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公开(公告)号：CN119493328A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202411118547.1
申请日：2024-08-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 作为包括含有钌(Ru)的保护膜的反射型掩模坯料，通过包括基板、多层反射膜、保护膜、吸收膜和在保护膜和吸收膜之间的含有铌(Nb)且不含钌(Ru)的蚀刻阻止膜的反射型掩模坯料来提供反射型掩模坯料，其中保护膜难以受损并可抑制厚度的降低。
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公开(公告)号：CN113825636B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202080033736.2
申请日：2020-05-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: B32B27/00 , C08F290/14 , C08G77/20
Abstract: 本发明的目的在于提供一种放射线硬化性有机聚硅氧烷组合物、硬化物以及剥离片，所述放射线硬化性有机聚硅氧烷组合物可提供与具有现有的含有含(甲基)丙烯酰基的自由基聚合性有机聚硅氧烷的组合物的硬化物的剥离片相比，更轻剥离且具有高的基材密接性的剥离片。一种放射线硬化性有机聚硅氧烷组合物，含有下述(A)成分、(B)成分及(C)成分。(A)下述式(1)所表示的有机聚硅氧烷、(B)在一分子中具有两个以上丙烯酸基的化合物：相对于所述(A)成分100质量份为0.1质量份～50质量份、及(C)自由基聚合引发剂：相对于所述(A)成分100质量份为0.1质量份～15质量份。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111308851B
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN201911264530.6
申请日：2019-12-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/26
Abstract: 本发明涉及一种光掩模坯料和制造光掩模的方法。该光掩模坯料用于在通过具有波长为至多250nm的曝光光的图案转印中使用的光掩模的材料，包括透明衬底、在衬底上直接形成的或者以在透明衬底和含铬膜之间插入光学膜的方式形成的含铬膜。含铬膜包括区域(A)，所述区域(A)由含有铬、氧和碳的铬化合物组成，其中在铬化合物中含有的每种元素的含量在区域(A)的厚度方向上连续变化，并且朝向衬底，铬含量提高并且碳含量降低。
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公开(公告)号：CN119403531A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202380048726.X
申请日：2023-06-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 微粒无机粉体的分散体，是含有下述(a)～(c)成分的分散体，(c)成分在(b)成分中溶解：(a)采用透射型电子显微镜照片的图像解析法得到的个数平均一次粒径为10～200nm的疏水化处理过的微粒无机粉体：10～70质量％，(b)具有一个以上的醇羟基的水性成分：1.0～30质量％，(c)聚甘油改性有机硅：1.0～20质量％，在水系介质中的分散性优异，分散稳定性高。
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公开(公告)号：CN119371289A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202410988827.1
申请日：2024-07-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 福岛将大
IPC: C07C33/34 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F1/24 , C07C35/21 , C07C33/36 , C07C43/168 , C07C69/16 , C08F212/14 , C08F232/08 , G03F7/038 , G03F7/004 , C08F220/30
Abstract: 本发明涉及单体、聚合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，及一种抗蚀剂图案形成方法，该化学增幅负型抗蚀剂组成物会提升图案形成时的分辨率，且可以获得LER、图案忠实性及剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案。本发明的解决手段是下式(A1)表示的单体、包含来自该单体的重复单元的聚合物、及包含含有该聚合物的基础聚合物的化学增幅负型抗蚀剂组成物。#imgabs0#
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113227306B
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN201980086246.6
申请日：2019-11-21
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 森圣矢
Abstract: 采用表面处理剂、优选包含含有亲油性基团和与基材具有密合性的官能团的有机硅烷或有机硅氧烷化合物的表面处理剂进行表面处理而成、该表面处理剂层的油酸接触角为20°以下的光学构件具有优异的亲油性，在油污附着的情况下也不丧失透明性。
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公开(公告)号：CN119361550A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202411473628.3
申请日：2018-01-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: H01L23/373 , C08J7/04 , C08L79/08 , C09D183/07 , C09D183/06 , C09D183/04 , C09D7/61 , H01L21/48
Abstract: 在富于耐热性、电绝缘性和机械强度的芳族聚酰亚胺等的合成树脂膜层的两面或单面层叠了导热性有机硅组合物的固化物层的导热性片材中，通过该导热性有机硅组合物含有包含粘接性赋予剂的有机硅化合物成分和相对于该有机硅化合物成分100质量份为250～600质量份的DOP吸油量为80ml/100g以下的非球状的导热性填充材料，从而能够通过连续成型制造具有高导热性、高绝缘性、牢固的层间粘接性、进而不发生使用时的脆化的导热性片材。
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公开(公告)号：CN119335814A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202410957522.4
申请日：2024-07-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及光学光刻用涂布材料、抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供包含不具有全氟烷基结构的表面活性剂的光学光刻用涂布材料、涂布后膜的平坦性优良，不仅涂布后连显影后的缺陷产生亦少的抗蚀剂材料、及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种光学光刻用涂布材料，包含0.0001～3质量％由具有经氟原子取代的芳香族基、三氟甲氧基、二氟甲氧基、三氟甲硫基或二氟甲硫基的树脂构成的表面活性剂。
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公开(公告)号：CN119307100A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202410926780.6
申请日：2024-07-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及超声波偶联材料组成物、超声波偶联材料膜、及超声波检查方法。本发明的课题为包埋肌肤的凹凸而超声波传递性及感度高及生物相容性(biocompatibility)优良，为轻量且能以低成本制造超声波偶联材料膜。该课题的解决手段为一种超声波偶联材料组成物，含有(A)聚硅氧粘着剂及(B)不具交联点的硅油，其中，该(A)成分为于25℃的粘度为100,000mPa·s以上的二有机基团聚硅氧烷(a)与含有MQ树脂及有机溶剂的树脂组成物(b)的混合物或缩合反应产物，该(B)成分为于25℃的动态粘度落在10～100000mm2/s的范围的不具交联点的硅油。
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公开(公告)号：CN119301315A
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202380044300.7
申请日：2023-03-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 久保田芳宏
IPC: C30B29/38 , C30B25/18 , H01L21/205
Abstract: 提供了一种III族氮化物单晶基板的制造方法，该方法可以缩短器件的制造时间，并且可以抑制器件制造期间的裂纹和特性劣化。该III族氮化物单晶基板的制造方法包括执行以下：准备包括氮化物陶瓷的支承基板的支承基板准备步骤；在支承基板的上表面上设置平坦化层的平坦化层形成步骤；在平坦化层的上表面设置晶种层的晶种层形成步骤；在晶种层的上表面上外延生长目标III族氮化物单晶来形成复合基板的外延成膜步骤；和除去平坦化层和晶种层中的至少一者从而将由III族氮化物单晶制成的III族氮化物单晶基板与复合基板的剩余部分分离的分离步骤。
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