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公开(公告)号：CN113678062A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027370.8
申请日：2020-03-24
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光性转印材料、以及使用了上述转印材料的树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法，所述感光性转印材料依次具有临时支承体、热塑性树脂层、中间层及负型感光性层，上述热塑性树脂层含有：碱溶性树脂A；色素B，显色时的波长范围400nm～780nm中的最大吸收波长为450nm以上，通过酸、碱或自由基而最大吸收波长发生变化；及化合物C，通过光产生酸、碱或自由基。
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公开(公告)号：CN111684359A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201980011644.1
申请日：2019-02-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 一种感光性转印材料、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法，依次具有临时支承体、中间层及抗蚀剂层，中间层含有(A)成分：显色时的波长范围400nm～780nm的极大吸收波长为450nm以上且极大吸收波长通过酸、碱或自由基产生变化的色素。
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公开(公告)号：CN105917274A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201480052174.0
申请日：2014-09-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种可使耐化学品性良好、相对介电常数降低、进而使图案的尺寸稳定性良好的感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶显示装置及有机EL显示装置。本发明的感光性树脂组合物含有(A)聚合物成分、(B)光酸产生剂、以及(C)溶剂，(A)聚合物成分包含下述(1)及(2)的至少一个：(1)含有(a1)具有酸基经酸分解性基保护的基团的结构单元、及(a2)具有交联性基的结构单元的聚合物(A1)，及(2)含有结构单元(a1)的聚合物(A2)、及含有结构单元(a2)的聚合物(A3)；且(3)聚合物(A1)～聚合物(A3)的至少一种为含有(a4)具有通过碱水解而产生羧基的基团的结构单元的聚合物，或(4)进而含有具有结构单元(a4)且不具有结构单元(a1)及结构单元(a2)的聚合物(A4)；相对于构成(A)聚合物成分的所有结构单元，结构单元(a2)的比例为10摩尔％～40摩尔％，结构单元(a4)的比例为1.0摩尔％～20摩尔％。
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公开(公告)号：CN115685672A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202210805407.6
申请日：2022-07-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种分辨性优异、能够形成无卷边的抗蚀图案且容易进行抗蚀图案的剥离的转印膜。一种转印膜，其具有：临时支承体；及感光性组合物层，其包含碱溶性聚合物、聚合性化合物及聚合引发剂，碱溶性聚合物包含具有羧基的结构单元A和具有显示出高于羧基的pKa且低于14的pKa的酸基的结构单元B，碱溶性聚合物的源自羧基的酸值为80mgKOH/g以上。
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公开(公告)号：CN112136081A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201980033557.6
申请日：2019-05-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光性转印材料及其应用，该感光性转印材料具有：临时支承体；及感光性树脂层，其含有聚合物、光产酸剂及苯并三唑化合物，所述聚合物包含具有酸基被酸分解性基团保护的基团的结构单元，且玻璃化转变温度为90℃以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104380195B
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201380032035.7
申请日：2013-06-26
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的图案形成方法包括：(i)形成包含光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有由以下所示的通式(I)表示的化合物(A)；能够通过酸的作用降低对包含有机溶剂的显影液的溶解度的树脂(P)；以及能够通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物(B)；(ii)用光化射线或放射线照射所述膜；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将用所述光化射线或放射线照射的所述膜显影。RN‑A‑X+ (I)
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公开(公告)号：CN104583869A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380044148.9
申请日：2013-08-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/30 , C07C381/12 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/26 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/0274
Abstract: 本发明提供了一种图案形成方法，所述方法包括：通过使用放射线敏感或光化射线敏感树脂组合物形成膜，该组合物含有：(A)在阳离子部分中含有氮原子的盐化合物；(B)能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物；和(C)能够通过酸的作用增加极性而降低在含有有机溶剂的显影液中的溶解度的树脂，将所述膜曝光；以及通过使用含有有机溶剂的显影液将所曝光的膜显影，以形成阴图式图案。
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公开(公告)号：CN104583866A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380045257.2
申请日：2013-08-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D279/12 , C07D327/06 , C07D411/04 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/027 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C311/09 , C07C323/21 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D217/02 , C07D217/08 , C07D279/12 , C07D285/15 , C07D295/067 , C07D295/26 , C07D319/14 , C07D327/02 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D339/08 , C07D411/04 , C07D413/04 , C07D417/04 , C07D493/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30
Abstract: 提供了一种光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物，其含有由式(1)表示的化合物：其中R1表示多环芳族基团或多环杂环芳族基团，R2表示(n+2)价的饱和的烃基，R3表示(m+2)价的饱和的烃基，R4和R5各自独立地表示取代基，Q表示含有杂原子的连接基团，m和n各自独立地表示0至12的整数，当n为2以上时，多个R4可以是相同的或不同的，多个R4可以相互连接与R2一起形成非芳族环，当m为2以上时，多个R5可以是相同的或不同的，且多个R5可以相互连接与R3一起形成非芳族环，且X-表示非亲核阴离子。
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公开(公告)号：CN112136081B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN201980033557.6
申请日：2019-05-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光性转印材料及其应用，该感光性转印材料具有：临时支承体；及感光性树脂层，其含有聚合物、光产酸剂及苯并三唑化合物，所述聚合物包含具有酸基被酸分解性基团保护的基团的结构单元，且玻璃化转变温度为90℃以下。
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公开(公告)号：CN112204467B
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN201980034172.1
申请日：2019-05-10
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 一种感光性转印材料以及使用了上述感光性转印材料的树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法，上述感光性转印材料具有临时支承体及感光性树脂层，上述感光性树脂层包含满足下述a1及a2中的至少一个的聚合物成分以及光产酸剂，上述聚合物成分的玻璃化转变温度为90℃以下。a1：包含聚合物的聚合物成分，该聚合物具有包含被酸分解性基团保护的酸基的结构单元及包含pKaH为3以上的基团的结构单元；a2：聚合物成分，其包含：具有包含被酸分解性基团保护的酸基的结构单元的聚合物以及具有包含pKaH为3以上的基团的结构单元的聚合物。
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