光电转换元件
    21.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104995742B

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:CN201480008328.6

    申请日:2014-03-27

    Inventor: 木本贤治

    CPC classification number: H01L31/022441 H01L31/03762 H01L31/075 Y02E10/548

    Abstract: 本申请是一种光电转换元件,包括半导体本征层(4)、第一导电型层(6)、第二导电型层(8)、覆盖所述本征层(4)的一部分的第一绝缘层(5)、第一电极(9)以及第二电极(10),其特征在于,所述第一导电型层(6)的一部分以及所述第二导电型层(8)的一部分位于所述本征层(4)和所述第一绝缘层(5)相接的区域的上方。(1)、在该半导体(1)上设置且含有氢化非晶硅的

    光电转换元件
    22.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104995747B

    公开(公告)日:2016-12-14

    申请号:CN201480008279.6

    申请日:2014-03-27

    Inventor: 木本贤治

    Abstract: 一种光电转换元件,包括在第一导电型的半导体上设置且含有氢化非晶硅的本征层、覆盖本征层的一部分且含有第一导电型的氢化非晶硅的第一导电型层、含有第二导电型的氢化非晶硅的第二导电型层以及绝缘层,第一电极经由第二导电型层设置在第一导电型层上,并且,第一电极的至少一部分位于第一导电型层和本征层相接的区域的上方,第二电极的至少一部分位于第二导电型层和本征层相接的区域的上方。

    光电转换装置
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105684159A

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201480058657.1

    申请日:2014-10-24

    Abstract: 提供一种能够抑制包含杂质的非晶态半导体层与形成于该非晶态硅层上的电极的接触电阻变大,从而提高元件特性的光电转换装置。光电转换元件(10)具备硅基板(12)、第1非晶态半导体层(20n)、第2非晶态半导体层(20p)、第1电极(22n)和第2电极(22p)。一方的电极(22n)包括第1导电层(26n、26p)和第2导电层(28n、28p)。第1导电层(26n、26p)将第1金属作为主要成分。第2导电层(28n、28p)包含比第1金属更容易被氧化的第2金属,与第1导电层(26n、26p)相接地形成,并且与第1导电层(26n、26p)相比更配置于硅基板(12)的附近。

    光电转换元件以及光电转换元件的制造方法

    公开(公告)号:CN104662673B

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201380049902.8

    申请日:2013-09-19

    Abstract: 提供一种光电转换元件及其制造方法,该光电转换元件包括:第一导电型的半导体基板;第一导电型的第一非晶膜,设置在该半导体基板的一个表面的整个面;第一导电性氧化物层,设置在该第一非晶膜上;第一导电型的第二非晶膜,设置在该半导体基板的另一个表面的一部分;第二导电性氧化物层,设置在该第二非晶膜上;第二导电型的第三非晶膜,设置在该半导体基板的另一个表面的其他的一部分;以及第三导电性氧化物层,设置在该第三非晶膜上,该第一导电性氧化物层的导电率比该第二导电性氧化物层以及该第三导电性氧化物层的导电率低,该第一导电性氧化物层的透过率比该第二导电性氧化物层以及该第三导电性氧化物层的透过率高。

    光电转换元件以及光电转换元件的制造方法

    公开(公告)号:CN104662673A

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201380049902.8

    申请日:2013-09-19

    Abstract: 提供一种光电转换元件及其制造方法,该光电转换元件包括:第一导电型的半导体基板;第一导电型的第一非晶膜,设置在该半导体基板的一个表面的整个面;第一导电性氧化物层,设置在该第一非晶膜上;第一导电型的第二非晶膜,设置在该半导体基板的另一个表面的一部分;第二导电性氧化物层,设置在该第二非晶膜上;第二导电型的第三非晶膜,设置在该半导体基板的另一个表面的其他的一部分;以及第三导电性氧化物层,设置在该第三非晶膜上,该第一导电性氧化物层的导电率比该第二导电性氧化物层以及该第三导电性氧化物层的导电率低,该第一导电性氧化物层的透过率比该第二导电性氧化物层以及该第三导电性氧化物层的透过率高。

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