具有辊压抛光凹部的缸套
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105298674A

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:CN201510354593.6

    申请日:2015-06-24

    发明人: B·L·摩根

    IPC分类号: F02F1/00 B24B39/00

    摘要: 公开一种具有辊压抛光凹部的缸套。缸套可包括沿纵向轴线从顶端延伸到底端的空心大致柱形主体和从主体的顶端径向向外延伸的环形法兰。缸套还可包括在最靠近主体的底端的一侧邻近法兰的环形凹部。所述凹部可具有:第一轴向端和第二轴向端;在第一轴向端与第二轴向端之间延伸的大致直部分;以及在直部分与第一轴向端和第二轴向端中的至少一个之间的相交部分处形成的至少一个圆角。可在沿着纵向轴线的方向上对直部分和所述至少一个圆角实施辊压抛光操作。

    精磨抛光机
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103921207A

    公开(公告)日:2014-07-16

    申请号:CN201310009068.1

    申请日:2013-01-10

    发明人: 王良标

    IPC分类号: B24B39/00 B24B47/00 B24B41/00

    摘要: 本发明提供一种精磨抛光机,包括:机台、安装于机台上的磨盘、安装于机台上的龙门架、安装于龙门架上的施压机构、安装于龙门架上用于驱动施压机构的传动机构及安装于龙门架上的控制箱,所述龙门架包括相对设置的第一与第二支撑臂及安装于第一与第二支撑臂远离磨盘端的横梁,所述第一与第二支撑臂分别位于所述磨盘的两侧,所述横梁位于所述磨盘的上方,所述施压机构、传动机构及控制箱均安装于横梁上。本发明通过龙门架平稳的支撑施压机构,有效保证施压机构的气缸运行中的平稳性,进而保证抛光质量。

    微孔抛光垫
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102189506B

    公开(公告)日:2013-03-13

    申请号:CN201110093293.9

    申请日:2003-05-21

    IPC分类号: B24D13/00 B24D3/32 B24B39/00

    摘要: 本发明涉及微孔抛光垫,更具体地说,本发明提供用于化学-机械抛光的包括多孔发泡体的抛光垫及其制造方法。一个具体实施方式中,该多孔发泡体平均孔径为50微米或以下,其中75%或以上的孔隙具有平均孔径20微米或以下的孔径。在一个具体实施方式中,多孔发泡体的平均孔径20微米或以下。又另一个具体实施方式中,该多孔发泡体具有多-模态孔径分布。该制造方法包括(a)使聚合物树脂与超临界气体结合产生单相溶液,及(b)从该单相溶液形成抛光垫,其中通过使气体经历高温及高压产生超临界气体。