公开(公告)号：CN119836452A

公开(公告)日：2025-04-15

申请号：CN202380067358.3

申请日：2023-09-07

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 荒木正

IPC: C08L83/07 ,  C08J3/20 ,  C08K3/28 ,  C08K3/36 ,  C08K5/14 ,  C08K5/17 ,  C08K5/5419 ,  C08K5/5445 ,  C08K9/06 ,  C08L83/05

Abstract: 本发明中提供一种混炼型硅橡胶复合物，其包含：(A)有机聚硅氧烷生胶；(B)比表面积为50~450m2/g的强化性二氧化硅；(C)下述通式(1)所示的有机烷氧基硅烷的部分水解物；及(D)选自下述(D1)~(D3)中的一种以上的缩合反应用催化剂：(D1)1013hPa下的沸点为30~60℃且25℃下为液体的胺化合物、(D2)下述通式(2)所示的六有机二硅氮烷、(D3)1.0~30.0质量%的氨水。由此，提供即使在比较低硬度的混炼型硅橡胶复合物中，也具有较高可塑度的混炼型硅橡胶复合物、混炼型硅橡胶组合物、及混炼型硅橡胶组合物的制备方法。RSi(OR1)3(1)R23SiNHSiR23(2)

公开(公告)号：CN119805860A

公开(公告)日：2025-04-11

申请号：CN202411399343.X

申请日：2024-10-09

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  藤原敬之

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C07D333/76 ,  C07C381/12 ,  C07C25/18 ,  C07C311/51 ,  C07C311/04 ,  C07C311/48 ,  C07C311/24 ,  C07C311/29

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位或β位具有氟原子或三氟甲基的磺酸阴离子结构及与该具有碘原子或溴原子的芳香族基团经由碳数1以上的连接基团进行键结的磺酰亚胺阴离子结构或磺酰胺阴离子结构的2价阴离子、以及鎓阳离子。

公开(公告)号：CN119790105A

公开(公告)日：2025-04-08

申请号：CN202380062469.5

申请日：2023-08-17

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 酒匈隆介 ,  茂木美希 ,  山根祐治

IPC: C08L71/02 ,  C08G65/336 ,  C09K3/18

Abstract: 含有以特定比例包含(A)下式(1)的聚合物和/或其部分(水解)缩合物和(B)下式(2)的聚合物和/或其部分(水解)缩合物的含氟组合物的表面处理剂能够形成拒水拒油性、耐磨损性优异、并且滑动性、耐化学品性、耐热性优异的固化覆膜。[Rf为式(3)的基团，(W为包含H的氟亚烷基，d为1～6，p、q、r、s、t、u、v为0～450，p～v的合计为10～450。)，Rf'为氟烷基，A为式(4)的基团。(B为单键或二价的基团，V为3～8价的基团，R'为H、OH、烷基、苯基、含有氧亚烷基的基团、烷氧基或卤素，U为单键或二价的基团，Z为单键或3～8价的基团，Y为二价的基团，R为烷基或苯基，X为OH或水解性基团，n为1～3，m为1～7，β为1～6，γ为0或1，δ为0～6。)]Rf'OCF2CF2O—Rf‑A(1)Rf'OCF2O‑Rf‑A(2)#imgabs0#

公开(公告)号：CN113968786B

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202110821853.1

申请日：2021-07-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 渡部友博 ,  金生刚 ,  山下美与志

IPC: C07C69/757 ,  C07C67/313 ,  C07C69/593

Abstract: 本发明提供一种制备以下通式(2)的化合物的方法：其中R1表示具有1至10个碳原子的一价烃基，且R3表示氢原子或甲基基团，所述方法包括：使以下通式(1)的化合物：其中R1和R2彼此独立地表示具有1至10个碳原子的一价烃基，R3表示氢原子或甲基基团，且波浪键表示E‑构型、Z‑构型或其混合物，在碱的存在下进行狄克曼缩合反应以形成所述化合物(2)。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119654581A

公开(公告)日：2025-03-18

申请号：CN202380060513.9

申请日：2023-08-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 野岛义弘 ,  青木伸司 ,  鸢岛一也

IPC: G02B5/20 ,  C08G77/04 ,  C09D11/30 ,  C09K11/08

Abstract: 本发明为一种油墨组合物，其为包含量子点的油墨组合物，其特征在于，其包含使所述量子点与倍半硅氧烷共聚而成的倍半硅氧烷聚合物、或使所述量子点及烷氧基硅烷共聚而成的倍半硅氧烷聚合物。由此，提供一种能够使量子点在高浓度下分散而不凝聚从而包含可靠性高的量子点的油墨组合物。

公开(公告)号：CN119639408A

公开(公告)日：2025-03-18

申请号：CN202411946812.5

申请日：2020-11-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 安田浩之 ,  山口浩一

IPC: C09J171/00 ,  C09J183/08 ,  C09J11/06 ,  C09J7/30

Abstract: 本发明为一种固化性全氟聚醚粘着剂组合物，其含有：100质量份的(A)直链状全氟聚醚化合物，其在一分子中具有至少两个烯基，且在主链中具有包含‑CaF2aO‑所表示的重复单元的全氟聚醚结构；(B)有机硅化合物，其在一分子中具有至少两个键合于硅原子的氢原子；(C)氢化硅烷化反应催化剂；0.05~5质量份的(D)除(B)成分以外的有机硅化合物，其在一分子中具有选自键合于硅原子的氢原子、经由碳原子或碳原子及氧原子而键合于硅原子的环氧基、以及经由碳原子或碳原子及氧原子而键合于硅原子的三烷氧基甲硅烷基中的任意两种以上。由此，能够提供一种固化性全氟聚醚粘着剂组合物，其能够提供密合于基材的橡胶状或凝胶状固化物。

公开(公告)号：CN119630744A

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN202380057300.0

申请日：2023-07-26

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 滨岛优太

IPC: C08L83/08 ,  A61K8/898 ,  A61Q5/00 ,  C08L71/02 ,  D06M15/643

Abstract: 氨基改性有机硅乳液组合物，其含有：(A)为特定的氨基当量、八甲基环四硅氧烷含量为5000ppm以下的氨基改性有机硅：100质量份；(B)25℃下的粘度为10～230mPa·s、氨基当量为500～3000g/mol的氨基改性有机硅，八甲基环四硅氧烷含量为5000ppm以下：0.5～20质量份；(C)非离子性表面活性剂：5～100质量份；(D)水：10～2000质量份，八甲基环四硅氧烷的含量少，保存及稀释稳定性优异，进而通过在毛发化妆料中配合，赋予滑动性、触感等优异的使用感。

公开(公告)号：CN119613298A

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN202411270307.3

申请日：2024-09-11

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  渡边聪 ,  小竹正晃 ,  松泽雄太 ,  增永惠一

IPC: C07C309/42 ,  C07C381/12 ,  C07D307/93 ,  C07D493/18 ,  C07D327/04 ,  C07D495/18 ,  C07D513/18 ,  C07D275/06 ,  C07D491/18 ,  C07D327/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可产生扩散小的酸的鎓盐、含有其的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种鎓盐，以下式(A)表示。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119585376A

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202380055176.4

申请日：2023-07-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 吉井良介 ,  樋口浩一

IPC: C09D133/00 ,  B05D1/36 ,  B05D5/00 ,  B05D7/24 ,  B32B27/18 ,  C09D5/00 ,  C09D7/62 ,  C09D133/04 ,  C09D183/04

Abstract: 提供底漆组合物，其含有：(A)(A‑1)包含由下述式表示的结构单元、不含规定的紫外线吸收性基团的共聚物(R1表示氢原子等，R2表示一价烃基等，R4表示氢原子等，R5和R6表示烷基等，X2表示亚烷氧基羰基等，n表示1～3的整数，＊表示与邻接的结构单元的键合。)；(A‑2)不含烷氧基甲硅烷基并且不含规定的紫外线吸收性基团的、具有80℃以上的玻璃化转变温度的乙烯基系(共聚)聚合物；(B)紫外线吸收剂；(C)具有环状受阻胺结构的化合物；(D)中值直径为100nm以下的无机粒子；(E)溶剂，其中，质量比(A‑1)：(A‑2)为3：1～1：3。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119528853A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202411179162.6

申请日：2024-08-27

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 小林直贵 ,  长町伸宏 ,  郡大佑 ,  石绵健汰

IPC: C07D303/32 ,  C07D305/06 ,  C07D309/06 ,  C07C31/20 ,  C07C59/347 ,  C07C63/64 ,  C07C65/03 ,  C07F7/08 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明的课题是，以提供在半导体装置制造步骤中的微细图案化流程中，可获得良好的图案形状，且给予具有与抗蚀剂上层膜的高密接性且抑制微细图案的崩塌的抗蚀剂中间膜的含金属的形成用化合物、使用了该化合物的含金属的形成用组成物、使用了该组成物的图案形成方法为目的。本发明的解决手段是，一种含金属的膜形成用化合物，其特征在于，该含金属的膜形成用化合物具有选自于由Ti、Zr、及Hf构成的群组中的至少1种的金属原子、及配位于该金属原子的含有碳数2～13的环状醚结构的多齿配位子。