公开(公告)号：CN102644059A

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN201110347681.5

申请日：2011-11-07

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 林永昌 ,  李济玩 ,  李星昊 ,  朴成镐 ,  崔完旭 ,  郑锡宪

IPC分类号： C23C14/56 ,  C23C16/54 ,  C23C14/04 ,  C23C16/04 ,  H01M4/04 ,  H01M4/139

摘要： 本发明公开了一种在正或负电极板上形成活性材料层和非涂覆部分的连续沉积装置。该连续沉积装置包括：第一引导鼓，接触从拆卷机供应的电极集电器的第一表面，以支撑电极集电器；第一沉积源，邻近第一引导鼓以将活性材料供应到在第一引导鼓上传递的电极集电器；第一遮蔽单元，遮蔽在第一引导鼓上传递的电极集电器的部分以形成非涂覆部分；第一驱动单元，连接到第一遮蔽单元以使第一遮蔽单元沿第一引导鼓的外表面往复移动；第一引导单元，邻近且连接到第一遮蔽单元以支持第一遮蔽单元的移动；以及第二驱动单元，连接到第一引导单元以使第一引导单元在一方向上水平地往复移动，该方向垂直于通过第一驱动单元移动的第一遮蔽单元的移动方向。

公开(公告)号：CN100373541C

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：CN200610000330.6

申请日：2006-01-04

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 韩尚辰 ,  李星昊 ,  许明洙 ,  郑锡宪 ,  宋官燮 ,  康熙哲

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/20 ,  H01L21/683 ,  C23C14/04 ,  C23C16/04

摘要： 本发明提供一种夹盘组件，包括：荫罩，形成有预定的图案；荫罩框架，支持所述荫罩并具有热辐射和冷却功能；基底，与荫罩对齐并且来自沉积源的沉积材料被沉积在其上；夹盘，将所述基底附在荫罩上，该夹盘包括冷却剂循环管。考虑荫罩的温度优化基底的温度，从而由于热变形导致的对齐误差被最小化。即，防止荫罩本身的温度上升，从而防止由于热膨胀导致的荫罩的变形，提高了基底图案位置的精确度。

公开(公告)号：CN1814854A

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：CN200510092373.7

申请日：2005-08-29

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 金度根 ,  许明洙 ,  郑锡宪 ,  康熙哲 ,  古野和雄

IPC分类号： C23C14/26

摘要： 一种蒸发源和蒸镀装置，该蒸发源将坩埚和加热部以及喷嘴部配置在一个划分空间，缩小其尺寸；所述蒸镀装置利用所述蒸发源将蒸镀物质蒸镀在基板上。所述蒸发源包括：壳体(110)；内设于所述壳体(110)内的坩埚(120)；内设于所述壳体(110)中，用于加热坩埚(120)而设于其周边的加热部；喷嘴部，经由喷射嘴(140)将从所述坩埚(120)蒸发的蒸镀物质喷射到位于壳体(110)外部的基板(220)上。

公开(公告)号：CN1805119A

公开(公告)日：2006-07-19

申请号：CN200610000330.6

申请日：2006-01-04

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 韩尚辰 ,  李星昊 ,  许明洙 ,  郑锡宪 ,  宋官燮 ,  康熙哲

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/20 ,  H01L21/683 ,  C23C14/04 ,  C23C16/04

摘要： 本发明提供一种夹盘组件，包括：阴罩，形成有预定的图案；阴罩框架，支持所述阴罩并具有热辐射和冷却功能；基底，与阴罩对齐并且来自沉积源的沉积材料被沉积在其上；夹盘，将所述基底附在阴罩上，该夹盘包括冷却剂循环管。考虑阴罩的温度优化基底的温度，从而由于热变形导致的对齐误差被最小化。即，防止阴罩本身的温度上升，从而防止由于热膨胀导致的阴罩的变形，提高了基底图案位置的精确度。

公开(公告)号：CN1800443A

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：CN200510117051.3

申请日：2005-10-31

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 韩尚辰 ,  宋官燮 ,  康熙哲 ,  郑锡宪

IPC分类号： C23C14/54 ,  C23C14/50 ,  C23C14/24

CPC分类号： H01L21/68728 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68778 ,  Y10S414/136 ,  Y10S414/141 ,  Y10T29/53265

摘要： 本发明提供一种基片固定盘，为了在真空工程用垂直基片固定盘的平板面上固定和支持所述基片，包含至少一部分以上基片固定单元，并且，通过固定和支持垂直布置的基片，可以进行高精度的校正和更加稳定的蒸镀工艺。基片固定盘(60)及利用该基片固定盘(60)的基片校正系统及其方法，包含被蒸镀蒸镀物的基片(10)、用于容纳所述基片(10)的框架(70)、用于容纳所述框架(70)而构成的盘(60)、用于在所述框架(70)上固定和支持所述基片(10)而构成的至少一个以上基片固定单元(110)。

公开(公告)号：CN1787704A

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：CN200510092214.7

申请日：2005-07-01

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 李奎成 ,  金汉基 ,  金度根 ,  许明洙 ,  郑锡宪

IPC分类号： H05B33/10 ,  H05B33/26

CPC分类号： H01L51/5203 ,  C23C14/352 ,  H01L51/0008 ,  H01L51/0021

摘要： 本发明提供一种通过利用对面靶溅射设备制造有机发光器件的方法。该方法包括在基板上形成第一电极；在第一电极上形成有机薄膜；以及通过对面靶溅射设备在有机薄膜上形成第二电极。因此，以低的温度在有机发光器件上形成电极薄膜而没有由于等离子体导致的劣化，可以提高光发射效率和有机发光器件的电光特性。