化铝，其中，x表示0到5的数字，所述负载有SbClxF5－x的多孔性氟化铝是通过在多孔性氟化铝上负载SbCl5，并用氟化氢处理所得的产物而得到。所述的多孔性氟化铝具有作为氟化剂或氟化催化剂等的高活性，容易处理，并可以用于流动式反应，甚至在高温下也可以使用。

公开(公告)号：CN1516892A

公开(公告)日：2004-07-28

申请号：CN03800417.8

申请日：2003-01-28

Applicant: 财团法人地球环境产业技术研究机构 ,  独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 大平丰 ,  三井有规 ,  米村泰辅 ,  关屋章

IPC: H01L21/205 ,  C09K13/08 ,  C23C16/44 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/02019 ,  B08B7/00 ,  C09K13/00 ,  C09K13/08 ,  C23C16/4405 ,  H01L21/02046 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31116 ,  Y02C20/30 ,  Y02P70/605

Abstract: 本发明的室清洁气和用于含硅膜的蚀刻气包括含2－4个氧原子的全氟环醚，所述氧原子以醚键与碳原子连接。室清洁气和蚀刻气几乎不产生有害废气如CF4，CF4是全球变暖的原因之一，并且对环境有害。它们是无毒气体或挥发性液体，易使用，并且在废气处理方面性能优良。此外，本发明的室清洁气具有优良的清洁速率。