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公开(公告)号：CN114181530A
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN202111075986.5
申请日：2021-09-14
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08L83/04 , C08K3/08 , C08K3/04 , C08K5/435 , C08K3/36 , C08K9/06 , A61B5/0533 , A61B5/28 , A61B5/265 , A61B5/263
Abstract: 本发明涉及生物体电极组成物、生物体电极、生物体电极的制造方法、及硅材料粒子。本发明的课题为提供一种生物体电极组成物，含有(A)表面具有N‑羰基磺酰胺盐的粒子，其特征为：该N‑羰基磺酰胺盐为下述通式(1)表示者。[化1]式中，R1为碳数1～20的直链状、分支状、环状的亚烷基，且也可具有芳香族基、醚基、酯基，或为碳数6～10的亚芳基。Rf为碳数1～4的直链状、分支状、环状的烷基、碳数6～10的芳基，且也可具有氟原子。M+为选自锂离子、钠离子、钾离子、银离子的离子。
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公开(公告)号：CN107918248B
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN201710912844.7
申请日：2017-09-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。本发明提供包含基体聚合物和羧酸或磺酰胺的金属盐的抗蚀剂组合物，金属选自钙、锶、钡、铈、铝、铟、镓、铊、钪和钇。抗蚀剂组合物显示出增敏效果和酸扩散抑制效果，且形成具有改进的分辨率、LWR和CDU的图案。
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公开(公告)号：CN107703716B
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201710668353.2
申请日：2017-08-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料和图案形成方法。本发明提供在正型抗蚀剂材料和负型抗蚀剂材料中都为高灵敏度且LWR、CDU小的抗蚀剂材料以及使用其的图案形成方法。抗蚀剂材料，其包含基础聚合物和产酸剂，该产酸剂包含由下述式(1‑1)表示的锍盐或者由下述式(1‑2)表示的碘鎓盐。
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公开(公告)号：CN111378271A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911356778.5
申请日：2019-12-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 畠山润
Abstract: 本发明的目的是提供具有优良的伸缩性且膜表面的拨水性优良，而且表面不发粘的伸缩性膜及其形成方法。一种伸缩性膜，至少表面由含有有机硅聚氨酯树脂的伸缩性膜材料的固化物构成，其特征为：该伸缩性膜的表面形成有深度0.1μm～2mm、节距0.1μm～5mm的范围的凹凸的重复图案。
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公开(公告)号：CN106336603A
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201610537136.5
申请日：2016-07-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种导电性高分子组合物，所述导电性高分子组合物在对电子束抗蚀剂进行刻写时的抗静电性能优异，并且抗蚀剂 量为1000～500000的范围。上的涂布性、以及利用H2O和碱性水溶液而产生的剥离性优异，能够适用于电子束光刻。为了解决上述问题，本发明提供一种导电性高分子组合物，其含有：(A)π-共轭系导电性高分子，其具有由下述通式(1-1)、通式(1-2)及通式(1-3)所示的重复单元中的至少1种；及，(B)掺杂聚合物，其包含由下述通式(2)所示的重复单元a，重均分子
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105717744A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201510955723.1
申请日：2015-12-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/38 , C07C69/533 , C07C69/54
Abstract: 提供具有多个叔醇羟基的单体。通过将该单体聚合而得到的有用的聚合物。由包含该聚合物的抗蚀剂组合物，以高分辨率形成在碱显影剂中不可溶并且具有高耐蚀刻性的负型图案。
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公开(公告)号：CN120010184A
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202411614790.2
申请日：2024-11-13
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 畠山润
IPC: G03F7/004 , C07D333/76 , C07C309/42 , C07C25/18 , C07C381/12 , G03F7/038 , G03F7/039
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论正型或负型皆为高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：双鎓盐，含有具有直接键结于被碘原子取代的芳香族基团的磺酸阴离子结构及直接键结于该芳香族基团或间隔含有1个以上的原子的连接基团而键结的羧酸阴离子结构的2价阴离子、以及鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN119841753A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202411434889.4
申请日：2024-10-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D333/76 , C07C25/18 , C07C309/12 , C07C309/75 , C07C309/73 , G03F7/004 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F220/30
Abstract: 本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种鎓盐型单体，其在化学增幅抗蚀剂组成物中使用，该化学增幅抗蚀剂组成物于使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度且曝光裕度(EL)、LWR、CDU、焦点深度(DOF)等光刻性能优异，同时于微细图案形成时抗图案崩塌、蚀刻耐性也优良。本发明并提供含有来自该鎓盐型单体的重复单元的聚合物、含有该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种下式(a)表示的鎓盐型单体。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119805860A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411399343.X
申请日：2024-10-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D333/76 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07C311/51 , C07C311/04 , C07C311/48 , C07C311/24 , C07C311/29
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位或β位具有氟原子或三氟甲基的磺酸阴离子结构及与该具有碘原子或溴原子的芳香族基团经由碳数1以上的连接基团进行键结的磺酰亚胺阴离子结构或磺酰胺阴离子结构的2价阴离子、以及鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN119335814A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202410957522.4
申请日：2024-07-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及光学光刻用涂布材料、抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供包含不具有全氟烷基结构的表面活性剂的光学光刻用涂布材料、涂布后膜的平坦性优良，不仅涂布后连显影后的缺陷产生亦少的抗蚀剂材料、及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种光学光刻用涂布材料，包含0.0001～3质量％由具有经氟原子取代的芳香族基、三氟甲氧基、二氟甲氧基、三氟甲硫基或二氟甲硫基的树脂构成的表面活性剂。
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