公开(公告)号：CN104395823A

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：CN201380032350.X

申请日：2013-06-18

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 山﨑健太 ,  疋田政宪 ,  霜山达也 ,  川岛敬史 ,  山田悟 ,  米泽裕之

IPC: G03F7/004 ,  C08F220/26 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10 ,  H05B33/22

CPC classification number: G03F7/0392 ,  C08F220/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/40 ,  H01L51/0018 ,  H05B33/10 ,  H05B33/22

Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物，其可达成显影时以及用作硬化膜时的与基板的密接性。所述感光性树脂组合物含有：(A)包含满足下述(1)及(2)的至少一个的聚合物的聚合物成分：(1)包括(a1)具有酸基由酸分解性基保护的基团的构成单元、以及(a2)具有交联性基的构成单元的聚合物，(2)包括(a1)具有酸基由酸分解性基保护的基团的构成单元的聚合物、以及包括(a2)具有交联性基的构成单元的聚合物；(B)非离子性光酸产生剂；(C)下述通式(S)所表示的化合物(式中，R1表示包含至少1个以上氮原子的基团，A表示2价连结基，R2表示有机基)；(D)溶剂；以及(E)烷氧基硅烷化合物。

公开(公告)号：CN102361891A

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN201080013130.9

申请日：2010-03-09

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 山田悟

IPC: C08F28/06 ,  B29C39/02 ,  B29C39/38 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00

CPC classification number: G02B1/041 ,  B29C43/02 ,  B29L2011/0016 ,  C08F28/06 ,  G02B7/025 ,  G02B13/0025 ,  G02B13/006 ,  C08L81/00 ,  C08L83/04

Abstract: 本发明提供一种接合型透镜用固化性树脂组合物，其能够制造在回流处理中260℃以上的温度的耐热性和透镜之间的粘附性优异的接合型透镜，并且能够降低透镜的制造成本且能够减轻透镜。接合型透镜用固化性树脂组合物包含：(a)由下式(I)表示的化合物，和(b)自由基聚合引发剂，在式(I)中R1表示氢原子或烷基；并且Z1与两个碳原子和硫原子一起表示环状结构。式(I)

公开(公告)号：CN102043335A

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：CN201010511721.0

申请日：2010-10-15

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 疋田政宪 ,  山田悟 ,  河边保雅

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/00 ,  H01L27/32 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明提供一种保存稳定性、感度和显影边界(显影宽容度)优异的感光性树脂组合物，利用该组合物能够获得透明性和耐溶剂性优异的固化膜。所述感光性树脂组合物的特征在于，其含有(A)共聚物、(B)光产酸剂以及(C)溶剂，所述(A)共聚物含有：具有酚性羟基的单体单元(1)，具有羧基被酸分解性基团保护而成的残基的单体单元、或具有酚性羟基被酸分解性基团保护而成的残基的单体单元(2)，和具有3元环和/或4元环的环状醚残基的单体单元(3)。

公开(公告)号：CN101779169A

公开(公告)日：2010-07-14

申请号：CN200880102463.1

申请日：2008-06-06

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 宇佐美由久 ,  山田悟 ,  佐佐木俊央 ,  铃木博幸 ,  加茂诚

IPC: G03H1/04

CPC classification number: G03H1/0486 ,  G02F1/01 ,  G03H1/02 ,  G03H1/0402 ,  G03H1/14 ,  G03H2001/0232 ,  G03H2001/0264 ,  G03H2001/0491 ,  G03H2001/186 ,  G03H2227/03 ,  G03H2260/12

Abstract: 为了在介质的记录层中记录干涉条纹图案，使多个激光束发生干涉，以在记录层中形成干涉条纹；并且在使多个激光束发生干涉的时间段期间，连续执行以下步骤：(1)产生随记录层中特定位置的移位而变化的信号；以及(2)通过基于在步骤(1)中产生的信号改变至少一个激光束的相位或移动记录层，来使记录层中的条纹形成位置移位。

公开(公告)号：CN115768838B

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN202180045278.9

申请日：2021-06-22

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 山田悟 ,  田村显夫 ,  两角一真 ,  霜山达也

IPC: C08L101/00 ,  H05K3/06 ,  G03F7/004 ,  C08L33/16 ,  C08F290/06

Abstract: 本发明的第1课题在于提供一种涂布性优异的组合物。并且，本发明的第2课题在于提供一种与上述组合物有关的转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法及电子器件的制造方法。本发明的组合物包含：化合物A，具有选自(a)、(b)及(c)中的1个以上的特定结构；及树脂。(a)全氟烯基(b)全氟聚醚基(c)由通式(C1)或通式(C2)表示的基团*‑Cm+Am‑[‑Lm‑(Rf)m2]m1(C1)*‑An‑Cn+[‑Ln‑(Rf)n2]n1(C2)。

公开(公告)号：CN115916529A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202180051325.0

申请日：2021-08-20

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 山田悟 ,  两角一真 ,  丰冈健太郎

IPC: B32B27/00

Abstract: 本发明的第1课题为提供一种能够形成分辨率优异的抗蚀图案的转印膜。并且，本发明的第2课题为提供一种能够形成表面形态性优异的树脂图案的转印膜。进而，本发明的第3课题为提供一种使用了上述转印膜的、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法及电子器件的制造方法。本发明的转印膜为具有临时支承体、在上述临时支承体上配置的组合物层，上述组合物层包含感光性树脂层及水溶性树脂层，该转印膜依次层叠上述临时支承体、上述水溶性树脂层及上述感光性树脂层而成，或者依次层叠上述临时支承体、上述感光性树脂层及上述水溶性树脂层而成，上述水溶性树脂层包含具有下述通式(1)所表示的基团的化合物A。通式(1)：*‑CF2‑H；式中，*表示键合位置。

公开(公告)号：CN115884875A

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN202180050843.0

申请日：2021-08-19

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 山田悟 ,  野副宽 ,  两角一真

IPC: B32B27/28

Abstract: 本发明提供一种不易产生图案外观不良的转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法及电子器件的制造方法。本发明的转印膜具有临时支承体及在临时支承体上配置的树脂组合物层，树脂组合物层包含：树脂；及选自嵌段共聚物及式(1)所表示的化合物中的至少一个化合物，该嵌段共聚物包含：包含具有式(A)所表示的基团或式(B)所表示的基团的结构单元X的嵌段及包含具有聚(氧化烯)基的结构单元Y的嵌段。

公开(公告)号：CN114846402A

公开(公告)日：2022-08-02

申请号：CN202080087620.7

申请日：2020-12-15

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 植木启吾 ,  福重裕一 ,  丰冈健太郎 ,  松田知树 ,  山田悟

IPC: G03F7/004 ,  B32B27/00 ,  B32B27/18 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  G03F7/11 ,  B32B15/08 ,  H01B1/00 ,  H01B1/22 ,  H01B5/14 ,  H01B13/00 ,  B32B7/023 ,  B32B33/00 ,  G06F3/041 ,  G06F3/044

Abstract: 本发明提供一种具有临时支承体及包含粘合剂聚合物以及具有选自金属还原性基团及金属配位性基团中的至少1种基团的化合物A的感光性层的感光性转印材料及其制造方法、以及使用了上述感光性转印材料的带图案的金属导电性材料的制造方法、具有金属及包含上述化合物A的树脂层的膜及具有上述膜的触控面板、以及在具有金属和树脂层的膜中上述树脂层包含上述化合物A的劣化抑制方法。

公开(公告)号：CN114207525A

公开(公告)日：2022-03-18

申请号：CN202080055251.3

申请日：2020-06-30

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 松田知树 ,  石坂壮二 ,  片山晃男 ,  山田悟

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H05K3/06 ,  G06F3/041

Abstract: 本发明的课题在于提供一种因曝光后延迟所导致的图案线宽的变动较少且所形成的图案的分辨率也优异的感光性转印部件。并且，本发明的另一课题在于提供一种使用上述感光性转印部件而成的树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法。本发明的感光性转印部件具有临时支承体及感光性树脂层，所述感光性转印部件中，上述感光性树脂层含有聚合物X及聚合物Y中的任一种以上及光产酸剂，上述聚合物X含有具有被酸分解性基团保护的酸基的结构单元A及具有3元环或4元环的醚骨架的结构单元B，上述聚合物Y含有具有被酸分解性基团保护的酸基的结构单元A、具有3元环或4元环的醚骨架的结构单元B及具有碱性基团的结构单元C，上述感光性树脂层中的具有上述3元环或4元环的醚骨架的结构单元B的含量相对于上述感光性树脂层的总质量为8.0～700.0μmol/g。其中，在上述感光性树脂层含有上述聚合物X的情况下，上述感光性树脂层还含有碱性化合物。

公开(公告)号：CN111712763A

公开(公告)日：2020-09-25

申请号：CN201980013099.X

申请日：2019-02-15

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 松田知树 ,  山田悟 ,  石坂壮二

IPC: G03F7/004 ,  C08F20/18 ,  G03F7/023 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/38 ,  G06F3/041 ,  H05K3/06

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂图案的制造方法以及包括上述抗蚀剂图案的制造方法的电路基板的制造方法及触摸面板的制造方法，所述抗蚀剂图案的制造方法包括：使具有临时支承体和包含聚合物及光产酸剂的正型感光性树脂层的转印材料的、以上述临时支承体为基准而言的上述正型感光性树脂层侧的最外层与基板接触而贴合至上述基板上的工序；对上述贴合工序后的上述正型感光性树脂层进行加热的工序；对上述加热工序后的上述正型感光性树脂层进行图案曝光的工序；及对经上述图案曝光的上述正型感光性树脂层进行显影的工序。