公开(公告)号：CN104303109A

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201380025453.3

申请日：2013-04-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·H·W·雅各布斯 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/7095 ,  H01L21/67103

摘要： 本发明公开了一种热调节单元(100)，用以热调节光刻设备中的衬底(W)，所述热调节单元包括：热调节元件(200)，所述热调节元件包括第一层(210)、第二层(220)以及定位在第一层和第二层之间的热传递部件(230)，第一层在使用时面对衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和加强构件(110)，所述加强构件比热调节元件硬并且配置成支撑热调节元件以便减小其机械变形，其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的。

公开(公告)号：CN102375347A

公开(公告)日：2012-03-14

申请号：CN201110234447.1

申请日：2011-08-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  E·A·F·范德帕斯奇 ,  P·P·斯汀贾尔特 ,  F·范德马斯特 ,  G·A·H·F·詹森

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70916 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70608 ,  G03F7/70683 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70908

摘要： 本发明公开了一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述光刻设备具有：第一出口，其用于将具有第一流动特性的被热调节的流体提供至传感器束路径的至少一部分；和第二出口，其与第一出口相关联，并且用以在来自第一出口的被热调节的流体附近提供具有第二流动特性的被热调节的流体，第二流动特性与第一流动特性不同。

公开(公告)号：CN118303134A

公开(公告)日：2024-07-05

申请号：CN202280077315.9

申请日：2022-11-18

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： B·L·W·M·范德文 ,  W·P·范德伦特 ,  N·J·W·鲁弗斯 ,  E·J·比伊斯 ,  D·J·M·迪莱克斯 ,  M·W·L·H·费杰兹 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  B·L·柯纳彭 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： H05G2/00

摘要： 本发明涉及一种用于将液体目标材料供应至辐射源的设备，包括：第一贮液器；加压系统，所述加压系统被配置成对液压流体加压；以及分离装置，所述分离装置被配置成将所述液压流体与所述第一贮液器中的所述液体目标材料分离且将压力从所述液压流体传送至所述液体目标材料。本发明也涉及一种将液体目标材料供应至辐射源的相关联的方法。

公开(公告)号：CN113711698A

公开(公告)日：2021-11-26

申请号：CN202080029371.6

申请日：2020-03-10

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： S·C·R·德尔克斯 ,  D·J·M·狄莱克斯 ,  M·W·L·H·菲特斯 ,  P·G·M·霍伊马克斯 ,  K·C·J·C·摩尔 ,  V·纳瓦罗帕雷德斯 ,  W·P·范德伦特 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： H05G2/00

摘要： 一种用于辐射源的碎片减少系统的污染物陷阱，污染物陷阱包括被配置为捕获从辐射源的等离子体形成区域发射的燃料碎片的多个叶片；其中多个叶片中的至少一个叶片或每个叶片包括材料，所述材料包括高于30W m‑1K‑1的热导率。

公开(公告)号：CN107300835B

公开(公告)日：2019-02-15

申请号：CN201710354580.8

申请日：2013-04-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·H·W·雅各布斯 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明公开了一种热调节单元(100)，用以热调节光刻设备中的衬底(W)，所述热调节单元包括：热调节元件(200)，所述热调节元件包括第一层(210)、第二层(220)、定位在第一层和第二层之间的热传递部件(230)以及用于在其上定位衬底的突起(260)，第一层在使用时面对衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和加强构件(110)，所述加强构件比热调节元件硬并且配置成支撑热调节元件以便减小其机械变形，其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的。

公开(公告)号：CN106873312A

公开(公告)日：2017-06-20

申请号：CN201610987008.0

申请日：2013-03-19

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： T·劳伦特 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  H·考克 ,  Y·范德维基维尔 ,  J·范德瓦尔 ,  B·克拿伦 ,  R·J·伍德 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  H·范德里基德特 ,  E·库伊克尔 ,  W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 ,  Y·B·Y·特莱特

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明提供了一种用于浸没光刻设备中的传感器、光刻设备和使用浸没光刻设备的器件制造方法。所述传感器包括构件，在传感器的使用过程中所述构件接触供给至与投影系统的最终元件相邻的空间的浸没液体；变换器，配置成将刺激转换为电信号；温度调节装置，配置成使用由冷却剂供给装置所供给的热传递介质进行所述变换器的温度调节；和控制器，配置成控制所述温度调节装置以主动地控制所述变换器的温度。

公开(公告)号：CN104303109B

公开(公告)日：2017-06-09

申请号：CN201380025453.3

申请日：2013-04-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·H·W·雅各布斯 ,  J·S·C·维斯特尔拉肯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/7095 ,  H01L21/67103

摘要： 本发明公开了一种热调节单元(100)，用以热调节光刻设备中的衬底(W)，所述热调节单元包括：热调节元件(200)，所述热调节元件包括第一层(210)、第二层(220)以及定位在第一层和第二层之间的热传递部件(230)，第一层在使用时面对衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和加强构件(110)，所述加强构件比热调节元件硬并且配置成支撑热调节元件以便减小其机械变形，其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的。

公开(公告)号：CN102375347B

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201110234447.1

申请日：2011-08-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  E·A·F·范德帕斯奇 ,  P·P·斯汀贾尔特 ,  F·范德马斯特 ,  G·A·H·F·詹森

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70916 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70608 ,  G03F7/70683 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70908

摘要： 本发明公开了一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述光刻设备具有：第一出口，其用于将具有第一流动特性的被热调节的流体提供至传感器束路径的至少一部分；和第二出口，其与第一出口相关联，并且用以在来自第一出口的被热调节的流体附近提供具有第二流动特性的被热调节的流体，第二流动特性与第一流动特性不同。

公开(公告)号：CN103091999A

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：CN201210413077.2

申请日：2012-10-25

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  R·詹森 ,  E·弗乐尔特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70875

摘要： 一种光刻设备，包括：衬底台，构造用以保持衬底；隔间，用于放置衬底台；热调节单元，布置成接纳将要被曝光的衬底和热调节衬底；和转移系统，用于将热调节后的衬底转移至衬底台，其中至少在将热调节后的衬底从热调节单元转移至衬底台期间所述衬底台和热调节单元布置在光刻设备的隔间内部。