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公开(公告)号：CN103715048A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201310685659.0
申请日：2013-12-16
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/244 , H01L21/66
Abstract: 本发明公开了一种离子注入机竖直方向离子束角度测控系统及测量方法，测控系统包括法拉第筒，所述法拉第筒与固定杆一端固定连接，所述固定杆另一端与一根垂直于所述固定杆的连接杆固定连接，所述连接杆与能带动所述连接杆轴向转动的传动装置连接；所述传动装置与驱动电机的输出轴连接；所述固定杆与连接杆连接处安装有用于测量所述固定杆与水平面夹角的旋转编码器；所述驱动电机、旋转编码器均与运动控制器电连接；所述运动控制器通过束流实时测量控制器与所述法拉第筒电连接。本发明的测控系统结构简单，测量可靠；本发明的方法能精确检测离子注入机的离子束在竖直面的束角度，从而保证注入工件的离子束注入角度精确可测可控。
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公开(公告)号：CN102719805A
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201210118106.2
申请日：2012-04-21
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: C23C16/44
Abstract: 本发明公开了一种用于PECVD设备的炉门机构，为了解决石英管的密封问题，本发明包括两个双作用气缸，一个底座，一连杆，一个炉门法兰，两个导轨。其中两个双作用气缸实现炉门法兰的开关运动，并且通过炉门法兰和连杆之间的挠性连接来实现简单可靠的真空密封，从而确保设备真空良好和设备的可靠性。
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公开(公告)号：CN109872938B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN201711269543.3
申请日：2017-12-05
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/317 , H01J37/09
Abstract: 本发明公开了一种适用于微纳器件制造的离子注入机，包括依次相连的离子源、质量分析器、束流聚焦电透镜系统、束流静电扫描系统及载片腔室，还包括用于调节束斑形状和和束流大小的光阑组件、以及用于点注入的点注入掩膜板，所述光阑组件包括设于离子源和质量分析器之间的可调光阑、设于质量分析器和束流聚焦电透镜系统之间的限束光阑以及设于束流静电扫描系统和载片腔室之间的终端注入光阑，所述点注入掩膜板位于载片腔室内，所述终端注入光阑和所述点注入掩膜板上开设点注入微孔。本发明具有可简化工艺过程，能够实现微米级的低剂量、高精度注入等优点。
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公开(公告)号：CN109860012B
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201910151233.4
申请日：2019-02-28
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/02 , H01J37/317
Abstract: 本发明公开了一种离子注入机垂直扫描装置，离子注入机包括真空腔室及位于真空腔室内的靶台，垂直扫描装置包括支架、主轴、用于驱动主轴升降的第一驱动机构、以及用于驱动主轴旋转的第二驱动机构，所述真空腔室设于所述支架上，所述主轴上端与所述靶台相连，主轴下端延伸至所述真空腔室外、并与所述第一驱动机构和第二驱动机构相连。本发明具有可减少占用真空工艺腔室空间，避免影响工艺腔室极限真空度等优点。
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公开(公告)号：CN111199859A
公开(公告)日：2020-05-26
申请号：CN201811381277.8
申请日：2018-11-20
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/21 , H01J37/244 , H01J37/317
Abstract: 本发明公开了一种扫描宽带离子束注入机，包括旋转靶盘以及用于形成扫描宽带离子束的扫描宽带离子束形成组件，所述旋转靶盘上设有与旋转靶盘中心重合的环形注入区域，所述环形注入区域内均匀布置有多个晶圆装载区，扫描宽带离子束形成组件形成的扫描宽带离子束的宽度为a、所述环形注入区域的半径为b，则a≥b。本发明具有能够降低在大剂量注入、高产能的应用场景下的晶片表面的温升，满足一些对温度敏感的特殊材料的注入工艺要求的优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109860012A
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201910151233.4
申请日：2019-02-28
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/02 , H01J37/317
Abstract: 本发明公开了一种离子注入机垂直扫描装置，离子注入机包括真空腔室及位于真空腔室内的靶台，垂直扫描装置包括支架、主轴、用于驱动主轴升降的第一驱动机构、以及用于驱动主轴旋转的第二驱动机构，所述真空腔室设于所述支架上，所述主轴上端与所述靶台相连，主轴下端延伸至所述真空腔室外、并与所述第一驱动机构和第二驱动机构相连。本发明具有可减少占用真空工艺腔室空间，避免影响工艺腔室极限真空度等优点。
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公开(公告)号：CN108953616A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201810811928.6
申请日：2018-07-23
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于反应腔室的拉杆结构，包括拉杆、波纹管和驱动单元，拉杆一端位于反应腔室内，另一端位于反应腔室外，波纹管套于拉杆于反应腔室外的一端，波纹管的第二端与反应腔室密封连接，其第一端具有密封套，密封套套于拉杆上，密封套与拉杆之间设有环形密封腔，环形密封腔内于拉杆上依次套有第一密封圈、第一密封压垫、第二密封圈和第二密封压垫，第二密封压垫靠近密封套的外侧，拉杆与密封套的外侧设有用于压紧第二密封压垫的压紧件，驱动单元与密封套连接，并驱动密封套带动拉杆相对反应腔室往复直线移动。本发明将拉杆的密封由现有技术中的滑动密封转变为第一密封圈和第二密封圈的静态密封，密封效果好，对密封圈磨损小，稳定可靠。
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公开(公告)号：CN107585562A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201710841848.0
申请日：2017-09-18
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: B65G47/90
Abstract: 本发明公开了一种石墨舟夹持机构，包括安装基板及两组夹持组件，两组夹持组件分设于所述安装基板两端，所述安装基板两端对应安装有沿安装基板长度方向移动所述夹持组件的转运驱动件，所述夹持组件包括连接件、一对夹爪以及一对夹紧驱动件，一对所述夹紧驱动件与一对所述夹爪一一对应连接，一对所述夹紧驱动件安装于所述连接件上，所述转运驱动件与所述连接件相连。本发明具有结构紧凑可靠，操作方便，效率高，自动化程度高，不影响石墨舟使用寿命等优点。
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公开(公告)号：CN105655217B
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201510921731.4
申请日：2015-12-14
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/08
Abstract: 本发明公开了一种射频偏压供电的磁控溅射金属铝离子源，包括：弧室，作为等离子体生成弧室和阳极，弧室内导入含氟可电离气体；灯丝，作为热阴极灯丝并设置在弧室内，灯丝用来发射电子；氮化铝反射电极，设置在弧室内的一侧，作为铝离子生成源，在阳极与氮化铝反射极间施加来自于射频电源的电压；磁铁，安装在弧室内以产生磁场；引出电极，用来引出铝离子束流；偏压电源，设置在灯丝和弧室之间，电子在偏压电源生成的电场作用下飞向弧室，氟离子在电场作用下加速飞向灯丝。本发明具有结构简单紧凑、成本低廉、效率更高等优点。
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公开(公告)号：CN104538324B
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：CN201410699334.2
申请日：2014-11-27
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明公开了一种离子注入机束水平方向注入角度测控装置及测控方法，测控装置包括束流角度测量装置和注入角度控制装置，束流角度测量装置包括固定阵列法拉第以及能在固定阵列法拉第束流入射的正前方左右移动的移动法拉第杯；注入角度控制装置包括设置在所述固定阵列法拉第和移动法拉第杯之间的、用于吸附晶片的注入晶片靶台、与注入晶片靶台连接的气浮轴，气浮轴底端与气浮轴旋转驱动机构连接。本发明提供了离子注入机水平方向束角度测控装置与方法，使得当通过离子束传输光路的自校正后束水平度仍然达不到注入工艺束水平角度要求时，通过气浮轴旋转驱动机构对注入水平角度进行修正控制，保证水平方向注入角度的精准性，提高注入机的工艺性能。
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