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公开(公告)号：CN101833247A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN201010004587.5
申请日：2005-06-02
申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01M11/0257 , G01M11/0214 , G01M11/0271 , G03F7/70341 , G03F7/70591 , G03F7/70716 , G03F7/70958 , Y10T428/31
摘要： 一种用于微光刻投影曝光系统的投影物镜的光学测量的测量系统，所述投影物镜被配置为将设置于所述投影物镜的物面中的图案成像到所述投影物镜的像面上，所述投影物镜被设计为浸没物镜，用于借助设置在所述投影物镜的物侧和像侧的至少一个上的浸液进行成像；其特征在于所述测量系统包括：至少一个具有测量结构的结构载体，该结构载体被设置在浸液区域中，给该结构载体分配一个保护系统，以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。因此，在浸液条件下的浸液系统的测量在测量精确度方面，可能不受浸液的有害影响。
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公开(公告)号：CN100594430C
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200580018031.9
申请日：2005-06-02
申请人： 卡尔蔡司SMT股份公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01M11/0257 , G01M11/0214 , G01M11/0271 , G03F7/70341 , G03F7/70591 , G03F7/70716 , G03F7/70958 , Y10T428/31
摘要： 一种用于光学成像系统(150)的光学测量的测量系统(100)，提供该光学成像系统以使设置在成像系统的目标表面(155)的图案成像到成像系统的图像表面(156)，该测量系统包括，具有目标侧测量结构(111)的目标侧结构载体(110)，其设置于成像系统的目标侧上；具有图像侧测量结构(121)的图像侧结构载体(120)，其设置于成像系统的图像侧上；该目标侧测量结构和该图像侧测量结构以这种方式彼此匹配：当目标侧测量结构借助于成像系统成像到图像侧测量结构上时，产生叠加图案；和用于叠加图案的局部分辨采集的检测器(130)。该成像系统设计为用于借助浸液(171)成像的浸液系统。给设置在浸液区域中的结构载体分配保护系统(125)，以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。因此，在浸液条件下的浸液系统的测量在测量精确度方面，可能不受浸液的有害影响。
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公开(公告)号：CN100526830C
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200480001443.7
申请日：2004-09-01
申请人： 奥林巴斯株式会社
发明人： 江田幸夫
CPC分类号： G01M11/0271 , G01B11/2441
摘要： 一种测定被检光学系统的波像差的波像差测定装置。照明系统(1)具有输出各波长(λ1、λi)的激光束的激光光源(1-1、1-2)，对应被作为进行波像差分析的对象的被检光学系统(8)的波长(λ1、λi)选择任意一个激光光源(1-1、1-2)，波像差分析装置(2)根据在照明系统(1)所选择的激光束的波长(λ1、λi)和干涉条纹图像数据，分析被检光学系统(8)的波像差。
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公开(公告)号：CN1800803A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200610005790.8
申请日：2006-01-06
申请人： 松下电器产业株式会社
IPC分类号： G01M11/02
CPC分类号： G01M11/0271
摘要： 提供一种能够高精度地评价光学部件的性能的检查方法。检查方法中，根据透射光学部件(18)的光(16)，形成具有不同相位的第1和第2光(24)、(26)，使第1和第2光产生干涉形成干涉区域(30)。在干涉区域(30)，设定直线(66)、直线(70)、直线(72)，求出各直线(72)上的光强度的分布。而且，求出与最大的光强度对应的频率。进而，根据针对直线(72)各自所求出的多个频率，求出近似直线或者近似曲线。并且，基于近似的直线或者曲线的系数评价光学部件的像差。
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公开(公告)号：CN1536348A
公开(公告)日：2004-10-13
申请号：CN200410002966.5
申请日：1999-04-21
申请人： 株式会社理光
发明人： 森田展弘
IPC分类号： G01N21/43
CPC分类号： G01N21/23 , G01J4/04 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G01M11/0285
摘要： 本发明涉及双折射测定方法及其装置，该装置包括照射光学系、照射侧移位机构、偏振光元件、回转装置、回转角检测装置、受光元件、成像光学系及运算装置。照射光学系位置，以发散光照射被检透镜，使偏振光元件回转，透过偏振光元件的光成像在受光元件上，根据偏振光元件回转角度及受光元件的受光输出，计算被检透镜的双折射。能得到光学畸变影响小的光弹性干涉条纹像，也能很容易地对应被检透镜种类的变更。
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公开(公告)号：CN106768893A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611248041.8
申请日：2016-12-29
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G01M11/02
CPC分类号： G01M11/0271
摘要： 本发明公开了一种凹面光栅衍射效率测试仪，包括光源系统、测量单色仪和傅里叶光谱测量系统；所述傅里叶光谱测量系统包括开始有第二入射孔的第二壳体、设置于所述第二壳体内的沿光路传输方向依次布置的准直镜、分光立方体A、固定角锥体A、移动角锥体A以及聚光镜；经所述第一入射孔进入第一壳体的光能够直接照射在所述支撑台上的待测元件上，并由待测元件汇聚到出射臂上，进而经过出射臂照射在主探测器上。该凹面光栅衍射效率测试仪可以有效地避免待测凹面光栅与标准反射镜出射光谱宽度不一致、光栅叠级、仪器杂散光较大、光源稳定性较差影响测量精度的问题。
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公开(公告)号：CN106707501A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201611182162.7
申请日：2016-12-20
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
CPC分类号： G02B26/06 , G01B11/2441 , G01M11/00 , G01M11/0271
摘要： 本发明公开了一种移相装置以及标定方法。所述移相装置包括：光程匹配模块和移相模块；所述光程匹配模块包括第一光纤、第一透镜、第二光纤、第二透镜和电机；所述第一光纤、第一透镜、第二光纤和第二透镜依次设置在同一光轴上；所述电机驱动第二光纤和第二透镜沿光轴方向移动；所述移相模块包括光楔对和移相器，所述移相器驱动光楔对中的一块光楔沿垂直于光轴的方向移动。本发明还公开了一种标定方法。所述移相装置以及标定方法能实现高精度移相。
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公开(公告)号：CN106248623A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610402338.9
申请日：2016-06-08
申请人： 佳能株式会社
发明人： 杉本智洋
CPC分类号： G01N21/45 , G01B9/02024 , G01B11/06 , G01M11/0271 , G01N2201/066 , G01N2201/068 , G01N2201/12 , G01M11/0228
摘要： 本发明涉及折射率测量方法、测量装置和光学元件制造方法。以高精度测量测试对象的相位折射率。通过将来自光源的光分为参照光束和测试光束并引起参照光束和透过测试对象的测试光束之间的干涉来测量参照光束和测试光束之间的相位差。通过基于参照对象的相位折射率相对于波长的斜率计算与相位差中包括的2π的整数倍对应的值来计算测试对象的相位折射率。
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公开(公告)号：CN104914071A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201510109857.1
申请日：2015-03-13
申请人： 佳能株式会社
发明人： 加藤正磨
CPC分类号： G01M11/0271 , G01M11/025
摘要： 公开了折射率分布测量方法、测量装置及制造光学元件的方法。一种折射率分布测量方法包括以下步骤：测量被检物的透射波阵面，基于透射波阵面的测量结果确定被检物的第一折射率分布，基于与被检物的第二折射率分布相关的信息确定透射波阵面的光的透射方向上的第三折射率分布，及基于第一折射率分布和第三折射率分布计算被检物的三维折射率分布。
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公开(公告)号：CN104903678A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201380062841.9
申请日：2013-11-22
申请人： QED技术国际股份有限公司
CPC分类号： G01M11/005 , G01M11/025 , G01M11/0271
摘要： 一种用于测量非球面光学表面的仪器，包括：光学波前传感器和单点光学轮廓测定仪这两者。所述光学波前传感器测量在非球面测试表面的一个或者多个区上的表面高度变化。所述单点轮廓测定仪测量沿着所述非球面测试表面上的一条或者多条轨迹的表面高度变化。至少一条所述轨迹与至少一个所述区相交，并且，通过使所述区和轨迹之间的名义上的重合点之间的差值最小化，将用于所述轨迹和区的各自的空间参照系彼此相对地适配。
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