公开(公告)号：CN102026914A

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：CN200980116804.5

申请日：2009-05-15

Applicant: 株式会社德山 ,  独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 石津澄人 ,  关屋章 ,  福田健太郎 ,  须山敏尚

IPC: C01B9/08 ,  C30B15/00 ,  C30B15/08 ,  C30B29/12 ,  G02B1/02

CPC classification number: C01B9/08 ,  C01F17/0031 ,  C01G1/06 ,  C01P2002/84 ,  C01P2002/85 ,  C01P2004/04 ,  C01P2006/80 ,  C30B15/00 ,  C30B15/08 ,  C30B29/12 ,  C30B35/007

Abstract: 本发明的目的在于提供一种氧气杂质的含量得到降低的预处理金属氟化物、以及氧气杂质的含量得到降低且具有透明性等优异的光学特性的氟化物晶体的制造方法。在碳酰氟共存的条件下、优选碳酰氟的量相对于1mol金属氟化物为1/100mol以上，在300K以上且1780K以下的温度范围内对金属氟化物进行加热，除去金属氟化物原料、制造炉内部等中所含的氧气、水分等，从而得到预处理金属氟化物。此外，以该预处理金属氟化物作为原料进行加热熔融，从所得的熔体通过熔体提拉法或熔体下拉法等晶体生长法获得高品质的氟化物晶体。

公开(公告)号：CN101015044A

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：CN200580025518.X

申请日：2005-05-30

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所 ,  日本瑞翁株式会社

Inventor： 关屋章 ,  杉本达也 ,  山田俊郎 ,  间濑贵信

IPC: H01L21/3065

Abstract: 本发明涉及由分子内具有醚键或羰基及氟原子、仅由碳原子、氟原子及氧原子构成、且氟原子数与碳原子数之比(F/C)为1.9以下、碳原子数为4～6的含氟化合物(其中环状醚键为1个、碳碳双键为1个的含氟化合物及羰基为1个的含氟饱和化合物除外)构成的干式蚀刻气体；由选自稀有气体、O2、O3、CO、CO2、CHF3、CH2F2、CF4、C2F6及C3F8的至少1种气体和上述干式蚀刻气体构成的混合干式蚀刻气体；将上述干式蚀刻气体等离子体化加工半导体材料的干式蚀刻方法等。根据本发明，提供能够安全地使用、对地球环境的影响小、能够对半导体材料高选择性且以高干式蚀刻速率实现图案形状良好的干式蚀刻的干式蚀刻气体、及使用该干式蚀刻气体的干式蚀刻方法等。

公开(公告)号：CN102933534B

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：CN201180028359.4

申请日：2011-06-13

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 权恒道 ,  田村正则 ,  水门润治 ,  关屋章

IPC: C07C17/354 ,  B01J23/44 ,  B01J23/50 ,  B01J27/10 ,  B01J27/13 ,  B01J27/32 ,  B01J38/10 ,  C07C17/358 ,  C07C21/18 ,  C07B61/00

CPC classification number: C07C17/354 ,  B01J21/04 ,  B01J21/18 ,  B01J23/44 ,  B01J23/644 ,  B01J23/66 ,  B01J27/12 ,  B01J27/13 ,  B01J35/0006 ,  B01J35/1014 ,  B01J37/0201 ,  B01J37/0205 ,  B01J37/0207 ,  B01J37/16 ,  B01J37/18 ,  C07C17/358 ,  C07C21/22 ,  C07C21/18

Abstract: 本发明的目的是提供适合于流通式反应的高效的1，1，1，4，4，4-六氟-2-丁烯的制造法，通过将六氟-1，3-丁二烯用催化剂进行异构化，紧接着进行催化氢还原而得到顺式1，1，1，4，4，4-六氟-2-丁烯，并且以流通式的催化反应来进行全部工序，由此能够高效地得到顺式1，1，1，4，4，4-六氟-2-丁烯。

公开(公告)号：CN101272983B

公开(公告)日：2011-11-16

申请号：CN200680035477.7

申请日：2006-09-26

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 权恒道 ,  田村正则 ,  关屋章

IPC: C01B31/00

CPC classification number: C01B32/80

Abstract: 提供了不使用光气等毒性强的原料和难以得到的原料，可以更低廉、有效，且没有爆炸等危险、安全连续地制造COF2的方法。向反应容器内导入四氟乙烯气体和氧气，在不存在氮气的情况下，使其在气相加热反应制造碳酰氟。反应容器优选管状的反应管。四氟乙烯气体可以使用加热HCFC-22气体热分解而得的未精制或经精制的四氟乙烯气体。通过本发明可以低廉、有效且安全地制造用作CVD装置(化学气相蒸镀法)的清洗气。

公开(公告)号：CN1712395A

公开(公告)日：2005-12-28

申请号：CN200510064381.0

申请日：2005-04-15

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 阿部隆 ,  田村正则 ,  关屋章

IPC: C07C309/14 ,  C07C303/32

Abstract: 本发明提供一种含氮全氟烷烃磺酸衍生物，其为比过去技术更有望实现高性能化难燃塑料之先进材料。具体而言，此含氮全氟烷烃磺酸盐如化学式(1)所示 (式中R1f及R2f分别为相同或不同的全氟烷基；R3f为全氟亚烷基；Y为以－OM所表示的金属烷氧基或以－NHM或＝NM所表示的金属醯胺基或金属醯亚胺基，M代表钠、钾、碱土类金属或铵盐)。

公开(公告)号：CN1911512B

公开(公告)日：2011-12-07

申请号：CN200610105441.3

申请日：2006-07-05

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 权恒道 ,  杨会娥 ,  田村正则 ,  关屋章

IPC: B01J27/12 ,  B01J27/06 ,  B01J23/26 ,  B01J21/02 ,  B01J21/10 ,  B01J23/06 ,  B01J23/04 ,  B01J23/72 ,  B01J23/745 ,  B01J23/75 ,  B01J23/755 ,  B01J23/34 ,  B01J23/22

CPC classification number: B01J37/22 ,  B01J27/132 ,  B01J27/138 ,  C07C17/00 ,  C07C17/206 ,  C07C17/21 ,  C07C21/18 ,  C07C19/08

Abstract: 本发明的氟化催化剂是，通过对含有氧化铬等铬盐的金属盐用氯气/或氧气进行处理而得到的。作为金属盐，除了铬盐以外，可以举出具有催化活性的从镁、铝、锌、钠、镍、铁、钴、钒、锰、铜中选择一种以上元素的金属盐。通过本发明可以提供高温下的稳定性高、再生容易且具有出色的催化活性或选择性的新的氟化催化剂和其制备方法，另外还可以提供使用了这些催化剂的新的氟化合物制备方法，尤其1，1，1，3，3—五氟丙烷(HFC-245fa)的制备方法。

公开(公告)号：CN101272983A

公开(公告)日：2008-09-24

申请号：CN200680035477.7

申请日：2006-09-26

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 权恒道 ,  田村正则 ,  关屋章

IPC: C01B31/00

CPC classification number: C01B32/80

Abstract: 提供了不使用光气等毒性强的原料和难以得到的原料，可以更低廉、有效，且没有爆炸等危险、安全连续地制造COF2的方法。向反应容器内导入四氟乙烯气体和氧气，在不存在氮气的情况下，使其在气相加热反应制造碳酰氟。反应容器优选管状的反应管。四氟乙烯气体可以使用加热HCFC－22气体热分解而得的未精制或经精制的四氟乙烯气体。通过本发明可以低廉、有效且安全地制造用作CVD装置(化学气相蒸镀法)的清洗气。

公开(公告)号：CN1265435C

公开(公告)日：2006-07-19

申请号：CN03800417.8

申请日：2003-01-28

Applicant: 财团法人地球环境产业技术研究机构 ,  独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 大平丰 ,  三井有规 ,  米村泰辅 ,  关屋章

IPC: H01L21/205 ,  C09K13/08 ,  C23C16/44 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/02019 ,  B08B7/00 ,  C09K13/00 ,  C09K13/08 ,  C23C16/4405 ,  H01L21/02046 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31116 ,  Y02C20/30 ,  Y02P70/605

Abstract: 本发明的室清洁气和用于含硅膜的蚀刻气包括含2-4个氧原子的全氟环醚，所述氧原子以醚键与碳原子连接。室清洁气和蚀刻气几乎不产生有害废气如CF4，CF4是全球变暖的原因之一，并且对环境有害。它们是无毒气体或挥发性液体，易使用，并且在废气处理方面性能优良。此外，本发明的室清洁气具有优良的清洁速率。

公开(公告)号：CN102933534A

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：CN201180028359.4

申请日：2011-06-13

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 权恒道 ,  田村正则 ,  水门润治 ,  关屋章

IPC: C07C17/354 ,  B01J23/44 ,  B01J23/50 ,  B01J27/10 ,  B01J27/13 ,  B01J27/32 ,  B01J38/10 ,  C07C17/358 ,  C07C21/18 ,  C07B61/00

CPC classification number: C07C17/354 ,  B01J21/04 ,  B01J21/18 ,  B01J23/44 ,  B01J23/644 ,  B01J23/66 ,  B01J27/12 ,  B01J27/13 ,  B01J35/0006 ,  B01J35/1014 ,  B01J37/0201 ,  B01J37/0205 ,  B01J37/0207 ,  B01J37/16 ,  B01J37/18 ,  C07C17/358 ,  C07C21/22 ,  C07C21/18

Abstract: 本发明的目的是提供适合于流通式反应的高效的1，1，1，4，4，4-六氟-2-丁烯的制造法，通过将六氟-1，3-丁二烯用催化剂进行异构化，紧接着进行催化氢还原而得到顺式1，1，1，4，4，4-六氟-2-丁烯，并且以流通式的催化反应来进行全部工序，由此能够高效地得到顺式1，1，1，4，4，4-六氟-2-丁烯。

公开(公告)号：CN1911512A

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：CN200610105441.3

申请日：2006-07-05

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 权恒道 ,  杨会娥 ,  田村正则 ,  关屋章

IPC: B01J27/12 ,  B01J27/06 ,  B01J23/26 ,  B01J21/02 ,  B01J21/10 ,  B01J23/06 ,  B01J23/04 ,  B01J23/72 ,  B01J23/745 ,  B01J23/75 ,  B01J23/755 ,  B01J23/34 ,  B01J23/22

CPC classification number: B01J37/22 ,  B01J27/132 ,  B01J27/138 ,  C07C17/00 ,  C07C17/206 ,  C07C17/21 ,  C07C21/18 ,  C07C19/08

Abstract: 本发明的氟化催化剂是，通过对含有氧化铬等铬盐的金属盐用氯气/或氧气进行处理而得到的。作为金属盐，除了铬盐以外，可以举出具有催化活性的从镁、铝、锌、钠、镍、铁、钴、钒、锰、铜中选择一种以上元素的金属盐。通过本发明可以提供高温下的稳定性高、再生容易且具有出色的催化活性或选择性的新的氟化催化剂和其制备方法，另外还可以提供使用了这些催化剂的新的氟化合物制备方法，尤其1，1，1，3，3－五氟丙烷(HFC－245fa)的制备方法。