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公开(公告)号:CN107407874A
公开(公告)日:2017-11-28
申请号:CN201680020207.2
申请日:2016-03-17
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/022 , C08F214/18 , G03F7/004
Abstract: 一种辐射敏感组合物,其含有抗蚀基材(A)、重氮萘醌光活性化合物(B)以及溶剂(C),该组合物中的前述溶剂(C)的含量为20~99质量%,前述溶剂(C)之外的成分的含量为1~80质量%,前述抗蚀基材(A)为下述式(1)所示的化合物。(式(1)中,R1为碳数1~30的2n价基团,R2~R5各自独立地表示碳数1~10的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数1~30的烷氧基、卤素原子、巯基、或羟基,其中,至少一个R4和/或至少一个R5为选自羟基和巯基中的1种以上,m2和m3各自独立地为0~8的整数,m4和m5各自独立地为0~9的整数,其中,m4和m5不同时为0,n为1~4的整数,p2~p5各自独立地为0~2的整数。)
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公开(公告)号:CN106462059A
公开(公告)日:2017-02-22
申请号:CN201580024204.1
申请日:2015-05-08
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 本发明的抗蚀材料含有下述式(1)所示的化合物。(式(1)中,R0各自独立地为包含氧原子的1价基团、包含硫原子的1价基团、包含氮原子的1价基团、烃基或卤原子,p各自独立地为0~4的整数。)
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公开(公告)号:CN118215476A
公开(公告)日:2024-06-18
申请号:CN202280074409.0
申请日:2022-10-19
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 本发明提供用于抑制或预防内耳性耳聋的组合物等,其中,所述组合物含有麦角硫因或其盐。
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公开(公告)号:CN107949808B
公开(公告)日:2021-10-22
申请号:CN201680050394.9
申请日:2016-08-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C07D311/78 , G03F7/26 , H01L21/027
Abstract: 本实施方式提供一种光刻用下层膜形成材料,其含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示的化合物的结构单元的树脂中的至少任一种。式(1)中,R1为碳数1~60的2n价基团或单键,R2各自独立地为卤素原子、碳数1~10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数1~30的烷氧基、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团,在同一萘环或苯环中可以相同也可以不同,此处,至少1个R2为羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团,n为1~4的整数,n为2以上的整数时,n个[]内的结构单元的结构式可以相同也可以不同,X表示氧原子、硫原子或未桥接,m2各自独立地为0~7的整数,其中,至少1个m2为1~7的整数,q各自独立地为0或1。
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公开(公告)号:CN108473639A
公开(公告)日:2018-08-31
申请号:CN201680076151.2
申请日:2016-12-26
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G8/02 , G03F7/26 , C07C39/14 , C07C39/15 , G02B1/04 , G03F7/023 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/20
CPC classification number: C07C39/14 , C07C39/15 , C08G8/02 , G02B1/04 , G03F7/023 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 使用下述式(0)所示的化合物。(式(0)中,RY为碳数1~30的直链状、支链状或环状的烷基或碳数6~30的芳基,RZ为碳数1~60的N价的基团或单键,RT各自独立地为任选具有取代基的碳原子数1~30的烷基、任选具有取代基的碳原子数6~40的芳基、任选具有取代基的碳原子数2~30的烯基、任选具有取代基的碳数1~30的烷氧基、卤素原子、硝基、氨基、氰基、巯基、羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团所取代的基团,此处,前述烷基、前述烯基和前述芳基任选包含醚键、酮键或酯键,此处,RT中的至少1个为羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团所取代的基团,X表示氧原子、硫原子或为无桥接,m各自独立地为0~9的整数,此处,m中的至少1个为1~9的整数,N为1~4的整数,此处,N为2以上的整数的情况下,N个[]内的结构式任选相同或不同,r各自独立地为0~2的整数。)
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公开(公告)号:CN107430337A
公开(公告)日:2017-12-01
申请号:CN201680019062.4
申请日:2016-03-28
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/022
Abstract: 一种辐射敏感组合物,其含有(A)抗蚀剂基材、(B)重氮萘醌光活性化合物以及(C)溶剂,前述辐射敏感组合物中的固体成分的含量为1~80质量%,溶剂的含量为20~99质量%,前述(A)抗蚀剂基材为式(1)所示的化合物。
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公开(公告)号:CN107250089A
公开(公告)日:2017-10-13
申请号:CN201680009964.X
申请日:2016-02-12
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C43/235 , C07C41/38 , C07C43/205 , C07C43/275 , C08G8/00 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/26
CPC classification number: C07C43/275 , C07C41/38 , C07C43/205 , C07C43/235 , C08G8/00 , C08G8/10 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/30
Abstract: 一种下述式(1)所示的化合物。(式(1)中,R1为碳数1~30的2n价基团,R2~R5分别独立地为碳数1~10的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数1~30的烷氧基、巯基或羟基,其中,R4中的至少1个和/或R5中的至少1个为碳数1~30的烷氧基,m2和m3分别独立地为0~8的整数,m4和m5分别独立地为0~9的整数,其中,m4和m5不同时成为0,n为1~4的整数,p2~p5分别独立地为0~2的整数。
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公开(公告)号:CN107108549A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201580070416.3
申请日:2015-12-14
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07D311/78 , C08G8/04 , C08G18/30 , G03F7/11 , G03F7/26
CPC classification number: C07D311/78 , C08G8/04 , C08G8/08 , C08G18/30 , C09D161/06 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26 , G03F7/30
Abstract: 一种下述式(1)所示的化合物。(式(1)中,X分别独立地表示氧原子或者硫原子、或为无交联,R1为单键或碳数1~30的2n价基团,该基团任选具有脂环式烃基、双键、杂原子或碳数6~30的芳基,R2分别独立地为碳数1~10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数1~30的烷氧基、碳数6~30的芳氧基或羟基,此处,R2中的至少1个为碳数1~30的烷氧基或碳数6~30的芳氧基,m分别独立地为1~6的整数,p分别独立地为0或1,n为1~4的整数。)
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