掩模
    11.
    发明授权
    掩模 有权

    公开(公告)号:CN103959157B

    公开(公告)日:2017-09-01

    申请号:CN201280059582.X

    申请日:2012-12-03

    Inventor: 辛富建

    Abstract: 本发明提供一种掩模、一种制造该掩模的方法、一种光照射器件、一种光照射的方法和一种制造取向有序的光配向层的方法。当使用本发明的掩膜时,可以用具有优异的线性性能和均匀的照度的光照射待照射对象的表面上。此外,例如,即使在待照射对象具有弯曲表面时,本发明的掩模可以有效地照射光。

    掩模和包括该掩模的滤光器制造设备

    公开(公告)号:CN103703418B

    公开(公告)日:2017-05-24

    申请号:CN201280036229.X

    申请日:2012-07-23

    CPC classification number: G03F1/38 G03F1/50 G03F7/24

    Abstract: 提供一种掩模以及包括该掩模的滤光器制造设备。一种用于在基膜中形成图案的卷对卷工艺的掩模,所述基膜被配置成沿弯曲表面移动,所述掩模包括掩模体,所述掩模体具有被设置成与所述基膜所缠绕的辊相对的弯曲表面以及与所述弯曲表面的相反侧相对应的平表面。所述掩模体的所述弯曲表面被设置成与所述辊的弯曲表面相距预定距离。所述掩模和滤光器制造设备能够实现在所述基膜上形成均匀图案,以提高产品的质量,并精确地获得所述基膜的性质。

    隐私保护滤光片及其制造方法

    公开(公告)号:CN102947742B

    公开(公告)日:2015-04-22

    申请号:CN201180031272.2

    申请日:2011-04-22

    CPC classification number: G02F1/1323 G02F1/1533 G02F2001/1536 G02F2201/44

    Abstract: 本发明涉及一种隐私保护滤光片及其制造方法,更具体而言,涉及一种隐私保护滤光片及其制造方法,其中,所述隐私保护滤光片包括:第一透明基板;第二透明基板,其以与第一透明基板间隔预定的距离且相对地设置;电解质,其填充在第一透明基板和第二透明基板之间;和第二透明导电层,其设置在电解质与第二透明基板之间,其中第一透明基板包括:具有线栅和沟槽的凸凹图形,其形成于第一透明基板上;第一透明导电层,其形成于凸凹图形的线栅和沟槽上;和电致变色层,其沿着线栅的侧壁在第一透明导电层上形成,并且包含电致变色材料以根据是否施加电信号来透射或吸收可见光。本发明的隐私保护滤光片在隐私模式下有效地阻挡了光的侧向透射而没有损失前侧透射,实现宽视野模式和窄视野模式之间的快速转换,并确保优异的滤光性能和驱动稳定性。

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