公开(公告)号：CN103700680A

公开(公告)日：2014-04-02

申请号：CN201310734014.1

申请日：2007-08-20

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 山口哲司 ,  大岸裕子 ,  安藤崇志 ,  池田晴美

IPC: H01L27/146

CPC classification number: H01L27/14636 ,  H01L27/1461 ,  H01L27/1462 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14623 ,  H01L27/14625 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14629 ,  H01L27/1464 ,  H01L27/14643 ,  H01L27/14645 ,  H01L27/14683 ,  H01L27/14818 ,  H01L27/14868

Abstract: 可以同时实现充分的空穴积聚层和暗电流的减少。固态成像装置（1）包括对入射光进行光电转换的光接收部分（12）。该固态成像装置（1）具有形成在光接收部分（12）的光接收表面（12s）上以降低界面态的膜（21），以及形成在形成为降低界面态的膜（21）上且具有固定负电荷的膜（22）。空穴积聚层（23）形成在光接收部分（12）的光接收表面（12s）上。

公开(公告)号：CN101669205B

公开(公告)日：2011-12-14

申请号：CN200780052901.3

申请日：2007-08-20

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 山口哲司 ,  大岸裕子 ,  安藤崇志 ,  池田晴美

IPC: H01L27/148 ,  H01L31/10

CPC classification number: H01L27/14636 ,  H01L27/1461 ,  H01L27/1462 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14623 ,  H01L27/14625 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14629 ,  H01L27/1464 ,  H01L27/14643 ,  H01L27/14645 ,  H01L27/14683 ,  H01L27/14818 ,  H01L27/14868

Abstract: 可以同时实现充分的空穴积聚层和暗电流的减少的固态成像装置(1)包括对入射光进行光电转换的光接收部分(12)。该固态成像装置(1)具有形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上以降低界面态的膜(21)，以及形成在形成为降低界面态的膜(21)上且具有固定负电荷的膜(22)。空穴积聚层(23)形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上。

公开(公告)号：CN102254926A

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：CN201110226436.9

申请日：2007-08-20

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 山口哲司 ,  大岸裕子 ,  安藤崇志 ,  池田晴美

IPC: H01L27/146

CPC classification number: H01L27/14636 ,  H01L27/1461 ,  H01L27/1462 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14623 ,  H01L27/14625 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14629 ,  H01L27/1464 ,  H01L27/14643 ,  H01L27/14645 ,  H01L27/14683 ,  H01L27/14818 ,  H01L27/14868

Abstract: 可以同时实现充分的空穴积聚层和暗电流的减少。固态成像装置(1)包括对入射光进行光电转换的光接收部分(12)。该固态成像装置(1)具有形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上以降低界面态的膜(21)，以及形成在形成为降低界面态的膜(21)上且具有固定负电荷的膜(22)。空穴积聚层(23)形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上。

公开(公告)号：CN101471368A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200810187316.0

申请日：2008-12-26

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 池田晴美 ,  桧山晋 ,  安藤崇志 ,  田渕清隆 ,  山口哲司 ,  大岸裕子

IPC: H01L27/146 ,  H01L21/822 ,  H04N5/225 ,  H04N5/335

CPC classification number: H01L27/14636 ,  H01L27/1461 ,  H01L27/1462 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14623 ,  H01L27/14625 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14629 ,  H01L27/1464 ,  H01L27/14643 ,  H01L27/14645 ,  H01L27/14683 ,  H01L27/14818 ,  H01L27/14868

Abstract: 一种具有光电转换入射光的光接收部的固态成像装置，包括：在光接收部的光接收面上形成的绝缘膜；及在绝缘膜上形成的具有负固定电荷的膜。在光接收部的光接收面侧形成空穴聚集层。在光接收部的一侧设置形成了外围电路的外围电路部。绝缘膜在外围电路部的表面与具有负固定电荷的膜之间形成，使得外围电路部的表面与具有负固定电荷的膜之间的距离大于光接收部的表面与具有负固定电荷的膜之间的距离。

公开(公告)号：CN101364598A

公开(公告)日：2009-02-11

申请号：CN200810145714.6

申请日：2008-08-11

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 池田晴美

IPC: H01L27/06 ,  H01L21/822

CPC classification number: H01L21/823842 ,  H01L21/82385 ,  H01L21/823857 ,  H01L27/0629 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明公开了一种半导体装置，其包括在半导体基板上形成的第一组晶体管、第二组晶体管和电阻器，所述第二组晶体管中每个晶体管的工作电压低于所述第一组晶体管中每个晶体管的工作电压，其中，所述第一组晶体管具有经过第一栅绝缘膜由硅系材料层在所述半导体基板上形成的第一栅电极；所述第二组晶体管具有经过第二栅绝缘膜将金属系栅材料填充在所述半导体基板上的层间绝缘膜中的栅形成用沟槽内而形成的第二栅电极；并且，所述电阻器具有电阻器本体和在所述电阻器本体上形成的电阻器保护层，所述电阻器本体利用所述硅系材料层并经过绝缘膜形成在所述半导体基板上。由此，可以设置能够高精度地设定其电阻值的电阻器。

公开(公告)号：CN103700681B

公开(公告)日：2016-11-30

申请号：CN201310737987.0

申请日：2007-08-20

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 山口哲司 ,  大岸裕子 ,  安藤崇志 ,  池田晴美

IPC: H01L27/146

Abstract: 可以同时实现充分的空穴积聚层和暗电流的减少。固态成像装置（1）包括对入射光进行光电转换的光接收部分（12）。该固态成像装置（1）具有形成在光接收部分（12）的光接收表面（12s）上以降低界面态的膜（21），以及形成在形成为降低界面态的膜（21）上且具有固定负电荷的膜（22）。空穴积聚层（23）形成在光接收部分（12）的光接收表面（12s）上。

公开(公告)号：CN102254926B

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201110226436.9

申请日：2007-08-20

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 山口哲司 ,  大岸裕子 ,  安藤崇志 ,  池田晴美

IPC: H01L27/146

CPC classification number: H01L27/14636 ,  H01L27/1461 ,  H01L27/1462 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14623 ,  H01L27/14625 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14629 ,  H01L27/1464 ,  H01L27/14643 ,  H01L27/14645 ,  H01L27/14683 ,  H01L27/14818 ,  H01L27/14868

Abstract: 可以同时实现充分的空穴积聚层和暗电流的减少。固态成像装置(1)包括对入射光进行光电转换的光接收部分(12)。该固态成像装置(1)具有形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上以降低界面态的膜(21)，以及形成在形成为降低界面态的膜(21)上且具有固定负电荷的膜(22)。空穴积聚层(23)形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上。

公开(公告)号：CN102324431B

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：CN201110304563.6

申请日：2007-08-20

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 山口哲司 ,  大岸裕子 ,  安藤崇志 ,  池田晴美

IPC: H01L27/146

CPC classification number: H01L27/14636 ,  H01L27/1461 ,  H01L27/1462 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14623 ,  H01L27/14625 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14629 ,  H01L27/1464 ,  H01L27/14643 ,  H01L27/14645 ,  H01L27/14683 ,  H01L27/14818 ,  H01L27/14868

Abstract: 可以同时实现充分的空穴积聚层和暗电流的减少。固态成像装置(1)包括对入射光进行光电转换的光接收部分(12)。该固态成像装置(1)具有形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上以降低界面态的膜(21)，以及形成在形成为降低界面态的膜(21)上且具有固定负电荷的膜(22)。空穴积聚层(23)形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上。

公开(公告)号：CN102324431A

公开(公告)日：2012-01-18

申请号：CN201110304563.6

申请日：2007-08-20

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 山口哲司 ,  大岸裕子 ,  安藤崇志 ,  池田晴美

IPC: H01L27/146

CPC classification number: H01L27/14636 ,  H01L27/1461 ,  H01L27/1462 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14623 ,  H01L27/14625 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14629 ,  H01L27/1464 ,  H01L27/14643 ,  H01L27/14645 ,  H01L27/14683 ,  H01L27/14818 ,  H01L27/14868

Abstract: 可以同时实现充分的空穴积聚层和暗电流的减少。固态成像装置(1)包括对入射光进行光电转换的光接收部分(12)。该固态成像装置(1)具有形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上以降低界面态的膜(21)，以及形成在形成为降低界面态的膜(21)上且具有固定负电荷的膜(22)。空穴积聚层(23)形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上。

公开(公告)号：CN101669205A

公开(公告)日：2010-03-10

申请号：CN200780052901.3

申请日：2007-08-20

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 山口哲司 ,  大岸裕子 ,  安藤崇志 ,  池田晴美

IPC: H01L27/148 ,  H01L31/10

CPC classification number: H01L27/14636 ,  H01L27/1461 ,  H01L27/1462 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14623 ,  H01L27/14625 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14629 ,  H01L27/1464 ,  H01L27/14643 ,  H01L27/14645 ,  H01L27/14683 ,  H01L27/14818 ,  H01L27/14868

Abstract: 可以同时实现充分的空穴积聚层和暗电流的减少。固态成像装置(1)包括对入射光进行光电转换的光接收部分(12)。该固态成像装置(1)具有形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上以降低界面态的膜(21)，以及形成在形成为降低界面态的膜(21)上且具有固定负电荷的膜(22)。空穴积聚层(23)形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上。