公开(公告)号：CN1953125A

公开(公告)日：2007-04-25

申请号：CN200610152812.3

申请日：2006-10-18

申请人： 显示器生产服务株式会社

发明人： 金东吉 ,  李永哲 ,  金圣中 ,  金成海

IPC分类号： H01J9/02

摘要： 本发明涉及一种外部电极荧光灯的电极制造方法，包括：以非电解镀镍方式处理玻璃管两端的工序；在上述镀镍处理工序之后，将玻璃管浸渍于含有锌及锡或铅的电极材料中，以形成电极的工序。采用本发明可以提供一种外部电极荧光灯的电极制造方法，其适用于平板显示器光源的背光灯且简化荧光灯的电极制造工艺，从而提高生产效率并增加外部电极硬度。

公开(公告)号：CN1721092A

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN200510084092.7

申请日：2005-07-12

申请人： 显示器生产服务株式会社

发明人： 朴庸硕

IPC分类号： B08B5/04

摘要： 一种用于面板处理系统的吸取单元组件，包括：压力流体生成单元；流体供给单元，该流体供给单元具有与所述压力流体生成单元相通的供给通道，并具有排出室；将由供给通道供给的压力流体引导至排出室的导向单元；以及吸取单元，该吸取单元具有与所述导向通道相通且通过压力流体的流动而形成负压的吸取通道。

公开(公告)号：CN1229694C

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：CN03109376.0

申请日：2003-04-08

申请人： 显像制造服务股份有限公司

发明人： 朴庸硕 ,  赵汉范

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02F1/1333

摘要： 本发明提供了一种曝光系统，该系统可以在即使只采用单一灯光装置的情况下，而使光线均匀地照射到基板上，因此降低了生产成本。曝光系统包括一个暗室，提供一个LCD基板经历曝光工艺处理的空间，并且具有一个顶部开口，一个封闭顶部开口的透明窗，以密封暗室，以及一个灯光装置，与暗室的顶部间隔一个固定的距离，并且以固定的方向发射光线到暗室内部。

公开(公告)号：CN1690866A

公开(公告)日：2005-11-02

申请号：CN200510066251.0

申请日：2005-04-25

申请人： 显示器生产服务株式会社

发明人： 朴庸硕

IPC分类号： G03F7/42 ,  H01L21/00 ,  B65G49/00 ,  B08B3/02 ,  B08B5/02

摘要： 本发明公开了一种面板处理系统，包括：用于从盒装载面板到生产流水线的装载机；I型面板生产流水线，用于(a)对面板进行剥离工序，(b)通过喷洒去离子水到已剥离的面板上来清洁面板，并去除水，(c)干燥已清洁的面板；用于从面板生产流水线卸载面板的卸载机。

公开(公告)号：CN1221015C

公开(公告)日：2005-09-28

申请号：CN03153701.4

申请日：2003-08-18

申请人： 显像制造服务株式会社

发明人： 李硕周 ,  朴起范

IPC分类号： H01L21/302 ,  B08B3/00 ,  H01J9/00

摘要： 一种具有改良式气体混合装置的湿机台，可以缩小湿机台的尺寸以及湿机台需要的处理时间，气体混合装置会被装置在一个供应化学溶液并放置在一个溶液槽与储存槽之间的供应管内，透过喷洒跟浸泡在一个清洁液内可以处理在溶液槽内的半导体基底。

公开(公告)号：CN1636639A

公开(公告)日：2005-07-13

申请号：CN200410102476.2

申请日：2004-12-23

申请人： 显示器生产服务株式会社

发明人： 朴庸硕

IPC分类号： B08B3/02 ,  B08B5/04

摘要： 一种面板处理系统，包括：驱动单元；浴室，该浴室形成有面板处理区域和驱动区域；面板输送轴，该输送轴位于面板处理区域中，用来通过接收来自驱动单元的旋转力输送面板；一个或多个支撑部件，用于支撑面板输送轴并且提供用于处理该面板的流体；以及，流体喷射单元，该单元对应于在面板处理区域中的面板输送部分设置，用来通过流体通道单元向面板喷射流体。

公开(公告)号：CN1579650A

公开(公告)日：2005-02-16

申请号：CN200410062688.2

申请日：2004-08-06

申请人： 显示器生产服务株式会社

发明人： 朴庸硕

IPC分类号： B08B1/04 ,  B08B13/00

摘要： 一种用于平面显示面板的清洗装置，包括可与面板上下表面中的至少一个表面接触的滚动刷、用于固定滚动刷并调节滚动刷移向或离开面板表面的间隙调节器和用于旋转滚动刷的驱动单元。间隙调节器包括用于固定滚动刷的驱动轴、用于分别支撑驱动轴相对两端的第一和第二固定支架、分别固定在第一和第二固定支架上并用于支撑驱动轴并使驱动轴可上下移动的第一和第二旋转板、用于产生能量以旋转第一和第二旋转板的驱动源以及用于将驱动源的能量传输至旋转板的能量传输单元。

公开(公告)号：CN1577720A

公开(公告)日：2005-02-09

申请号：CN200410048730.5

申请日：2004-06-15

申请人： 显示器生产服务株式会社

发明人： 朴庸硕 ,  金京喆 ,  李硕周

IPC分类号： H01L21/00 ,  B65G49/07

CPC分类号： H01L21/6719 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67196

摘要： 一种衬底输送/处理系统包括：衬底堆垛基座；用于从/向基座接收/输送衬底的衬底输送构件；用于清洁和干燥从衬底输送构件输送的衬底的衬底清洁/干燥装置；用于处理经过衬底清洁/干燥装置清洁和干燥、并且通过衬底输送构件输送的衬底的衬底处理装置。

公开(公告)号：CN1451988A

公开(公告)日：2003-10-29

申请号：CN03122128.9

申请日：2003-04-17

申请人： 株式会社显像制造服务

发明人： 赵载成 ,  朴根鲁

IPC分类号： G02B21/00 ,  G01N21/88

CPC分类号： G01N21/9501

摘要： 本发明提供一种检测一种平板显示器的显微镜。所述的显微镜包括至少一个执行旋转和平移运动的显微镜单元。相应地，可能减少显微镜检测基板的整个表面而不得不移动的距离和检测基板所必需的时间。因为一个透明盖在显微镜单元和基板之间延伸，在显微镜单元的旋转运动中出现的微粒就会聚集在透明盖上。因此，可能防止基板的污染。

公开(公告)号：CN1342999A

公开(公告)日：2002-04-03

申请号：CN01124819.X

申请日：2001-06-29

申请人： 株式会社D.M.S

发明人： 裵禹庆

IPC分类号： H01L21/30 ,  H01L21/84 ,  H01L21/3065 ,  G02F1/13

摘要： 本发明公开了一种用于处理玻璃基片或晶片的除灰装置,包括:下电极,其上安装有玻璃基片或晶片,其中光阻材料施加到玻璃基片或晶片上;上电极,用于与下电极一起形成电场;气缝或气管,用于供气到除灰室内;安全盖,设置在上电极上,用于与除灰室的外壁一起形成密封环境;电源,用于在上电极与下电极之间形成电场;绝缘体,插入上电极与除灰室的外壁之间,用于防止彼此之间的电接触;和排气口,将除灰室中汽化的光阻材料排放到除灰室外。