一种运动轴密封装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112709823A

    公开(公告)日:2021-04-27

    申请号:CN201911022834.1

    申请日:2019-10-25

    摘要: 本发明公开了一种运动轴密封装置,包括安装法兰和密封套,所述密封套与运动轴之间设有密封组件,运动轴密封装置还包括两组用于使密封套可随运动轴的位置浮动并保持密封套与安装法兰轴向间距不变的导向副,两组所述导向副对称布置于所述密封套的两侧,所述安装法兰与所述密封套之间连接有柔性密封套管。本发明具有结构简单、成本低、有利于提高可靠性和使用寿命等优点。

    一种用于反应腔室的拉杆结构

    公开(公告)号:CN108953616A

    公开(公告)日:2018-12-07

    申请号:CN201810811928.6

    申请日:2018-07-23

    IPC分类号: F16J15/50 F16J15/52

    摘要: 本发明公开了一种用于反应腔室的拉杆结构,包括拉杆、波纹管和驱动单元,拉杆一端位于反应腔室内,另一端位于反应腔室外,波纹管套于拉杆于反应腔室外的一端,波纹管的第二端与反应腔室密封连接,其第一端具有密封套,密封套套于拉杆上,密封套与拉杆之间设有环形密封腔,环形密封腔内于拉杆上依次套有第一密封圈、第一密封压垫、第二密封圈和第二密封压垫,第二密封压垫靠近密封套的外侧,拉杆与密封套的外侧设有用于压紧第二密封压垫的压紧件,驱动单元与密封套连接,并驱动密封套带动拉杆相对反应腔室往复直线移动。本发明将拉杆的密封由现有技术中的滑动密封转变为第一密封圈和第二密封圈的静态密封,密封效果好,对密封圈磨损小,稳定可靠。

    一种石墨舟夹持机构及三轴搬运机械手

    公开(公告)号:CN107585562A

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201710841848.0

    申请日:2017-09-18

    IPC分类号: B65G47/90

    摘要: 本发明公开了一种石墨舟夹持机构,包括安装基板及两组夹持组件,两组夹持组件分设于所述安装基板两端,所述安装基板两端对应安装有沿安装基板长度方向移动所述夹持组件的转运驱动件,所述夹持组件包括连接件、一对夹爪以及一对夹紧驱动件,一对所述夹紧驱动件与一对所述夹爪一一对应连接,一对所述夹紧驱动件安装于所述连接件上,所述转运驱动件与所述连接件相连。本发明具有结构紧凑可靠,操作方便,效率高,自动化程度高,不影响石墨舟使用寿命等优点。

    一种用于MOCVD反应器的格栅式气体分布装置

    公开(公告)号:CN104264128B

    公开(公告)日:2017-06-16

    申请号:CN201410460642.X

    申请日:2014-09-11

    IPC分类号: C23C16/455

    摘要: 本发明公开了用于MOCVD反应器的格栅式气体分布装置。所述格栅式气体分布装置具有三路单独进气气路,分别为含有第一反应物源材料的气路与含有第二反应物源材料的气路及载气气路。三路气体从格珊式的气体喷嘴进入反应室中,其中载气气路还具有一环形喷气口。其中载气气路形成隔离气帘将含有第一反应源的气体与含有第二反应源的气体隔开,环形的载气喷嘴将反应室内部空间与反应室壁隔开。本发明有效抑制了反应室内部反应物之间的预反应,并且能够减少反应室壁上沉积物的产生。从而提高了反应物源材料的利用率,并且将反应室内部清洗周期大大延长,提高了设备的利用率。

    一种用于MOCVD反应器的晶片载盘及MOCVD反应器

    公开(公告)号:CN103526186B

    公开(公告)日:2016-05-18

    申请号:CN201310327232.3

    申请日:2013-07-31

    IPC分类号: C23C16/458

    摘要: 本发明公开了一种用于MOCVD反应器的晶片载盘及MOCVD反应器。为了最大限度的扩大晶片载盘表面均匀温度场的范围,所述用于MOCVD反应器的晶片载盘包括晶片载盘本体,所述晶片载盘本体的上表面开有用于放置晶片的凹槽,该晶片载盘本体的下表面周缘向下延伸形成环形凸起,使整个晶片载盘呈倒桶状。所述MOCVD反应器具有上述带环形凸起的晶片载盘及相配套的加热器,所述加热器分为内、中、外三部分,并且加热器内圈、外圈呈筒状竖向布置,中圈呈Ω形水平布置。本发明提高了热能量利用效率,并且使加热装置与反应物分开,从而能够更好的保护加热装置,同时,晶片载盘表面温度一致性的区域扩大,从而提高了单批次产量。

    一种用于金属有机化学气相沉积反应器的斜入式气体喷淋头

    公开(公告)号:CN102534563A8

    公开(公告)日:2013-02-06

    申请号:CN201210118049.8

    申请日:2012-04-20

    IPC分类号: C23C16/455

    摘要: 一种用于金属有机化学气相沉积反应器的斜入式气体喷淋头,所述斜入式气体喷淋头包括位于反应腔室上方的气体喷射板,该气体喷射板上方设有气体连接板,在气体连接板与气体喷射板之间设有至少两个层叠的气体分布板;所述气体连接板上设置有若干气体接口及冷却液接口,且在该气体分布板及气体喷射板上设置有若干相互隔离的气体通道,所述气体通道包括与相应的气体接口连通的第一前体气体通道、第二前体气体通道和载气通道,以及与冷却液接口连通的冷却液通道。本发明解决了水平式反应器中存在的沿气流方向反应物耗尽的问题,同时也避免了垂直式反映器中不容易形成稳定层流的缺点。

    一种工件台及其传片方法

    公开(公告)号:CN108858088B

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN201810614524.8

    申请日:2018-06-14

    IPC分类号: B25H1/14 B25J11/00

    摘要: 一种工件台,包括基片台组件、旋转驱动机构、托片组件、下推机构以及上推机构,基片台组件上设有带动托片组件同步旋转的同步组件,基片台组件的基片台朝下布置,托片组件包括托片环并位于基片台下方,托片环上设有缺口。其传片方法包括步骤:下推机构推动托片组件下移;传片机械手将基片输送至托片环与基片台之间且与缺口对准;下推机构上移,上推机构带动托片组件上移,托片环将基片取走并继续向上移动将基片夹紧在托片环与基片台之间;传片机械手移动至托片组件下方并与缺口对准;下推机构推动托片组件下移,托片环经过传片机械手后,基片与托片环分离并落于传片机械手上。本发明具有能够避免膜层颗粒掉落至基片表面,基片传送方便等优点。

    一种用于反应腔室的拉杆结构

    公开(公告)号:CN108953616B

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN201810811928.6

    申请日:2018-07-23

    IPC分类号: F16J15/50 F16J15/52

    摘要: 本发明公开了一种用于反应腔室的拉杆结构,包括拉杆、波纹管和驱动单元,拉杆一端位于反应腔室内,另一端位于反应腔室外,波纹管套于拉杆于反应腔室外的一端,波纹管的第二端与反应腔室密封连接,其第一端具有密封套,密封套套于拉杆上,密封套与拉杆之间设有环形密封腔,环形密封腔内于拉杆上依次套有第一密封圈、第一密封压垫、第二密封圈和第二密封压垫,第二密封压垫靠近密封套的外侧,拉杆与密封套的外侧设有用于压紧第二密封压垫的压紧件,驱动单元与密封套连接,并驱动密封套带动拉杆相对反应腔室往复直线移动。本发明将拉杆的密封由现有技术中的滑动密封转变为第一密封圈和第二密封圈的静态密封,密封效果好,对密封圈磨损小,稳定可靠。